SUZUKI ATSUSHI (JP)
TOMITA MASAHIRO (JP)
SUGIYAMA AKINARI (JP)
SUZUKI ATSUSHI (JP)
TOMITA MASAHIRO (JP)
JP2002234860A | 2002-08-23 | |||
JP2000281672A | 2000-10-10 | |||
JP2005306747A | 2005-11-04 | |||
JP2002371068A | 2002-12-26 | |||
JP2008013488A | 2008-01-24 | |||
JP2008013540A | 2008-01-24 | |||
JP2002234860A | 2002-08-23 | |||
JPS6335534A | 1988-02-16 | |||
JPS61286348A | 1986-12-16 |
UTEBAEV U. ET AL., IZV. AKAD. NAUK SSSR SER. KHIM., vol. 2, 1974, pages 387
一般式(1) 一般式(2) |
一般式(1)において、Rf 1 及びRf 2 におけるnが0又は1、mが0又は1であり、R 1 が炭素数1~4のアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、Li、Na、K、又はM 1/2 (MはMg、Ca又はBaである)である請求項1に記載のフルオロアルキルアルコールの製造方法。 |
一般式(3)において、R 2 、R 3 及びR 4 が、同一又は異なって、炭素数1~4のアルキル基である請求項1に記載のフルオロアルキルアルコールの製造方法。 |
一般式(2)において、XはF、Cl、Br又はIであり、aの値は、一般式(1)におけるR 1
がアルカリ金属又はM 1/2
である場合に0であり、R 1
が置換基を有することのあるアルキル基、置換基を有することのあるアリール基、又は置換基を有することのあるアラルキル基である場合において、XがCl、Br又はIである場合に1であり、XがFである場合に1~9の整数であり、 一般式(3)において、XはF、Cl、Br又はIであり、bの値は、一般式(1)におけるR 1 がアルカリ金属又はM 1/2 である場合に0であり、R 1 が置換基を有することのあるアルキル基、置換基を有することのあるアリール基、又は置換基を有することのあるアラルキル基である場合において、XがCl、Br又はIである場合に1であり、XがFである場合に1~9の整数である、請求項1に記載のフルオロアルキルアルコールの製造方法。 |
アミド系溶媒の存在下に脱炭酸反応を行う請求項1に記載のフルオロアルキルアルコールの製造方法。 |
本発明は、フルオロアルキルアルコール 製造方法に関する。
ヘキサフルオロイソプロピルアルコールの
造方法としては、オクタフルオロイソブテ
をアルコール付加物とし、次いで脱フッ化
素反応により(CF 3
) 2
C=CFOR(ヘプタフルオロイソブテニルアルキル
ーテル)とした後、これを酸化して得られる(
CF 3
) 2
C(OH)CO 2
R(ヒドロキシカルボン酸エステル)やヒドロキ
シカルボン酸塩をプロトン性溶媒下で脱炭酸
する方法が知られている(下記特許文献1参照)
。しかしながら、この方法は、毒性の高いヘ
キサフルオロイソブテンを原料とすることに
加えて、選択率が約70%と低いという問題点が
ある。
本発明は、上記した従来技術の現状に鑑 てなされたものであり、その主な目的は、 キサフルオロイソプロピルアルコールなど フルオロアルキルアルコールを、安価な原 を用いて、簡便に高選択率で製造できる方 を提供することである。
本発明者は、上記した目的を達成すべく 意研究を重ねた結果、産業廃棄物として有 利用が求められているオクタフルオロイソ テン又はその類似化合物から得られる含フ 素ヒドロキシカルボン酸類を原料として用 、これを特定のアミン化合物、四級アンモ ウム塩又は四級ホスホニウム塩の存在下に 脱炭酸反応に供することによって、目的と るフルオロアルキルアルコールを簡便に且 高選択率で製造できることを見出し、ここ 本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記のフルオロアルキル
ルコールの製造方法を提供するものである
1. 一般式(1)
(式中、Rf 1
及びRf 2
は、同一又は異なって、基:CF 3
(CF 2
) n
(式中、nは0~10の整数である)又は基:CH 3
(CH 2
) m
(式中、mは0~10の整数である)であり、Rf 1
及びRf 2
の少なくとも一つは、基:CF 3
(CF 2
) n
である。R 1
は、置換基を有することのあるアルキル基、
置換基を有することのあるアリール基、置換
基を有することのあるアラルキル基、アルカ
リ金属、又はM 1/2
(Mはアルカリ土類金属である)である。)で表
れる化合物を、
一般式(2)
(式中、Xはハロゲン原子であり、aは0~9の整 数である)で表されるピリジン類、一般式(3)
(式中、R 2 、R 3 及びR 4 は、同一又は異なって、水素原子、置換基を 有することのあるアルキル基、置換基を有す ることのあるアリール基、又は置換基を有す ることのあるアラルキル基であり、Xはハロ ン原子であり、bは0~9の整数である)で表され るアミン類、一般式(4)
(式中、R 5 、R 6 、R 7 及びR 8 は、同一又は異なって、アルキル基、フェニ ル基又はベンジル基であり、Xはハロゲン原 である)で表される四級アンモニウム塩、及 一般式(5)
(式中、R 9 、R 10 、R 11 及びR 12 は、同一又は異なって、アルキル基、フェニ ル基又はベンジル基であり、Xはハロゲン原 である)で表される四級ホスホニウム塩から る群から選ばれた少なくとも一種の成分の 在下に、脱炭酸することを特徴とする、一 式(6)
(式中、Rf 1
及びRf 2
は上記に同じ)で表されるフルオロアルキル
ルコールの製造方法。
2. 一般式(1)において、Rf 1
及びRf 2
におけるnが0又は1、mが0又は1であり、R 1
が炭素数1~4のアルキル基、シクロアルキル基
、フェニル基、Li、Na、K、又はM 1/2
(MはMg、Ca又はBaである)である上記項1に記載
フルオロアルキルアルコールの製造方法。
3. 一般式(3)において、R 2
、R 3
及びR 4
が、同一又は異なって、炭素数1~4のアルキル
基である上記項1又は2に記載のフルオロアル
ルアルコールの製造方法。
4. 一般式(2)において、XはF、Cl、Br又はIであ
、aの値は、一般式(1)におけるR 1
がアルカリ金属又はM 1/2
である場合に0であり、R 1
が置換基を有することのあるアルキル基、置
換基を有することのあるアリール基、又は置
換基を有することのあるアラルキル基である
場合において、XがCl、Br又はIである場合に1
あり、XがFである場合に1~9の整数であり、
一般式(3)において、XはF、Cl、Br又はIであり
bの値は、一般式(1)におけるR 1
がアルカリ金属又はM 1/2
である場合に0であり、R 1
が置換基を有することのあるアルキル基、置
換基を有することのあるアリール基、又は置
換基を有することのあるアラルキル基である
場合において、XがCl、Br又はIである場合に1
あり、XがFである場合に1~9の整数である、上
記項1~3のいずれかに記載のフルオロアルキル
アルコールの製造方法。
5. アミド系溶媒の存在下に脱炭酸反応を行
上記項1~4のいずれかに記載のフルオロアル
ルアルコールの製造方法。
本発明では、原料としては、一般式(1)
(式中、Rf 1 及びRf 2 は、同一又は異なって、基:CF 3 (CF 2 ) n (式中、nは0~10の整数である)又は基:CH 3 (CH 2 ) m (式中、mは0~10の整数である)であり、Rf 1 及びRf 2 の少なくとも一つは、基:CF 3 (CF 2 ) n である。R 1 は、置換基を有することのあるアルキル基、 置換基を有することのあるアリール基、置換 基を有することのあるアラルキル基、アルカ リ金属、又はM 1/2 (Mはアルカリ土類金属である)である。)で表 れる化合物を用いる。
上記一般式(1)において、Rf 1 及びRf 2 は、同一又は異なって、基:CF 3 (CF 2 ) n 又は基:CH 3 (CH 2 ) m であり、Rf 1 及びRf 2 の少なくとも一つは、基:CF 3 (CF 2 ) n である。特に、Rf 1 及びRf 2 の両方が、基:CF 3 (CF 2 ) n であることが好ましい。これらの基において 、nは0~10の整数であり、好ましくは0~5の整数 あり、特に好ましくは0又は1である。また mは、0~10の整数であり、好ましくは0~5の整数 であり、特に好ましくは0又は1である。特に nが0であり、mが0又は1であることが好まし 。
R 1 は、置換基を有することのあるアルキル基、 置換基を有することのあるアリール基、置換 基を有することのあるアラルキル基、アルカ リ金属、又はM 1/2 (Mはアルカリ土類金属である)である。アルキ ル基、アリール基、及びアラルキル基の置換 基としては、F、Cl、Br、I等のハロゲン原子、 ニトロ基、ニトリル基、基:CH 3 (CH 2 ) c O(CH 2 ) d -(式中、c及びdは同一又は異なって0~5の整数 ある)、基:CH 3 (CH 2 ) c OCO(CH 2 ) d -(式中、e及びfは同一又は異なって0~5の整数 ある) 、基:CH 3 (CH 2 ) g CO 2 (CH 2 ) h -(式中、g及びhは同一又は異なって0~5の整数 ある) 、基:CH 3 (CH 2 ) i S-(式中、iは0~5の整数である。)等を例示でき 。アルキル基、アリール基、及びアラルキ 基の各基には、上記した置換基の内で同一 は異なる基が、1個又は2個以上置換してい も良い。
R 1 で表されるアルキル基の具体例としては、メ チル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n -ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチ 、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1~6程度の 鎖状又は分枝鎖状の低級アルキル基、シク ヘキシル基等のシクロアルキル基等を例示 きる。置換基を有することのあるアリール としては、フェニル基、ナフチル基、ピリ ル基、クロロフェニル基、トリル基、ニト フェニル基等を例示できる。アラルキル基 しては、ベンジル基、フェネチル基等を例 できる。
アルカリ金属としては、Li、Na、K、Rb、Cs を例示でき、安価で入手し易い点でLi、Na、 K等が好ましい。
Mで表されるアルカリ土類金属としては、 Be、Mg、Ca、Sr、Baなどを例示でき、安価で入 し易い点でMg、Ca、Ba等が好ましい。
R 1 としては、特に、炭素数1~4程度のアルキル基 、シクロアルキル基、フェニル基、Li、Na、K のアルカリ金属、M 1/2 (Mは、Mg、Ca、Ba等のアルカリ土類金属)等が好 ましい。
一般式(1)の化合物としては、特に、Rf 1
及びRf 2
が基:CF 3
(CF 2
) n
であって、R 1
が炭素数1~4程度の低級アルキル基である化合
物が好ましい。
上記一般式(1)で表される化合物は、公知の
合物又は公知化合物に類似した化合物であ
、例えば、ヘキサフルオロプロペンの製造
に副生する産業廃棄物であるオクタフルオ
イソブテンを原料として、下記の工程によ
製造できる。
即ち、特開2002-234860号公報に記載されてい ように、オクタフルオロイソブテンをアル ール(ROH)と反応させてアルコール付加物((CF 3 ) 2 CHCF 2 OR)とし(F. W. Hoffmann. et al.; J. Am. Chem. Soc., 79 (1957) 1741等参照)、ついで、脱HF反応を行 (特開昭63-35534号公報等参照)、得られたヘキ フルオロイソブテニルアルキルエーテル((CF 3 ) 2 )C=CFOR)を酸化することによって、一般式(1)の ドロキシカルボン酸エステル((CF 3 ) 2 C(OH)COOR)とすることができる。酸化反応とし は、KMnO 4 を酸化剤として用いる方法(Utebaev U. et al.; Izv. Akad. Nauk SSSR Ser. Khim., 2 (1974) 387等参 )、H 2 O 2 を酸化剤として用いる方法(特開昭61-286348号 報など参照)等を適用できる。また、オスミ ム触媒又はルテニウム触媒を用いて酸化反 を行うこともできる(特開2002-234860号公報な 参照)。一般式(1)で表されるその他の化合物 についても同様の方法によって得ることがで きる。
本発明のフルオロアルキルアルコールの 造方法は、一般式(2)
(式中、Xは、ハロゲン原子であり、aは、0~9 の整数である)で表されるピリジン類、一般 (3)
(式中、R 2 、R 3 及びR 4 は、同一又は異なって、水素原子、置換基を 有することのあるアルキル基、置換基を有す ることのあるアリール基、又は置換基を有す ることのあるアラルキル基であり、Xは、ハ ゲン原子であり、bは0~9の整数である)で表さ れるアミン類、一般式(4)
(式中、R 5 、R 6 、R 7 及びR 8 は、同一又は異なって、アルキル基、フェニ ル基又はベンジル基であり、Xはハロゲン原 である)で表される四級アンモニウム塩、及 一般式(5)
(式中、R 9 、R 10 、R 11 及びR 12 は、同一又は異なって、アルキル基、フェニ ル基又はベンジル基であり、Xはハロゲン原 である)で表される四級ホスホニウム塩から る群から選ばれた少なくとも一種の成分の 在下に、上記した一般式(1)で表される化合 を脱炭酸する方法である。
一般式(2)で表されるピリジン類において、X はF、Cl、Br、I等のハロゲン原子であり、入手 の容易さからF、Cl、Br等が好ましく、特に、F 、Cl等が好ましい。aの値は、0~9の整数であり 、上記一般式(1)におけるR 1 がアルカリ金属又はM 1/2 である場合には0であることが好ましく、R 1 が置換基を有することのあるアルキル基、置 換基を有することのあるアリール基、又は置 換基を有することのあるアラルキル基である 場合には1~9の整数であることが好ましい。特 に、R 1 が置換基を有することのあるアルキル基、置 換基を有することのあるアリール基、又は置 換基を有することのあるアラルキル基である 場合において、XがCl、Br又はIである場合には 、aの値は1であることが好ましく、XがFであ 場合には、aの値は1~9の整数であることが好 しく、1~5の整数であることがより好ましく 入手の容易さから1~3の整数であることが特 好ましい。
一般式(3)で表されるアミン類では、R 2 、R 3 及びR 4 は、同一又は異なって、水素原子、置換基を 有することのあるアルキル基、置換基を有す ることのあるアリール基、又は置換基を有す ることのあるアラルキル基であり、Xは、ハ ゲン原子であり、bは0~9の整数である。これ の内で、アルキル基としては、炭素数1~10程 度のアルキル基が好ましく、特に、メチル、 エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチ 、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペ チル、ヘキシル等の炭素数1~6程度の直鎖状 は分枝鎖状の低級アルキル基、シクロヘキ ル基等のシクロアルキル基等が好ましい。R 2 、R 3 及びR 4 で表される基の好ましい具体例としては、水 素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基 イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル 、sec-ブチル基、t-ブチル基、オクチル基、 ェニル基、ベンジル基等を挙げることがで る。また、XはF、Cl、Br、I等のハロゲン原子 あり、入手の容易さからF、Cl、Br等が好ま く、特に、Cl、Br等が好ましい。
一般式(3)で表されるアミン類において、bの 値は、0~9の整数であり、上記一般式(1)におけ るR 1 がアルカリ金属又はM 1/2 である場合には0であることが好ましく、R 1 が置換基を有することのあるアルキル基、置 換基を有することのあるアリール基、又は置 換基を有することのあるアラルキル基である 場合には1~9の整数であることが好ましい。特 に、R 1 が置換基を有することのあるアルキル基、置 換基を有することのあるアリール基、又は置 換基を有することのあるアラルキル基である 場合において、XがCl、Br又はIである場合には 、bの値は1であることが好ましく、XがFであ 場合には、bの値は1~9の整数であることが好 しく、1~5の整数であることがより好ましく 入手の容易さから1~3の整数であることが特 好ましい。
特に、一般式(3)で表されるアミン類とし は、水素原子を含まないか或いは水素原子 が1個である二級アミン類又は三級アミン類 が好ましい。
一般式(4)で表される四級アンモニウム塩に いて、R 5 、R 6 、R 7 及びR 8 は、同一又は異なって、アルキル基、フェニ ル基又はベンジル基であり、Xはハロゲン原 である。これらの内で、アルキル基として 、炭素数1~10程度のアルキル基が好ましく、 に、メチル、エチル、n-プロピル、イソプ ピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、te rt-ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1~6 程度の直鎖状又は分枝鎖状の低級アルキル基 、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基等 が好ましい。R 5 、R 6 、R 7 及びR 8 としては、特に、メチル基、エチル基、n-プ ピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イ ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、オク ル基、フェニル基、ベンジル基等が好まし 。また、XはF、Cl、Br、I等のハロゲン原子で り、入手の容易さからF、Cl、Br等が好まし 、特に、Cl、Br等が好ましい。
一般式(5)で表される四級ホスホニウム塩に いて、R 9 、R 10 、R 11 及びR 12 は、同一又は異なって、アルキル基、フェニ ル基又はベンジル基であり、Xはハロゲン原 である。これらの内で、アルキル基として 、炭素数1~10程度のアルキル基が好ましく、 に、メチル、エチル、n-プロピル、イソプ ピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、te rt-ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1~6 程度の直鎖状又は分枝鎖状の低級アルキル基 、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基等 が好ましい。R 9 、R 10 、R 11 及びR 12 としては、特に、メチル基、エチル基、n-プ ピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イ ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、オ チル基、フェニル基、ベンジル基等が好ま い。また、XはF、Cl、Br、I等のハロゲン原子 あり、入手の容易さからF、Cl、Br等が好ま く、特に、Cl、Br等が好ましい。
一般式(2)で表されるピリジン類、一般式( 3)で表されるアミン類、一般式(4)で表される 級アンモニウム塩、及び一般式(5)で表され 四級ホスホニウム塩からなる群から選ばれ 少なくとも一種の成分の使用量は、一般式( 1)の化合物1モルに対して、0.001~100モル程度と すればよく、0.01~50モル程度とすることが好 しく、安価且つ効率的に反応させるために 、0.1~5モル程度とすることが特に好ましい。
本発明の製造方法は、溶媒の存在下又は非 在下に行うことができるが、特に、反応基 の接触効率の点から溶媒の存在下に行うこ が好ましい。溶媒としては、上記した原料 分を分散又は溶解できる溶媒であればよく 例えば、n-ヘキサン等の炭化水素系溶媒、N- メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド 、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、ジメチ ルホルムアミド、水、メタノール、エタノー ル等のアルコール類、エチレングリコール、 ポリエチレングリコール、アセトニトリル、 スルホラン、塩化メチレン、クロロホルム、 四塩化炭素、ジメチルスルホキシド、ジメチ ルアセテート、酢酸、キシレン等の他、1,1- クロロ-1-フルオロエタン、3,3-ジクロロ-1,1,1, 2,2,-ペンタフルオロプロパン、パーフルオロ キサン、HCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 Cl等のフッ素系溶媒等も用いることが出来る また、一般式(3)のアミン類を溶媒として用 ても良い。特に、ジメチルアセトアミド、 メチルホルムアミド等のアミド系溶媒を用 る場合には、高い選択率で一般式(6)で表さ るフルオロアルキルアルコールを得ること できる。
溶媒を使用する場合の溶媒の使用量は、 般式(1)の化合物に対し0.001~20体積倍程度と ることができ、好ましくは、0.01 ~10体積倍 度とすればよく、安価かつ効率的に反応さ るためには、0.1~5体積倍程度とすればよい。
反応方法については、特に限定はなく、 原料を同時に仕込んでも良く、或いは、任 の順序で別々に仕込んでもよい。特に、発 を抑制するためには、一般式(2)~(5)のいずれ かの化合物と溶媒を混合した後、これに一般 式(1)で表される化合物を添加することが好ま しい。
反応温度は、-20℃~300℃程度とすることが できるが、特に5~200℃程度の範囲とすること 好ましい。
反応時の圧力は特に限定はなく、減圧下 大気圧下、加圧下のいずれでもよいが、特 ガスの発生の点から大気圧下で行うのが好 しい。
反応時間は、通常、0.01~50時間とすればよ く、好ましくは、0.1~24時間程度とすればよい 。各成分は同時に仕込んでもよく、別々に仕 込んでも良い。
反応器の材質は特に限定はなく、ガラス 金属のいずれでも良く、反応温度・化合物 対する耐性がある材料を用いれば良い。
上記した方法によって、一般式(6)
(式中、Rf 1 及びRf 2 は上記に同じ)で表されるフルオロアルキル ルコールが得られる。得られたフルオロア キルアルコールは、公知の方法で分離、精 することが出来る。例えば、抽出、蒸留、 結晶、クロマトグラフィーなどの方法を適 できる。
本発明によれば、産業廃棄物であるオク フルオロイソブテンから得られる一般式(1) 表される化合物を原料として、ヘキサフル ロイソプロピルアルコールなどのフルオロ ルキルアルコールを高い選択率で収率良く 造できる。よって、本発明の方法は、フル ロアルキルアルコールを安価に収率良く製 できる方法として有用性の高い方法である
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細 説明する。
実施例1
50mlの3つ口フラスコに98%(CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
:10.0g(43.1mmol)、トリエチルアミン一塩酸塩:6.5g
(47.3mmol)、及びエチレングリコール10mlを仕込
だ。
フラスコにマントルヒーターを取り付け、 120℃に加熱して反応させた。反応の進行と に還留がかかりはじめ、約115℃で安定した 2時間反応させた後、室温まで冷却し、反応 溶液を分析した結果、水層・有機層のガスク ロマトグラフィ(GC)、スクロマトグラフィ/質 分析(GC/MS)、 19 FNMR測定を行った。
(CF 3 ) 2 C(OH)CO 2 CH 3 の転化率は90.9%であり、1,1,1,3,3,3-ヘキサフル ロイソプロパノールの選択率は77.6%であっ 。
比較例1
トリエチルアミン塩酸塩を用いることなく
それ以外は実施例1と同様の方法で反応を行
った。その結果、反応は進行せず、ヘキサフ
ルオロイソプロパノールは得られなかった。
実施例2
リフラックスコンデンサーを備え付けた50mL
の3つ口フラスコに99% (CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
:5.0g(22.1 mmol)、テトラn-ブチルアンモニウム
ロライド:6.7g(24.3mmol)、及びエチレングリコ
ル(5mL)を仕込み、攪拌しながら120℃に加熱し
て反応させた。反応中には、ガスの発生が見
られ、コンデンサー上部よりメチルクロライ
ド及び二酸化炭素がガスとして生成していた
。2時間反応させた後、室温まで冷却し、反
溶液についてガスクロマトグラフィ(GC)、ガ
クロマトグラフィ/質量分析(GC/MS)、 19
F-NMR測定を行ったところ、(CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
の転化率は99%であり、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオ
ロイソプロパノールが44%の選択率で生成して
いた。
実施例3~6
実施例2において、テトラn-ブチルアンモニウ
ムクロライドに代えて、テトラn-ブチルアン
ニウムアイオダイド(nBu 4
N-I)(実施例3)、テトラn-ブチルアンモニウムブ
ロマイド(nBu 4
N-Br)(実施例4)、トリエチルベンジルアンモニ
ムクロライド(Et 3
NBn-Cl)(実施例5)、又はトリフェニルベンジル
スホニウムクロライド(Ph 3
PBn-Cl)(実施例6)を、テトラn-ブチルアンモニウ
ムクロライドと同モル用いたこと以外は、実
施例2と同様にして脱炭酸反応と分析を行っ
。(CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
の転化率及び1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプ
ロパノールの選択率を表1に示す。
実施例7~12
リフラックスコンデンサーを備え付けた50mL
の3つ口フラスコに99% (CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
:5.0g(22.1 mmol)、トリエチルアミン塩酸塩:3.3g(2
4.3mmol)、表2に示す溶媒(5mL)を仕込み、120℃に
熱して反応させた。反応後、実施例1と同様
にして分析を行い、(CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
の転化率と1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロ
パノールの選択率を求めた。得られた結果を
表2に示す。
実施例13~14
リフラックスコンデンサーを備え付けた50mL
の3つ口フラスコに99% (CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
:5.0g(22.1 mmol)、表3に示すアミン塩酸塩(24.3mmol
)、N,N-ジメチルホルムアミド(5mL)を仕込み、12
0℃に加熱して反応させた。反応後、実施例1
同様にして分析を行い、(CF 3
) 2
C(OH)CO 2
CH 3
の転化率と1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロ
パノールの選択率を求めた。得られた結果を
表3に示す。
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