Dentalimplantat und Strahlmittel

Beschreibung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Dentalimplantats gemäß Patentanspruch 1. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Dentalimplantat, das gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt ist. Ferner betrifft die Erfindung ein Strahlmittel zur Verwendung in einem erfindungsgemäßen

Verfahren.

Es ist bekannt, Dentalimplantate, insbesondere Dentalimplantatbauteile, wie zum Beispiel Verankerungsstifte und/oder Abutments, aus einem derartigen Material zu fertigen, die im Zusammenhang mit einem optimalen Knochenwachstum stehen, d.h., dass die Dentalimplantatbauteile aus einem derartigen Material gefertigt werden, dass diese optimal in den Kieferknochen einwachsen können.

Des Weiteren ist es bekannt, die Oberflächen von Dentalimplantatbauteilen aufzurauen. Derartig aufgeraute Oberflächen verbessern ebenfalls die

Osteogenese.

Es ist bekannt, derartiges Aufrauen mittels Sandstrahlen durchzuführen.

Anschließend wird die Oberfläche aufwendig gereinigt, so dass Strahlmittel- Partikel von der die Osteogenese optimal fördernden Oberfläche größtenteils entfernt werden.

Aus dem Vorgenannten wird klar, dass der bislang bekannte Stand der Technik hinsichtlich optimierter Verfahren zum Herstellen von Dentalimplantaten mehrere Nachteile aufweist.

Beispielsweise ist bereits bei der Formung des Dentalimplantatbauteils auf spezielle Materialien abzustellen, die unter Umständen teuer in der Produktion sind. Das Aufrauen von Oberflächen ist bislang mit dem Nachteil verbunden, dass aufwendige Reinigungsmaßnahmen notwendig werden.

Aus dem Vorgenannten ist es somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein weiterentwickeltes Verfahren zum Herstellen eines Dentalimplantates anzugeben, das die vorgenannten Nachteile des Standes der Technik überwindet.

Des Weiteren soll ein Dentalimplantat angegeben werden, das mittels eines erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt ist.

Ferner ist es Aufgabe der Erfindung ein weiterentwickeltes Strahlmittel anzugeben, das bei einem Verfahren zum Herstellen eines Dentalimplantates verwendet werden kann.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe im Hinblick auf das Verfahren zum

Herstellen eines Dentalimplantats durch Patentanspruch 1 gelöst.

Im Hinblick auf das Dentalimplantat wird diese Aufgabe durch den Gegenstand des Patentanspruches 8 gelöst.

Im Hinblick auf das Strahlmittel zur Verwendung in einem Verfahren zum

Herstellen eines Dentalimplantats wird diese Aufgabe erfindungsgemäß durch den Gegenstand des Patentanspruches 10 gelöst.

Die Erfindung beruht auf dem Gedanken, ein Verfahren zum Herstellen eines Dentalimplantats anzugeben, das die folgenden Schritte umfasst: a) Bereitstellen eines Dentalimplantat-Grundkörpers, insbesondere eines Verankerungsstift-Grundkörpers; b) Strahlen mindestens eines Oberflächenabschnitts, der mit einer das

Knochenwachstum fördernden Oberfläche auszubilden ist, und zumindest abschnittsweises Aufbringen von Strahlmittel auf den

Oberflächenabschnitt; c) höchstens teilweises Entfernen des Strahlmittels von dem Oberflächenabschnitt; d) Sintern des Dentalimplantat-Grundkörpers zusammen mit dem auf dem Oberflächenabschnitt verbliebenen Strahlmittel.

Mit anderen Worten wird zunächst ein Grundkörper eines Dentalimplantats zur Verfügung gestellt. Bei dem Grundkörper kann es sich um den Grundkörper eines Verankerungsstiftes handeln.

Der Grundkörper kann beispielsweise als Oxidkeramik-Grünkörper, insbesondere als Zirkonoxid-Grünkörper, ausgebildet sein. Vorzugsweise kann dieser

Grundkörper ein Übermaß zur Kompensation einer Schrumpfung während etwaiger Sinter- oder Brennvorgängen aufweisen.

Vor dem Schritt b) kann mindestens ein Oberflächenabschnitt bestimmt oder festgelegt werden, der mit einer, das Knochenwachstum fördernden Oberfläche auszubilden ist.

Aufgrund des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es möglich, lediglich einen Abschnitt oder lediglich Abschnitte der Oberfläche des Dentalimplantat- Grundkörpers mit einer das Knochenwachstum fördernden Oberfläche

auszubilden. Es ist aufgrund des zur Verfügung gestellten Verfahrens nicht notwendig, die gesamte Oberfläche des Dentalimplantats mit einer das

Knochenwachstum fördernden Oberfläche auszubilden. Allerdings kann auch die gesamte Oberfläche des Dentalimplantats mit einer das Knochenwachstum fördernden Oberfläche ausgebildet werden.

Es kann beispielsweise die gesamte äußere Oberfläche des Grundkörpers des Dentalimplantats mit einer derartigen das Knochenwachstum fördernden

Oberfläche ausgebildet werden.

Zur Ausbildung dieser, das Knochenwachstum fördernden Oberfläche wird der Oberflächenabschnitt gestrahlt. Aufgrund des Strahlens im Sinne eines

Sandstrahlens, wird der Oberflächenabschnitt mit einer Oberflächenrauigkeit ausgebildet, die das Knochenwachstum, d.h. die Osteogenese, fördert. Zusätzlich zur Ausbildung einer Oberflächenrauigkeit wird außerdem zumindest abschnittsweise auf dem zu bearbeitenden Oberflächenabschnitt ein Strahlmittel aufgebracht.

Das während des Strahlens des Oberflächenabschnitts aufgetragene Strahlmittel schlägt auf dem Oberflächenabschnitt ein. Das eingeschlagene Strahlmittel verbleibt, vorzugsweise größtenteils, besonders bevorzugt vollständig, auf der Oberfläche.

Im Schritt b) wird eine Oberfläche mit einer das Knochenwachstum fördernden Rauigkeit hergestellt, wobei zusätzlich Partikel des Strahlmittels als

knochenwachstumsfördernde Oberfläche dienen.

Im Schritt c) wird das aufgebrachte Strahlmittel höchstens teilweise von dem Oberflächenabschnitt entfernt. Demnach ist es in Schritt c) vorzugsweise nicht vorgesehen, gezielte Reinigungsschritte zum Entfernen des Strahlmittels von dem bearbeiteten Oberflächenabschnitt vorzunehmen. Reinigungsschritte wie

Waschschritte oder Ultraschall-Reinigungen können somit zumindest teilweise entfallen. Ein Kanal eines Verankerungsstiftes sollte beispielsweise nach dem Strahlvorgang trotzdem gereinigt werden. Diese Reinigung kann mit Hilfe eines Ultraschallbads erfolgen.

Vorzugsweise werden im Schritt c) lediglich Schmutz- und/oder Staubpartikel entfernt, jedoch nicht das Strahlmittel. Des Weiteren ist es möglich, dass im Schritt c) eine derartige Reinigung erfolgt, sodass lose Strahlmittel-Partikel entfernt werden. Als lose Strahlmittel-Partikel sind insbesondere derartige Strahlmittel-Partikel zu verstehen, die keine Verbindung mit dem zu

bearbeitenden Oberflächenabschnitt und/oder mit anderen Strahlmittel-Partikeln eingegangen sind.

Im Schritt d) erfolgt ein Sintern des Dentalimplantat-Grundkörpers zusammen mit dem auf dem Oberflächenabschnitt verbliebenen Strahlmittel. Der

Dentalimplantat-Grundkörper wird insbesondere zusammen mit Strahlmittel- Partikeln gesintert, die bereits vor dem Sintern mit der zu bearbeitenden

Oberfläche und/oder mit weiteren Strahlmittel-Partikeln verbunden sind. Diese Verbindung wird aufgrund des im Schritt b) durchgeführten Strahlens erzeugt. Es ist möglich, dass das Dentalimplantat im Schritt d) bei einer Temperatur von 1.300 °C - 1.600 °C, insbesondere von 1.400 °C - 1.550 °C, gesintert/gebrannt wird.

Dabei wir in einem Sinterofen vorzugsweise zunächst ein langsamer

Temperaturanstieg gewählt. Vorzugsweise beträgt der Temperaturanstieg ca.

100 °C pro Stunde. Sobald die Endtemperatur erreicht ist, sollte diese

Temperatur für ca. 0,5 - 4,0 Stunden, insbesondere für 1,0 - 3,0 Stunden, besonders bevorzugt für ca. 2,0 Stunden, gehalten werden. Anschließend kann die Temperaturzufuhr abgestellt werden, wobei das Dentalimplantat bis zur vollständigen Abkühlung im Sinterofen positioniert bleibt. Alternativ ist es möglich, dass die Temperatur im Sinterofen langsam abfällt.

In diesem Schritt findet somit das abschließende Sintern bzw. Brennen des Dentalimplantatbauteils statt. Anschließend kann ein verwendbares

Dentalimplantat, insbesondere ein verwendbarer Verankerungsstift, vorliegen.

Der Materialschrumpf nach dem finalen Sintern, bzw. nach Durchführen des Verfahrensschritts d) beträgt 21 % - 27 %, besonders bevorzugt 25 %. Dieser Materialschrumpf ist im Verfahrensschritt b) zu beachten, da die nach Schritt b) erzielte Rauigkeit des Oberflächenabschnitts aufgrund des Materialschrumpfs abnimmt.

Das Strahlmittel wird im Schritt b) vorzugsweise mit einem Druck von 0,1 bar - 10,0 bar, insbesondere von 1,0 bar - 5,0 bar, besonders bevorzugt von 1,5 bar - 2,5 bar auf den Oberflächenabschnitt aufgebracht.

Vorzugsweise wird zum Aufträgen des Strahlmittels eine Düse mit einem

Düsenquerschnitt von 0,6 mm - 1,5 mm verwendet.

Im Schritt a) wird vorzugsweise ein derartiger Dentalimplantat-Grundkörper bereitgestellt, der vorgesintert/vorgebrannt ist. Mit anderen Worten kann der Schritt a) ein Vorsintern/Vorbrennen des Dentalimplantat-Grundkörpers umfassen.

Der Dentalimplantatbauteil-Grundkörper wird vorzugsweise bei einer Temperatur von 600 °C - 1.100 °C, insbesondere von 700 °C - 900 °C, vorgesintert/ vorgebrannt. Dabei handelt es sich um niedrige Vorsintertemperaturen. Der Grundkörper des Dentalimplantats ist somit im Vergleich zu Grundkörpern aus dem Stand der Technik weicher, so dass das Strahlmittel bzw. Partikel des Strahlmittels einfacher auf den Oberflächenabschnitt aufgetragen werden kann/können.

Der Druck, mit dem das Strahlmittel im Schritt b) auf den Oberflächenabschnitt aufgebracht wird, ist auf Grundlage des bereitgestellten Dentalimplantat- Grundkörpers zu wählen. Je weicher der zu strahlende Oberflächenabschnitt ist, desto geringer kann der Druck bzw. Strahldruck gewählt werden. Die Härte des Oberflächenabschnitts steht im Zusammenhang mit der gewählten

Vorsintertemperatur. Bei einer Vorsintertemperatur von 800 °C ist beispielsweise ein Strahldruck von ca. 1,0 bar zu wählen. Bei einer Vorsintertemperatur von 1.000 °C ist beispielsweise ein Strahldruck von ca. 2,0 bar zu wählen.

Bei dem Strahlmittel kann es sich vorzugsweise um eine Calciumphosphat- Verbindung in Pulverform und/oder eine Hydroxylapatit-Verbindung in Pulverform handeln. Vorzugsweise wird demnach ein Strahlmittel verwendet, das

Calciumphosphat-Pulver und/oder Hydroxylapatit-Pulver umfasst. Des Weiteren ist es möglich, dass das Strahlmittel aus Calciumphosphat-Pulver und/oder

Hydroxylapatit-Pulver besteht.

Es ist möglich, dass vor dem Schritt b) auf den Grundkörper des Dentalimplantats eine Maske aufgebracht wird, so dass die zu strahlenden Oberflächenabschnitte von den nicht zu strahlenden Oberflächenabschnitten klar getrennt sind.

Des Weiteren ist es möglich, eine Strahldüse derart zu positionieren und während des Strahlvorganges zu verfahren, dass lediglich die zuvor bestimmten

Oberflächenabschnitte gestrahlt bzw. gesandstrahlt werden.

Vorzugsweise wird die das Knochenwachstum fördernde Oberfläche eines

Dentalimplantats vollständig vor dem abschließenden Brennen/Sintern hergestellt.

Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, dass keine aufwendigen

Reinigungsvorgänge notwendig sind, obwohl ein Strahlen, im Sinne eines

Sandstrahlens, einer Oberfläche durchgeführt wird. Ein weiterer, insbesondere nebengeordneter, Aspekt der Erfindung betrifft ein Dentalimplant, insbesondere einen Verankerungsstift, das/der nach einem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt ist.

Vorzugsweise weist das Dentalimplantat mindestens einen Oberflächenabschnitt auf, der Calciumphosphat-Partikel und/oder Hydroxylapatit-Partikel aufweist. Die Calciumphosphat-Partikel und/oder die Hydroxylapatit-Partikel sind auf

mindestens einem Oberflächenabschnitt des Dentalimplantats ausgebildet, der als das Knochenwachstum fördernder Oberflächenabschnitt ausgebildet ist.

Vorzugsweise ist auf dem Oberflächenabschnitt des Dentalimplantats eine Schicht ausgebildet, die Calciumphosphat-Verbindungen und/oder Hydroxylapatit- Verbindungen aufweist.

Des Weiteren kann dieser Oberflächenabschnitt eine Rauigkeit aufweisen, die ebenfalls fördernd für das Knochenwachstum, d.h. für eine Osteogenese, ist. Vorzugsweise ist die Rauigkeit des Oberflächenabschnitts mit einer maximalen Rautiefe Ra von 2 pm - 40 pm, insbesondere von 5 pm - 15 pm, ausgebildet.

Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist es möglich, dass der

Verankerungsstift und das Abutment einstückig ausgebildet sind. Dadurch wird ein in ästhetischer Hinsicht optimiertes Dentalimplantatbauteil zur Verfügung gestellt. Außerdem ist die Haltbarkeit eines derartigen Dentalimplantatbauteils erhöht.

Bei der beschriebenen einstückigen Ausbildung eines Verankerungsstifts mit dem Abutment kann das Dentalimplantatbauteil auf der gesamten Oberfläche eine das Knochenwachstum fördernde Oberfläche aufweisen.

Alternativ ist es möglich, dass ein Abschnitt der Oberfläche, der am Abutment ausgebildet ist, keine derartige Oberfläche aufweist, die das Knochenwachstum fördert. Vielmehr ist es vorgesehen, dass ein Oberflächenabschnitt des Abutments eine relativ geringe Rauigkeit aufweist, so dass ein Kronenteil einfach auf das Abutment aufgesetzt bzw. aufgeschoben werden kann. Ein weiterer, insbesondere nebengeordneter, Aspekt der Erfindung betrifft ein Strahlmittel zur Verwendung in einem, insbesondere dem erfindungsgemäßen, Verfahren zum Herstellen eines Dentalimplantats.

Erfindungsgemäß handelt es sich bei dem Strahlmittel um ein Pulver, das eine Calciumphosphat-Verbindung und/oder eine Hydroxylapatit-Verbindung umfasst

Bei dem Strahlmittel kann es sich demnach um Caio(P0 ₄ ) ₆ (OH) ₂ / Ca ₃ (P0 ₄ )2 handeln. Auch die Verwendung eines reinen Hydroxylapatit-Pulvers ist möglich : Caio(P0 ₄ ) ₆ (OH) ₂ .

In einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst das Pulver mindestens 5 %, insbesondere mindestens 10 %, Calciumphosphat und/oder mindestens 30 %, insbesondere mindestens 50 %, Calciumphosphat- Verbindungen.

Es ist auch möglich, dass das Pulver ausschließlich Calciumphosphat- Verbindungen aufweist. Vorzugweise weist das Pulver höchstens 30 %, insbesondere höchstens 20%, Hydroxylapatit-Verbindungen auf.

In einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weisen die Partikel eine Größe von 25 pm - 150 pm, insbesondere von 50 pm - 100 pm, auf.

Insbesondere sind die Partikel eines zu verwendenden Pulvers unregelmäßig geformt. Aufgrund dessen kann ein Dentalimplantat hergestellt werden, das auf einem Oberflächenabschnitt die beschriebenen Partikel aufweist, wobei gleichzeitig eine bestimmte Oberflächenrauigkeit eingestellt werden kann.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand einer Abbildung näher erläutert.

In der Figur wird ein Dentalimplantatbauteil 10 dargestellt, welches gemäß einem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wurde.

Das Dentalimplantatbauteil 10 umfasst einen Verankerungsstift 20 sowie ein Abutment 30. Der Verankerungsstift 20 weist dabei einen Oberflächenabschnitt 40 auf, der mit einer das Knochenwachstum fördernden Oberfläche ausgebildet ist. Es ist zu erkennen, dass es sich dabei um lediglich einen Teilabschnitt der vollständigen Oberfläche des Verankerungsstiftes 20 handelt. Ein zweiter Oberflächenabschnitt 50 des Verankerungsstiftes 20, der im implantierten Zustand am Zahnfleisch anliegt, wird nicht mit einer das Knochenwachstum fördernden Oberfläche ausgebildet.

Der Oberflächenabschnitt 40 wird dabei im Rahmen eines Strahlvorganges, im Sinne eines Sandstrahlvorganges, hergestellt. Dabei wird ein Strahlmittel, insbesondere ein Pulver, das Calciumphosphat und/oder Hydroxylapatit umfasst, auf den Oberflächenabschnitt 40 aufgebracht.

Das Strahlmittel wird anschließend nicht oder zumindest nicht vollständig entfernt, so dass das Strahlmittel bzw. die Partikel des Strahlmittels einen Teil der das Knochenwachstum fördernden Oberfläche darstellt/darstel len .

Zwischen den einzelnen Partikeln können Leerstellen ausgebildet sein, so dass der Oberflächenabschnitt 40 auch eine entsprechende Rauigkeit aufweist.

Zusammenfassend kann mit Hilfe eines vereinfachten Verfahrens ein

Dentalimplantatbauteil zur Verfügung gestellt werden, das zumindest

abschnittsweise eine verbesserte Oberfläche hinsichtlich der

Knochenwachstumsförderung, d.h. der Osteogenese, aufweist.

Bezugszeichenliste

10 Dentalimplantatbauteil

20 Verankerungsstift

30 Abutment

40 erster Oberflächenabschnitt

50 zweiter Oberflächenabschnitt