以下、本発明の重合性光学活性化合物、� ��重合性光学活性化合物を含有する本発明の� ��合性組成物、及び該重合性組成物を光重合� ��せることにより作製された本発明の重合体� ��ついて、その好ましい実施形態に基づき詳� ��に説明する。

 先ず、本発明の重合性光学活性化合物につ� ��て説明する。
 上記一般式(1)中のY ¹ 、Y ² 及び上記a ¹ 、a ² で表される炭素原子数1~8の分岐を有してもよ いアルキレン基としては、メチレン、エチレ ン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン 、1-メチルプロピレン、2-メチルプロピレン� �1,2-ジメチルプロピレン、1,3-ジメチルプロピ レン、1-メチルブチレン、2-メチルブチレン� �3-メチルブチレン、4-メチルブチレン、2,4-ジ メチルブチレン、1,3-ジメチルブチレン、ペ� �チレン、ヘキシレン、へプチレン、オクチ� �ン等が挙げられる。

 上記一般式(1)中のY ¹ 、Y ² 並びに上記a ¹ 、a ² 、b ¹ 及びb ² で表される置換基を有してもよい6員環とは� �ベンゼン環又はシクロヘキサン環であり、� �6員環中の-CH ₂ -が硫黄原子又は酸素原子で置換されたもの� �あってもよく、該6員環中の-CH=が窒素原子で 置換されたものであってもよい。また、上記 シクロヘキサン環が不飽和結合を含むもので あってもよい。

 硫黄原子で置換された6員環としては、チ オピラン、チオピリリウム等が挙げられ、酸 素原子で置換された6員環としては、1,4-ジオ� ��サン-2,6-ジオン、1,4-ジオキサン-2,5-ジオン� �1,3,5-トリオキサン、ピラン等が挙げられ、� �素原子で置換された6員環としては、ピリジ� ��、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ト� ��アジン、ピペリジン、ピペラジン等が挙げ� ��れ、また、オキサチアン、オキサジン、チ� ��ジン等の異なるヘテロ原子で置換された6員 環であってもよい。

 また、上記6員環又は上記ナフタレン環は 、例えば、ハロゲン原子、ニトリル基、カル ボキシル基、炭素原子数1~8の分岐を有しても よいアルキル基、炭素原子数1~8の分岐を有し てもよいアルコキシ基、炭素原子数2~8の分岐 を有していてもよいアルケニル基、又はこれ らの組み合わせで置換されていてもよい。

 上記の炭素原子数1~8の分岐を有してもよい� ��ルキル基若しくはアルコキシ基又は炭素原� ��数2~8の分岐を有していてもよいアルケニル� ��中の-CH ₂ -は、硫黄原子又は酸素原子で置換されてい� �もよく、該アルキル基、アルコキシ基又は� �ルケニル基中の水素原子は、ハロゲン原子� �はニトリル基で置換されていてもよい。

 上記炭素原子数1~8の分岐を有してもよい� ��ルキル基としては、例えば、メチル、クロ� ��メチル、トリフルオロメチル、シアノメチ� ��、エチル、ジクロロエチル、プロピル、イ� ��プロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチ� ��、イソブチル、アミル、イソアミル、第三� ��ミル、ヘキシル、2-ヘキシル、3-ヘキシル、 シクロヘキシル、1-メチルシクロヘキシル、� ��プチル、2-ヘプチル、3-ヘプチル、イソヘプ チル、第三ヘプチル、n-オクチル、イソオク� ��ル、第三オクチル、2-エチルヘキシル等の� �鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。

 上記炭素原子数1~8の分岐を有してもよい� ��ルコキシ基としては、例えば、メチルオキ� ��、クロロメチルオキシ、トリフルオロメチ� ��オキシ、シアノメチルオキシ、エチルオキ� ��、ジクロロエチルオキシ、プロピルオキシ� ��イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二� ��チルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチ� ��オキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ� ��第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シク� ��ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘ� ��チルオキシ、第三ヘプチルオキシ、n-オク� �ルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オク� �ルオキシ、2-エチルヘキシルオキシ等の直鎖 又は分岐のアルコキシ基が挙げられる。

 上記炭素原子数2~8の分岐を有してもよい� ��ルケニル基としては、例えば、ビニル、プ� ��ペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソ� ��テニル、オクテニル等の直鎖又は分岐のア� ��ケニル基が挙げられる。

 上記b ¹ 及びb ² で表される炭素原子数1~8の分岐を有してもよ いアルキルチオエーテル結合としては、例え ば、上記アルキレン基の-CH ₂ -をチオエーテル結合で置換したものが挙げ� �れる。

 上記一般式(1)で表される本発明の重合性� ��学活性化合物の具体的な構造としては、下� ��〔化3〕及び〔化4〕に示す化合物が挙げら� �る。ただし、本発明は以下の化合物により� �限を受けるものではない。尚、〔化3〕及び� ��化4〕中のmは1~8の整数、nは2~7の整数、Rは水 素原子又はメチル基を表す。

 本発明の重合性光学活性化合物の中でも、� ��記一般式(1)中の-Y ¹ -X ¹ 及び-Y ² -X ² で表される(メタ)アクリロイルオキシ基を末� ��に含む重合性官能基が、下記一般式(2)又は( 3)で表される重合性官能基であるものが好ま� ��い。

 上記一般式(1)で表される本発明の重合性� ��学活性化合物のより具体的な例としては、� ��記化合物No.1~No.4が挙げられる。ただし、本� ��明は以下の化合物により制限を受けるもの� ��はない。

 本発明の重合性光学活性化合物は、その� ��造方法については特に限定されず、公知の� ��応を応用して製造することができ、例えば� ��フェノール基に対して(メタ)アクリル酸ハ� �ゲン化物をエステル化させたり、下記〔化10 〕又は〔化11〕に示す反応式に従って製造す� ��ことができる。即ち、本発明の重合性光学� ��性化合物は、例えば以下のようにして得る� ��とができる。先ず、ヒドロキシ安息香酸又� ��ヒドロキシナフトエ酸のフェノール性水酸� ��に対してハロゲノアルキルアルコールを反� ��させアルキルエーテル体へと変換した後、� ��らにこのヒドロキシアルキルオキシ安息香� ��又はヒドロキシアルキルオキシナフトエ酸� ��水酸基に対して(メタ)アクリル酸ハロゲン� �物をエステル化させて、(メタ)アクリロイル オキシ中間体を得る。一方、下記〔化10〕に� ��す反応式に従って、チオエステル中間体を� ��る。次いで、該(メタ)アクリロイルオキシ� �間体と該チオエステル中間体とを、下記〔� �11〕に示す反応式に従って反応させて、本発 明の重合性光学活性化合物を得ることができ る。

 本発明の重合性光学活性化合物は、液晶� ��料、特にコレステリック相を示す液晶材料� ��配合されて、耐熱性、耐溶剤性、透明性、� ��学特性及び液晶配向固定化能に優れた光学� ��方体作製用材料として好ましく用いられる� ��、液晶配向膜、液晶配向制御剤、コーティ� ��グ材、保護板作製材料等に用いることがで� ��る。

 次に、本発明の重合性組成物について説明� ��る。
 本発明の重合性組成物は、本発明の重合性� ��学活性化合物を含有するもので、さらに液� ��化合物を含有するものは、光学異方体作製� ��材料として好ましく用いられる。尚、ここ� ��いう液晶化合物には、従来既知の液晶化合� ��及び液晶類似化合物並びにそれらの混合物� ��含まれる。

 本発明の重合性組成物において、本発明� ��重合性光学活性化合物と上記液晶化合物と� ��配合割合は、特に制限されず、本発明の重� ��性光学活性化合物の効果が損なわれない範� ��であれば良いが、両者の合計量を100質量部� ��したとき、本発明の重合性光学活性化合物� ��、1~50質量部、特に1~30質量部となるように� �ることが好ましい。本発明の重合性光学活� �化合物の比率が1質量部より小さいと、本発� ��の効果が得られない場合があり、50質量部� �り大きいと、重合性組成物を硬化させる際� �相分離が生じたり、重合性光学活性化合物� �析出と液晶分子の配向の不均一に伴う白濁� �現れたりする場合がある。

 上記液晶化合物としては、通常一般に使用� ��れる液晶化合物を使用することができ、該� ��晶化合物の具体例としては、特に制限する� ��のではないが、例えば下記〔化12〕に示す� �晶化合物が挙げられる。
 尚、〔化12〕中のW ₁ は水素原子、炭素原子数1~8の分岐を有しても よいアルキル基、炭素原子数1~8の分岐を有し てもよいアルコキシ基、炭素原子数2~8の分岐 を有してもよいアルケニル基、炭素原子数2~8 の分岐を有してもよいアルケニルオキシ基、 炭素原子数2~8の分岐を有してもよいアルコキ シアルキル基、炭素原子数2~8の分岐を有して もよいアルカノイルオキシ基又は炭素原子数 2~8の分岐を有してもよいアルコキシカルボニ ル基を表し、W ₃ はシアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数1~8の 分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数 2~8の分岐を有してもよいアルカノイルオキシ 基又は炭素原子数2~8の分岐を有してもよいア ルコキシカルボニル基を表し、W ₂ 及びW ₄ は水素原子、ハロゲン原子又はニトリル基を 表す。

 また、本発明の重合性組成物においては� ��上記液晶化合物として、重合性官能基を有� ��る液晶化合物が好ましく用いられる。該重� ��性官能基としては、(メタ)アクリロイルオ� �シ基、フルオロアクリル基、クロロアクリ� �基、トリフルオロメチルアクリル基、オキ� �ラン環(エポキシ)、オキセタン環、スチレン 化合物(スチリル基)、ビニル基、ビニルエー� ��ル基、ビニルケトン基、マレイミド基、フ� ��ニルマレイミド基等が好ましい。該重合性� ��能基を有する液晶化合物としては、通常一� ��に使用されるものを用いることができ、そ� ��具体例としては、特に制限するものではな� ��が、特開2005-15473号公報の段落[0172]~[0314]に� �げられる化合物、及び下記〔化13〕~〔化24〕 に示す化合物が挙げられる。

 本発明の重合性組成物は、必要に応じて� ��いられる他の単量体(エチレン性不飽和結合 を有する化合物)及びラジカル重合開始剤と� �に、溶剤に溶解して溶液にすることができ� �。

 上記他の単量体としては、メチル(メタ)� �クリレート、エチル(メタ)アクリレート、プ ロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア� �リレート、第二ブチル(メタ)アクリレート、 第三ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メ タ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)ア� ��リレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)� �クリレート、グリシジル(メタ)アクリレート 、アリル(メタ)アクリレート、アリルオキシ� ��(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ) アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート� ��1-フェニルエチル(メタ)アクリレート、2-フ� ��ニルエチル(メタ)アクリレート、フルフリ� �(メタ)アクリレート、ジフェニルメチル(メ� �)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレー� �、ペンタクロルフェニル(メタ)アクリレート 、2-クロルエチル(メタ)アクリレート、メチ� �-α-クロル(メタ)アクリレート、フェニル-α-� ��ロモ(メタ)アクリレート、トリフルオロエ� �ル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロ ピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ� ��ールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオ� ��ルジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオ� ��ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロール� �ロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリ スリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタ� ��リスリトールテトラ(メタ)アクリレート、� �ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)� ��クリレート等の(メタ)アクリル酸エステル� �ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビ� �ルトルエン、ジビニルベンゼン等が挙げら� �る。

 本発明の重合性組成物を用いて作製され� ��重合体の耐熱性及び光学特性を確保するた� ��に、他の単量体の含有量は、本発明の重合� ��光学活性化合物と上記液晶化合物との合計� ��100質量部に対して、50質量部以下が好まし� �、特に30質量部以下が好ましい。

 上記ラジカル重合開始剤としては、過酸� ��ベンゾイル、2,2’-アゾビスイソブチロニト リル、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノ ン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール 類、ジアリールヨードニウム塩、トリアリー ルスルホニウム塩、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨード ニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェ ニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネー ト、ジフェニルヨードニウムテトラ(ペンタ� �ルオロフェニル)ボレート、4-メトキシフェ� �ルフェニルヨードニウムテトラフルオロボ� �ート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニ ウムヘキサフルオロホスホネート、4-メトキ� ��フェニルフェニルヨードニウムヘキサフル� ��ロアルセネート、ビス(4-tert-ブチルフェニ� �)ヨードニウムジフェニルヨードニウムテト� ��フルオロボレート、ビス(4-tert-ブチルフェ� �ル)ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘ� ��サフルオロアルセネート、ビス(4-tert-ブチ� �フェニル)ヨードニウムジフェニルヨードニ� ��ムトリフルオロメタンスルホネート、トリ� ��ェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホ� ��ート、トリフェニルスルホニウムヘキサフ� ��オロアルセネート、トリフェニルスルホニ� ��ムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレー� �、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウ ムテトラフルオロボレート、4-メトキシフェ� ��ルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ� ��スホネート、4-メトキシフェニルジフェニ� �スルホニウムヘキサフルオロアルセネート� �4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4-メトキ� ��フェニルジフェニルスルホニウムトリフェ� ��ルスルホニウムテトラ(ペンタフルオロフェ ニル)ボレート、4-フェニルチオフェニルジフ ェニルスルホニウムテトラフルオロボレート 、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホ� ��ウムヘキサフルオロホスホネート、4-フェ� �ルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘ� �サフルオロアルセネート、p-メトキシフェニ ル-2,4-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン� �2-(p-ブトキシスチリル)-s-トリアジン、2-(p-ブ トキシスチリル)-5-トリクロロメチル-1,3,4-オ� ��サジアゾール、9-フェニルアクリジン、9,10- ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン /ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミ� �ゾール/メルカプトベンズイミダゾール、ベ� ��ジルジメチルケタール、チオキサントン/ア ミン、トリアリールスルホニウムヘキサフル オロホスフェート、ビス(2,4,6-トリメチルベ� �ゾイル)-フェニルホスフィンオキシド等が挙 げられる。

 また、上記ラジカル重合開始剤と増感剤� ��の組合せも好ましく使用することができる� ��かかる増感剤としては、チオキサントン、� ��ェノチアジン、クロロチオキサントン、キ� ��ントン、アントラセン、ジフェニルアント� ��セン、ルプレン等が挙げられる。上記ラジ� ��ル重合開始剤及び/又は上記増感剤を添加す る場合、それらの添加量は、それぞれ、本発 明の重合性光学活性化合物と上記液晶化合物 との合計量100質量部に対して、10質量部以下� ��あることが好ましく、5質量部以下がさらに 好ましく、0.1~3質量部の範囲内がより好まし� ��。

 上記溶剤としては、ベンゼン、トルエン� ��キシレン、メシチレン、n-ブチルベンゼン� �ジエチルベンゼン、テトラリン、メトキシ� �ンゼン、1,2-ジメトキシベンゼン、エチレン� ��リコールジメチルエーテル、ジエチレング� ��コールジメチルエーテル、アセトン、メチ� ��エチルケトン、メチルイソブチルケトン、� ��クロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸� ��チル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレン� ��リコールモノメチルエーテルアセテート、� ��ロピレングリコールモノメチルエーテルア� ��テート、プロピレングリコールモノエチル� ��ーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、2-� �ロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチル ホルムアミド、クロロホルム、ジクロロメタ ン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロ ロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロ ベンゼン、t-ブチルアルコール、ジアセトン� ��ルコール、グリセリン、モノアセチレン、� ��チレングリコール、トリエチレングリコー� ��、ヘキシレングリコール、エチレングリコ� ��ルモノメチルエーテル、エチルセルソルブ� ��ブチルセルソルブ等が挙げられる。溶剤は� ��一化合物であってもよいし、又は混合物で� ��ってもよい。これらの溶剤の中でも、沸点� ��60~250℃のものが好ましく、60~180℃のものが� ��に好ましい。60℃より低いと塗布工程で溶� �が揮発して膜の厚さにムラが生じやすく、25 0℃より高いと脱溶媒工程で減圧しても溶媒� �残留したり、高温での処理による熱重合を� �起したりして配向性が低下する場合がある� �

 また、本発明の重合性組成物には、選択� ��射波長及び液晶との相溶性等を調節するこ� ��を目的として、他の光学活性化合物を添加� ��ることができる。かかる他の光学活性化合� ��を添加する場合、その添加量は、本発明の� ��合性光学活性化合物と上記液晶化合物との� ��計量100質量部に対し、0.1~100質量部の範囲内 が好ましく、1~50質量部がより好ましい。か� �る光学活性化合物としては、例えば下記〔� �25〕~〔化43〕の化合物を挙げることができる 。

 また、本発明の重合性組成物には、空気� ��面側に分布する排除体積効果を有する界面� ��性剤をさらに含有させることができる。該� ��面活性剤としては、重合性組成物を支持基� ��等に塗布することを容易にしたり、液晶相� ��配向を制御したりする等の効果を与えるも� ��が好ましい。かかる界面活性剤としては、4 級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイ ド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン -ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレ� �グリコール及びそのエステル、ラウリル硫� �ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、� �ウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族� �ルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ペルフル� �ロアルキルスルホン酸塩、ペルフルオロア� �キルカルボン酸塩、ペルフルオロアルキル� �チレンオキシド付加物、ペルフルオロアル� �ルトリメチルアンモニウム塩等が挙げられ� �。界面活性剤の好ましい使用量は、界面活� �剤の種類、組成物の成分比等に依存するが� �本発明の重合性光学活性化合物と上記液晶� �合物との合計量100質量部に対して、0.01~5質� �部の範囲であることが好ましく、0.05~1質量� �の範囲内がより好ましい。

 また、本発明の重合性組成物には、必要� ��応じて添加物をさらに含有させてもよい。� ��合性組成物の特性を調製するための添加物� ��しては、例えば、保存安定剤、酸化防止剤� ��紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、無機物及び� ��機物等の微粒子化物、並びにポリマー等の� ��能性化合物が挙げられる。

 上記保存安定剤は、重合性組成物の保存� ��定性を向上させる効果を付与することがで� ��る。使用できる保存安定剤としては、ヒド� ��キノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテ� ��類、第三ブチルカテコール類、ピロガロー� ��類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、2 -ナフチルアミン類、2-ヒドロキシナフタレン 類等が挙げられる。これらを添加する場合は 、本発明の重合性光学活性化合物と上記液晶 化合物との合計量100質量部に対して、1質量� �以下であることが好ましく、0.5質量部以下� �特に好ましい。

 上記酸化防止剤としては、特に制限なく� ��知の化合物を使用することができ、ヒドロ� ��ノン、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、2,6-ジ-t -ブチルフェノール、トリフェニルホスファ� �ト、トリアルキルホスファイト等を用いる� �とができる。

 上記紫外線吸収剤としては、特に制限な� ��公知の化合物を使用することができ、例え� ��、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフ� ��ノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化� ��物、シアノアクリレート系化合物又はニッ� ��ル錯塩系化合物によって紫外線吸収能をも� ��せたものを用いることができる。

 上記微粒子化物は、光学(屈折率)異方性(� �n)を調整したり、重合体の強度を上げたりす るために用いることができる。上記微粒子化 物の材質としては、無機物、有機物、金属等 が挙げられる。凝集防止のため、上記微粒子 化物としては、0.001~0.1μmの粒子径のものが好 ましく、0.001~0.05μmの粒子径のものがさらに� �ましい。また、粒子径の分布がシャープで� �るものが好ましい。上記微粒子化物は、本� �明の重合性光学活性化合物と上記液晶化合� �との合計量100質量部に対して、0.1~30質量部� �範囲内で使用することが好ましい。

 上記無機物としては、セラミックス、フッ� ��金雲母、フッ素四ケイ素雲母、テニオライ� ��、フッ素バーミキュライト、フッ素ヘクト� ��イト、ヘクトライト、サポナイト、スチブ� ��サイト、モンモリロナイト、バイデライト� ��カオリナイト、フライポンタイト、ZnO、TiO ₂ 、CeO ₂ 、Al ₂ O ₃ 、Fe ₂ O ₃ 、ZrO ₂ 、MgF ₂ 、SiO ₂ 、SrCO ₃ 、Ba(OH) ₂ 、Ca(OH) ₂ 、Ga(OH) ₃ 、Al(OH) ₃ 、Mg(OH) ₂ 、Zr(OH) ₄ 等が挙げられる。また、炭酸カルシウムの針 状結晶等の微粒子は光学異方性を有し、この ような微粒子によって重合体の光学異方性を 調節できる。
 上記有機物としては、カーボンナノチュー� ��、フラーレン、デンドリマー、ポリビニル� ��ルコール、ポリメタクリレート、ポリイミ� ��等が挙げられる。

 上記ポリマーは、重合体の電気特性や配� ��性を制御することができる。上記ポリマー� ��しては、上記溶剤に可溶性の高分子化合物� ��好ましく使用することができる。かかる高� ��子化合物としては、ポリアミド、ポリウレ� ��ン、ポリウレア、ポリエポキサイド、ポリ� ��ステル、ポリエステルポリオール等が挙げ� ��れる。

 次に、本発明の重合体について説明する。
 本発明の重合体は、例えば、上記重合性組� ��物を溶剤に溶解して溶液とした後、支持基� ��に塗布して、重合性組成物中の液晶分子を� ��向させた状態で脱溶媒し、次いでエネルギ� ��線を照射して重合することにより得ること� ��できる。

 上記支持基板としては、特に限定されな� ��が、好ましい例としては、ガラス板、ポリ� ��チレンテレフタレート板、ポリカーボネー� ��板、ポリイミド板、ポリアミド板、ポリメ� ��クリル酸メチル板、ポリスチレン板、ポリ� ��化ビニル板、ポリテトラフルオロエチレン� ��、セルロース板、シリコン板、反射板、シ� ��ロオレフィンポリマー及び方解石板が挙げ� ��れる。このような支持基板上に、後述のよ� ��にポリイミド系配向膜又はポリビニルアル� ��ール系配向膜を施したものが、特に好まし� ��使用することができる。

 上記支持基板に本発明の重合性組成物の� ��液を塗布する方法としては、公知の方法を� ��いることができ、該方法としては、カーテ� ��コーティング法、押し出しコーティング法� ��ロールコーティング法、スピンコーティン� ��法、ディップコーティング法、バーコーテ� ��ング法、スプレーコーティング法、スライ� ��コーティング法、印刷コーティング法、流� ��成膜法等が挙げられる。尚、本発明の重合� ��の膜厚は、用途等に応じて適宜選択される� ��、好ましくは0.001~30μm、より好ましくは0.001 ~10μm、特に好ましくは0.005~8μmの範囲から選� �される。

 本発明の重合性組成物中の液晶分子を配� ��させる方法としては、例えば、支持基板上� ��事前に配向処理を施す方法が挙げられる。� ��向処理を施す好ましい方法としては、各種� ��リイミド系配向膜又はポリビニルアルコー� ��系配向膜からなる液晶配向層を支持基板上� ��設け、ラビング等の処理を行う方法が挙げ� ��れる。また、支持基板上の重合性組成物に� ��場や電場等を印加する方法等も挙げられる� ��

 本発明の重合性組成物を重合させる方法� ��、光、電磁波又は熱を用いる公知の方法を� ��用できる。光又は電磁波による重合反応と� ��ては、例えば、ラジカル重合、アニオン重� ��、カチオン重合、配位重合、リビング重合� ��が挙げられる。これらの重合反応によれば� ��重合性組成物が液晶相を示す条件下で、重� ��を行なわせることが容易である。また、磁� ��や電場を印加しながら架橋させることも好� ��しい。支持基板上に形成した液晶(共)重合� �は、そのまま使用しても良いが、必要に応� �て、支持基板から剥離したり、他の支持基� �に転写したりして使用してもよい。

 上記光の好ましい種類は、紫外線、可視光� ��、赤外線等である。電子線、X線等の電磁波 を用いてもよい。通常は、紫外線又は可視光 線が好ましい。好ましい波長の範囲は150~500nm である。さらに好ましい範囲は250~450nmであり 、最も好ましい範囲は300~400nmである。光源と しては、低圧水銀ランプ(殺菌ランプ、蛍光� �ミカルランプ、ブラックライト)、高圧放電� ��ンプ(高圧水銀ランプ、メタルハライドラン プ)、ショートアーク放電ランプ(超高圧水銀� ��ンプ、キセノンランプ、水銀キセノンラン� ��)等が挙げられるが、超高圧水銀ランプを使 用することが好ましい。光源からの光はその まま重合性組成物に照射してもよく、フィル ターによって選択した特定の波長(又は特定� �波長領域)を重合性組成物に照射してもよい� ��好ましい照射エネルギー密度は、2~5000mJ/cm ² であり、さらに好ましい範囲は10~3000mJ/cm ² であり、特に好ましい範囲は100~2000mJ/cm ² である。好ましい照度は0.1~5000mW/cm ² であり、さらに好ましい照度は1~2000mW/cm ² である。光を照射するときの温度は、重合性 組成物が液晶相を有するように設定できるが 、好ましい照射温度は100℃以下である。100℃ 超の温度では熱による重合が起こり得るので 、良好な配向が得られないときがある。

 本発明の重合体は、光学異方性を有する� ��形体として利用することができる。この成� ��体は、例えば、位相差板(1/2波長板、1/4波長 板等)、偏光素子、二色性偏光板、液晶配向� �、配向制御材、反射防止膜、選択反射膜、� �野角補償膜等の光学フィルム等に用いて光� �補償に使用することができる。その他にも� �液晶レンズ、マイクロレンズ等の光学レン� �、高分子分散型液晶(PDLC)電子ペーパー、デ� �タルペーパー等の情報記録材料にも利用す� �ことができる。