以下、本発明について、具体例を用いて� ��明するが、本発明は、これに限定されるも� ��ではない。また、本発明において、各成分� ��たは基について、例示されたものを単独で� ��いてもよいし、複数組み合わせて用いても� ��い。

 はじめに、本発明のチエタン化合物につい� ��説明する。
 本発明のチエタン化合物は、分子内にチエ� ��ン基および金属原子を含有する化合物であ� ��、下記一般式(1)で表される。

(上記一般式(1)中、Mは長周期型周期表の14族� �素を表す。X ₁ は各々独立に硫黄原子または酸素原子を表す 。pは2以上(n-1)以下の整数を表し、nは金属原� ��Mの価数を表す。
 n-pが1の場合、R ₂ は、置換基を有してもよい炭素数1以上3以下� ��直鎖状もしくは分岐鎖を有するアルキル基� ��表す。
 n-pが2以上の場合、複数のR ₂ は、各々独立に、置換基を有してもよい炭素 数1以上3以下の直鎖状もしくは分岐鎖を有す� ��アルキル基を表す。また、複数のR ₂ が互いに結合してMを含む環を形成してもよ� �、この場合、環を形成するアルキル鎖は炭� �数1以上3以下であり、環を構成する部分には 、硫黄原子を含まない。)

 上記一般式(1)において、Mは、Sn原子、Si原� �、Ge原子、Pb原子等の長周期型周期表(以下、 同じ。)の14族の元素を表す。
 Mは、好ましくは、Sn原子、Pb原子等の高周� �の14族の金属元素であり、さらに具体的には Sn原子である。

 上記一般式(1)において、X ₁ は、各々独立に、硫黄原子または酸素原子で ある。上記一般式(1)に示したチエタン化合物 を含む重合性組成物を重合して得られる樹脂 の屈折率を向上させる観点では、X ₁ が硫黄原子であることが好ましい。
 また、さらに具体的には、上記一般式(1)に� ��いて、X ₁ は硫黄原子であって、MがSn原子であってもよ い。

 上記一般式(1)において、nは金属原子Mの価� �を表す。
 また、上記一般式(1)において、pは、(Mの価� ��-1)以下の正の整数である。つまり、pは2以� �(n-1)以下の整数である。

 R ₂ は、置換基を有してもよい炭素数1以上3以下� ��直鎖状もしくは分岐鎖を有するアルキル基� ��表す。
 n-pが2以上の場合、R ₂ は、各々独立に置換基を有してもよい炭素数 1以上3以下の直鎖状もしくは分岐鎖を有する� ��ルキル基を表す。複数のR ₂ は、同じ基であってもよいし、全部または一 部が異なる基であってもよい。また、複数の R ₂ が互いに結合し、Mを含む環を形成してもよ� �。この場合、環を形成するアルキル鎖は炭� �数1以上3以下であり、硫黄原子は、Mに直接� �合しているもののみである。つまり、R ₂ のうち、環を構成する部分には硫黄原子を含 まない。

 R ₂ が環を形成しない場合、R ₂ として、具体的には、メチル基、エチル基、 プロピル基、イソプロピル基、つまり炭素数 1以上3以下のアルキル基が挙げられる。また� ��を形成した場合、環を形成するアルキル鎖� ��しては、メチレン基、エチレン基、プロピ� ��ン基、つまり炭素数1以上3以下のアルキレ� �基が挙げられる。Mを含む環は、具体的には� ��4員環から6員環である。なお、Mを含む環が4 員環のとき、環を構成する二つのR ₂ のうちの一つは、具体的には単結合である。

 さらに具体的には、環を形成しない場合、R ₂ はメチル基であり、また環を形成する場合は 環を形成するアルキル鎖はエチレン基である 。上記一般式(1)において、さらに具体的には 、X ₁ は硫黄原子、MはSn原子、R ₂ はメチル基またはメチレン基としてもよい。

 上記一般式(1)に示される化合物は、以下に� ��体的に例示されるが、これらに限定される� ��のではない。
 メチルチオトリス(チエタニルチオ)スズ、� �チルチオトリス(チエタニルチオ)スズ、プロ ピルチオトリス(チエタニルチオ)スズ、イソ� ��ロピルチオトリス(チエタニルチオ)スズ等� �アルキルチオ(チエタニルチオ)スズ;
ビス(メチルチオ)ビス(チエタニルチオ)スズ� �ビス(エチルチオ)ビス(チエタニルチオ)スズ� ��ビス(プロピルチオ)ビス(チエタニルチオ)ス ズ、ビス(イソプロピルチオ)ビス(チエタニル チオ)スズ等のビス(アルキルチオ)ビス(チエ� �ニルチオ)スズ;
エチルチオ(メチルチオ)ビス(チエタニルチオ )スズ、メチルチオ(プロピルチオ)ビス(チエ� �ニルチオ)スズ、イソプロピルチオ(メチルチ オ)ビス(チエタニルチオ)スズ、エチルチオ(� �ロピルチオ)ビス(チエタニルチオ)スズ、エ� �ルチオ(イソプロピルチオ)ビス(チエタニル� �オ)スズ、イソプロピルチオ(プロピルチオ)� �ス(チエタニルチオ)スズ等のアルキルチオ(� �ルキルチオ)ビス(チエタニルチオ)スズ;およ� ��
ビス(チエタニルチオ)ジチアスタンネタン、� ��ス(チエタニルチオ)ジチアスタンノラン、� �ス(チエタニルチオ)ジチアスタンニナン等の ビス(チエタニルチオ)環状ジチオスズ化合物� ��

 次に、上記一般式(1)に示したチエタン化合� ��の製造方法を説明する。
 上記一般式(1)に示したチエタン化合物の製� ��方法に特に制限はないが、たとえば、下記� ��般式(2)で示されるハロゲン化物と、下記一� ��式(3)で表されるチエタン基を有するヒドロ� ��シ化合物またはチオール化合物との反応に� ��り製造される。

(上記一般式(2)中、M、p、nおよびR ₂ は、それぞれ、上記一般式(1)におけるM、p、n およびR ₂ に同じであり、Zはハロゲン原子を表す。)

(上記一般式(3)中、X ₁ は、上記一般式(1)におけるX ₁ に同じである。)

 また、上記一般式(2)においてn=pであるハロ� ��ン化物と、上記一般式(3)で表されるチエタ� ��基を有するヒドロキシ化合物またはチオー� ��化合物と、下記一般式(4)で示されるチオー� ��化合物とを同時に反応させても製造できる� ��
R ₂ -SH (4)
(上記一般式(4)中、R ₂ は、上記一般式(1)におけるR ₂ に同じである。)

 また、上記一般式(2)においてn=pであるハ� ��ゲン化物と上記一般式(3)で表されるチエタ� ��基を有するヒドロキシ化合物またはチオー� ��化合物とをあらかじめ反応させて得られた� ��合物と、上記一般式(4)で表されるチオール� ��合物とを反応することによっても製造でき� ��。

 以上の製造方法例で用いる化合物のうち、� ��記一般式(2)および(4)に示した化合物は、工� ��用原料または研究用試薬として入手可能で� ��る。
 また、上記一般式(3)で表される化合物は公� ��化合物であって、たとえば、特許文献2(特� �2003-327583号公報)に記載の方法に準じて製造� �きる。

 以上の製造方法例における各反応は、い� ��れも無溶媒で行ってもよく、あるいは、反� ��に不活性な溶媒の存在下に行ってもよい。

 かかる溶媒としては、反応に不活性な溶媒� ��あれば特に限定するものではなく、石油エ� ��テル、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キ� ��レン、メシチレンなどの炭化水素系溶媒;
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ エチレングリコールジメチルエーテルなどの エーテル系溶媒;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ ブチルケトンなどのケトン系溶媒;
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどの エステル系溶媒;
塩化メチレン、クロロホルム、クロルベンゼ ン、ジクロルベンゼンなどの含塩素系溶媒;
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセ� ��アミド、N,N-ジメチルイミダゾリジノン、ジ メチルスルホキシドなどの非プロトン性極性 溶媒;
メタノール、エタノール、プロパノール、イ ソプロパノールなどのアルコール系溶媒;お� �び
水などが例示される。

 また、各製造方法例における各反応の反� ��温度は、特に制限するものではないが、通� ��、-78℃以上200℃以下の範囲であり、好まし� ��は、-78℃以上100℃以下である。

 また、反応時間は反応温度により影響さ� ��るが、通常、数分から100時間である。

 また、各製造方法例の反応における、上� ��一般式(2)で表される化合物と上記一般式(3)� ��表される化合物の使用量は、特に限定する� ��のではないが、通常、上記一般式(2)で表さ� ��る化合物中に含有されるハロゲン原子1モル に対して、上記一般式(3)で表される化合物の 使用量は、0.01モル以上100モル以下である。� �ましくは、0.1モル以上50モル以下であり、よ り好ましくは、0.5モル以上20モル以下である� ��

 また、各製造方法例において、反応を実施� ��るに際し、反応を効率よく行うために、生� ��するハロゲン化水素の捕捉剤として塩基性� ��合物を用いることは好ましい。
 かかる塩基性化合物として、たとえば、水� ��化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リ� ��ウム、アンモニア水、炭酸ナトリウム、炭� ��カリウム、炭酸リチウム、重炭酸ナトリウ� ��、重炭酸カリウム、重炭酸リチウム、水酸� ��マグネシウム、水酸化カルシウムなどの無� ��塩基;および
ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニ リン、ジエチルアニリン、1,8-ジアザビシク� �[5,4,0]-7-ウンデセン、ナトリウムメトキシド� ��ナトリウムエトキシドなどの有機塩基が例� ��される。

 次に、本発明の重合性組成物について説明� ��る。
 本発明の重合性組成物は、上記一般式(1)に� ��したチエタン化合物を含む。この重合性組� ��物は、たとえば光学部品の材料として用い� ��れる。
 本発明において、重合性組成物中の上記一� ��式(1)に示したチエタン化合物の割合は特に� ��限はなく、所望の物性により適宜決められ� ��。

 本発明の重合性組成物は、上記一般式(1)� ��示したチエタン化合物として、一種類の化� ��物を含んでいてもよいし、異なる複数の化� ��物を含んでいてもよい。

 また、上記一般式(1)に示したチエタン化� ��物は、重合性化合物である。このため、本� ��明の重合性組成物中の重合性化合物が、上� ��一般式(1)に示したチエタン化合物から構成� ��れていてもよい。

 また、本発明の重合性組成物中の重合性� ��合物が、上記一般式(1)に示したチエタン化� ��物に加えて、他の重合性化合物を含んでい� ��もよく、また、複数の重合性化合物を組み� ��わせて使用してもよい。

 他の重合性化合物としては、公知の各種� ��合性モノマーまたは重合性オリゴマーが挙� ��られ、たとえば、(メタ)アクリル酸エステ� �化合物、ビニル化合物、エポキシ化合物、� �ピスルフィド化合物、オキセタン化合物、� �エタン化合物、イソシアネート化合物とチ� �ール化合物からなるチオウレタン化合物な� �が挙げられる。

 また、本発明の重合性組成物は、必要に� ��じて、重合速度等の調整のため公知公用の� ��合触媒をさらに含んでいてもよい。

 さらに、重合性組成物を硬化してなる樹� ��の屈折率、アッベ数等の光学物性のさらな� ��調整や、色相、耐光性や耐候性、耐熱性、� ��衝撃性、硬度、比重、線膨張係数、重合収� ��率、吸水性、吸湿性、耐薬品性、粘弾性等� ��諸物性を調整、透過率や透明性の調整、重� ��性組成物の粘度、その他保存や輸送方法の� ��扱い性を調整するためなど、樹脂の改良や� ��り扱い性を改良する目的で、本発明の重合� ��組成物に精製や洗浄、保温、保冷、濾過、� ��圧処理などの有機化合物を合成する際に一� ��的に用いられる手法、操作を施したり、ま� ��、公知の化合物等を安定剤や樹脂改質剤と� ��て加えたりすることは、良好な樹脂を得る� ��的で好ましい場合がある。長期の保存安定� ��や、重合安定性、熱安定性などの安定性向� ��のために加えられるものとしては、重合遅� ��剤や重合禁止剤、脱酸素剤、酸化防止剤な� ��の化合物が挙げられる。

 重合性組成物を精製するのは、硬化して� ��られる樹脂の透明性を改良したり、色相を� ��良するためや純度を上げるために用いられ� ��手法である。本発明の重合性組成物を精製� ��る際には、公知の方法、たとえば、再結晶� ��カラムクロマト法(シリカゲル法や活性炭法 、イオン交換樹脂法など)、抽出などのいか� �る手法をいかなるタイミングで行ってもよ� �、一般に精製して得られる組成物を硬化さ� �て得られる樹脂の透明性や色相が改良され� �いればよい。

 重合性組成物を洗浄する方法は、硬化し� ��得られる樹脂の透明性を改良したり、色相� ��改良するのに用いられる手法であるが、重� ��性組成物を合成して取り出す際または合成� ��の取り出した後などのタイミングで極性お� ��び/または非極性溶媒で洗浄し、樹脂の透明 性を阻害する物質、たとえば、重合性組成物 を合成する際に使用されるまたは副生する無 機塩、たとえば、アンモニウム塩などを取り 除く方法または減量する方法が挙げられる。 用いる溶媒は、洗浄される重合性組成物その ものや重合性組成物を含有する溶液の極性等 により一概に限定はできないが、取り除きた い成分を溶解可能で、かつ、洗浄される重合 性組成物そのものや重合性組成物を含有する 溶液と相溶しにくいものが好ましく、一種類 のみならず、二種類以上を混合して使用して もよい。ここで取り除く成分は目的や用途に 応じて異なるが、なるべく少なくしておくこ とが好ましく、通常5000ppm以下、より好まし� �は1000ppm以下とすると良い結果が得られる場� ��がある。

 重合性組成物を保温・保冷・濾過する方� ��は、硬化して得られる樹脂の透明性を改良� ��たり、色相を改良するのに用いられる手法� ��あるが、重合性組成物を合成して取り出す� ��または合成後の取り出した後などのタイミ� ��グで行うのが一般的である。保温方法とし� ��は、たとえば、重合性組成物が保管中に結� ��化し、ハンドリングが悪くなった場合に、� ��合性組成物および重合性組成物を硬化させ� ��なる樹脂の性能が低下しない範囲で加熱溶� ��する方法が挙げられる。加熱する温度範囲� ��加熱溶解する方法は、取り扱われる重合性� ��成物を構成する化合物の構造により一概に� ��定できないが、通常、凝固点+50℃以内の温� ��で行われ、好ましくは+20℃以内であり、攪� ��可能な装置で機械的に攪拌したり、組成物� ��不活性なガスでバブリングすることで内液� ��動かし溶解する方法などが挙げられる。保� ��とは重合性組成物の保存安定性を高める目� ��で通常行われるが、たとえば重合性組成物� ��融点が高い場合には、結晶化後の取り扱い� ��を向上させるため、保管温度を考慮すると� ��い。保冷温度は取り扱われる重合性組成物� ��構成する化合物の構造、保存安定性により� ��概に限定できないが、通常は、本発明の重� ��性組成物の安定性が維持できる温度以下で� ��存する必要がある。

 また、本発明の重合性組成物が、光学用� ��に用いる重合性組成物の場合、その非常に� ��い透明性を要求されることから、通常重合� ��組成物を孔径の小さいフィルターで濾過す� ��とよい。ここで用いるフィルターの孔径は� ��常0.05μm以上10μm以下で行われるが、操作性� ��性能を考慮すれば、好ましくは、0.05μm以上 5μm以下であり、より好ましくは0.1μm以上3μm� ��下である。本発明の重合性組成物も例外で� ��く濾過すると良い結果が得られる場合が多� ��。濾過する温度については、凝固点付近の� ��温で行うとさらに好ましい結果が得られる� ��合があるが、濾過中に凝固が進行するよう� ��場合は、濾過作業に支障を来さない温度で� ��うと良い場合がある。

 減圧処理は、一般的に重合性組成物を硬� ��させてなる樹脂の性能を低下させる溶媒や� ��存ガス、臭気を取り除くのに行われる手法� ��ある。溶存溶媒は一般に得られる樹脂の屈� ��率低下や耐熱性低下を招くことがあるため� ��可能な限り取り除くとよい。溶存溶媒の許� ��値は、取り扱われる重合性組成物を構成す� ��化合物の構造、溶存する溶媒の構造により� ��概に限定できないが、通常1%以下とするの� �好ましく、より好ましくは、5000ppm以下であ� ��。溶存ガスは重合の阻害を抑制する観点お� ��び得られる樹脂に気泡が混入するのを抑制� ��る観点から、取り除く方が好ましい。特に� ��水蒸気などの水分を意味するガスについて� ��、とりわけ乾燥ガスでバブリングするなど� ��て除去した方が好ましい。溶存量について� ��、重合性組成物を構成する化合物の構造、� ��存するガスの物性および構造、種類に応じ� ��設定できる。

 本発明における重合性組成物の製造方法� ��して、代表的には、上記一般式(1)に示した� ��合物と、必要に応じて上記の他の各種重合� ��化合物とを併用して、さらに必要に応じて� ��合触媒を添加した後、混合、溶解させる方� ��などが挙げられる。

 得られた重合性組成物は、たとえば極め� ��高い屈折率を有する透明樹脂用の原料モノ� ��ー組成物として有用である。

 また、得られた重合性組成物は、通常、公� ��のチエタン基含有化合物を重合する際の方� ��に準じて重合し、硬化させることができる� ��
 硬化樹脂を得るための重合触媒等の種類や� ��、単量体の種類や割合は、重合性組成物を� ��成する化合物の構造により設定される。

 本発明の重合性組成物を硬化し成形する� ��には、目的に応じて、公知の成形法と同様� ��、安定剤、樹脂改質剤、鎖延長剤、架橋剤� ��ヒンダードアミン(Hindered Amine Light Stabilize rs:HALS)系を代表とする光安定剤、ベンゾトリ� ��ゾール系を代表とする紫外線吸収剤、ヒン� ��ードフェノール系を代表とする酸化防止剤� ��着色防止剤、アントラキノン系分散染料を� ��表とする染料やブルーイング剤、充填剤、� ��リコーン系を代表とする外部離型剤または� ��性燐酸エステル、4級アンモニウム塩もしく は4級ホスホニウム塩等の界面活性剤を代表� �する内部離型剤、密着性向上剤などの種々� �物質を添加してもよい。ここで、内部離型� �は、前述の各種触媒のうち離型効果を示す� �のをも含む。

 上記の添加可能な各種添加剤の添加量は� ��それぞれの添加剤の種類、構造、効果によ� ��異なり一概に限定することはできないが、� ��常、重合性組成物の総重量に対して0.001重� �%以上10重量%以下の範囲で用いられ、好まし� ��は0.01重量%以上5重量%以下の範囲で使用され る。染料やブルーイング剤については、1ppb� �上100ppm以下の範囲で使用すると好ましい。� �れらの範囲内であれば、さらに良好に硬化� �た樹脂の製造が可能であり、得られる樹脂� �透明性、光学物性がさらに良好なものとな� �場合がある。

 上記重合性組成物を重合することにより� ��樹脂が得られる。重合方法としては、プラ� ��チックレンズを製造する際に用いられる公� ��の各種方法が挙げられるが、代表的には、� ��型重合が挙げられる。

 本発明の重合性組成物を注型重合する際� ��は、必要に応じて、重合性組成物に対して� ��圧下での脱法処理やフィルターろ過を行っ� ��後、成型用モールドに注入し、必要に応じ� ��加熱して重合を行う。この場合、低温から� ��温へ徐々に加熱して重合することが好まし� ��。

 上述の成型用モールドは、たとえば、ポ� ��エチレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、 ポリ塩化ビニル等からなるガスケットを介し た鏡面研磨した二枚の鋳型により構成される 。鋳型は、代表的には、ガラスとガラスの組 み合わせであり、他にガラスとプラスチック 板、ガラスと金属板等の組み合わせの鋳型が 挙げられるが、これらに限定されるものでは ない。また、成型用モールドは2枚の鋳型を� �リエステル粘着テープなどのテープ等で固� �したものであってもよい。必要に応じて、� �型に対して離型処理など公知の処理方法を� �ってもよい。

 注型重合を行う場合、重合温度は重合開� ��剤の種類など重合条件によって影響される� ��で、限定されるものではないが、通常、-50� ��以上200℃以下であり、好ましくは、-20℃以� ��170℃以下であり、より好ましくは、0℃以上 150℃以下である。

 重合時間は、重合温度により影響される� ��、通常、0.01時間以上200時間以下であり、好 ましくは、0.05時間以上100時間以下である。� �た必要に応じて、定温や昇温、降温などを� �っていくつかの温度を組み合わせて重合を� �うことも可能である。

 また、本発明の重合性組成物は、電子線� ��紫外線や可視光線などの活性エネルギー線� ��照射することによっても重合を行うことが� ��きる場合がある。この際には、必要に応じ� ��、活性エネルギー線によって重合開始する� ��ジカル重合触媒やカチオン重合触媒が用い� ��れる。

 得られた樹脂は、硬化後、必要に応じて� ��アニール処理を施されてもよい。さらに必� ��に応じて、反射防止、高硬度付与、耐摩耗� ��向上、防曇性付与あるいはファッション性� ��与の目的で、表面研磨、帯電防止処理、ハ� ��ドコート処理、無反射コート処理、染色処� ��、調光処理(たとえば、フォトクロミックレ ンズ化処理など)など公知の各種物理的また� �化学的処理を施されてもよい。

 本発明の重合性組成物を重合することに� ��り得られる樹脂は、高い透明性、良好な耐� ��性と機械的強度を有しつつ、かつ、高屈折� ��を有しており、たとえば、プラスチックレ� ��ズなどの光学部品に用いられる樹脂として� ��用である。

 光学部品としては、たとえば、視力矯正用� ��鏡レンズ、撮像機器用レンズ、液晶プロジ� ��クター用フレネルレンズ、レンチキュラー� ��ンズ、コンタクトレンズなどの各種プラス� ��ックレンズ;
発光ダイオード(LED)用封止材;
光導波路;
光学レンズや光導波路の接合に用いる光学用 接着剤;
光学レンズなどに用いる反射防止膜;
基板、導光板、フィルム、シートなどの液晶 表示装置部材に用いる透明性コーティングま たは透明性基板などが挙げられる。