[ウレタン(メタ)アクリレート]
 本発明に使用する分子中に(メタ)アクリロ� �ル基を3個有するウレタン(メタ)アクリレー� �は、式(1)で表される構造を有する。

(式(1)中、Xは脂肪族ジイソシアネート化合物� ��三量体のイソシアナート基を除く残基又は� ��環族ジイソシアネート化合物の三量体のイ� ��シアナート基を除く残基であり、R ₁ は炭素原子数2~12のアルキレン基であり、R ₂ は炭素原子数2~16のアルキレン基であり、R ₃ は水素原子またはメチル基であり、nは1~10の� ��数である。)

 当該ウレタン(メタ)アクリレートは、架橋� �となる3つの(メタ)アクリロイル基を有し、� �叉状に各架橋点間の距離を一定の範囲に保� �できるため、形状保持に優れ、透湿性の低� �硬化被膜を形成できる。また、脂肪族又は� �環族ジイソシアネート化合物由来の骨格を� �することにより、光ディスクを構成する各� �、特に金属薄膜からなる光反射層と好適な� �着性を確保でき、また高温高湿環境下でも� �色を生じない硬化被膜を形成できる。
 式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレー� �は、例えば、イソシアネート基を3個以上有� ��る化合物と分子中に水酸基を有する(メタ)� �クリレート化合物とを反応させて得られる� �合物が挙げられる。

 式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレ� �トのなかでも、式(1)中のXが、下記式(2)又は� ��記式(3)で表される三価の基であるウレタン( メタ)アクリレートは、官能基数が3個である� ��もかかわらず該樹脂の製造が容易であり、� ��つ、三叉状の構造に芳香環を含まないため� ��光性に優れる特性を有することから好まし� ��使用できる。

(式(2)中R ₄ 、R ₅ 及びR ₆ は、各々独立して炭素数2~16の分岐を有して� �てもよい鎖状又は環状の炭化水素基を表す� �)

(式(3)中R ₇ 、R ₈ 及びR ₉ は、各々独立して炭素数2~16の分岐を有して� �てもよい鎖状又は環状の炭化水素基を表す� �)

 なかでも、式(3)で表される基は、特に低� ��性率であり接着力や耐久性に優れた硬化被� ��を形成できるため好ましい。

 また、上記式(2)及び(3)中のRは優れた耐光 性のため、炭素数4~10の鎖状の炭化水素基又� �下記式(4)で表される環状の炭化水素基が好� �しく、炭素数4~8の鎖状の炭化水素基がより� �ましい。

 また、反りを発生しにくくするため、式(1)� ��のR ₁ は炭素原子数3~7のアルキレン基が好ましく、 炭素原子数5の直鎖状のアルキレン基がより� �ましくい。また同様にR ₂ としては、炭素原子数2~5のアルキレン基が好 ましく、炭素原子数2の直鎖状のアルキレン� �がより好ましい。さらにnとしては、1~5が好� ��しく、2~4がより好ましい。

[単官能又は二官能(メタ)アクリレート]
 本発明においては、式(1)で表されるウレタ� ��(メタ)アクリレートと併用して、単官能や� �官能の(メタ)アクリレートを併用することで 、高温高湿環境下においても黄変や反射率の 低下が生じにくい、優れた耐久性を有する硬 化被膜を形成することができる。また、特性 悪化の原因となる反りの発生も少ない。

 本発明に使用する単官能(メタ)アクリレ� �トとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレ ート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチル� �キシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)ア� ��リレート、トリデシル(メタ)アクリレート� �ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデ シル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)� �クリレート、イソデシル(メタ)アクリレート 、イソステアリル(メタ)アクリレート、シク� ��ヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メ� ��)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)� �クリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル (メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)� �クリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレ ート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリ� ��ート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アク� �レート、グリシジル(メタ)アクリレート、2-� ��ドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アク� �レート、ノニルフェノキシエチルテトラヒ� �ロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラ クトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)ア� ��リレート等が挙げられる。

 なかでも、フェノキシエチル(メタ)アク� �レート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アク リレート、エチルカルビトール(メタ)アクリ� ��ート、イソボルニルアクリレートが希釈効� ��の観点から好ましい。

 本発明に使用する二官能(メタ)アクリレ� �トとしては、例えば、1,4-ブタンジオールジ( メタ)アクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジ� ��ールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジ� ��ールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチル� �リコールジ(メタ)アクリレート、2-メチル-1,8 -オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、2-� ��チルー2-エチルー1,3-プロパンジオールジ(メ タ)アクリレート、エチレングリコールジ(メ� ��)アクリレート、ジエチレングリコールジ(� �タ)アクリレート、ジプロピレングリコール� ��(メタ)アクリレート、トリプロピレングリ� �ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレン グリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオ� ��シアルキルエーテル(メタ)ポリアクリレー� �類、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ� �コールジ(メタ)アクリレート;ノルボルナン� �メタノールジアクリレート、ノルボルナン� �エタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボル ナンジメタノールにエチレンオキサイド又は プロピレンオキサイド2モル付加して得たジ� �ールのジ(メタ)アクリレート、トリシクロデ カンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ト� ��シクロデカンジエタノールジ(メタ)アクリ� �ート、トリシクロデカンジメタノールにエ� �レンオキサイド又はプロピレンオキサイド2� ��ル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリ� �ート、ペンタシクロペンタデカンジメタノ� �ルジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペン タデカンジエタノールジ(メタ)アクリレート� ��ペンタシクロペンタデカンジメタノールに� ��チレンオキサイド又はプロピレンオキサイ� ��2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アク� ��レート、ペンタシクロペンタデカンジエタ� ��ールにエチレンオキサイド又はプロピレン� ��キサイド2モル付加して得たジオールのジ(� �タ)アクリレート等の脂環構造を有するモノ� ��ー類等を挙げることができる。

 なかでも、トリシクロデカンジメタノー� ��ジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリ� �ールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレン グリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサ ンジオールジ(メタ)アクリレートが耐久性、� ��変色性に優れるため好ましい。

 また、二官能(メタ)アクリレートとして� �、二官能のエポキシ(メタ)アクリレートなど のオリゴマーを使用してもよい。

[光透過層用紫外線硬化型組成物]
 本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物は� ��式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレー� �と、単官能(メタ)アクリレート及び二官能(� �タ)アクリレートの少なくとも一種とを含有� ��、式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレ� �ト、並びに、単官能(メタ)アクリレート及び 二官能(メタ)アクリレートの含有量の和が、� ��外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性� ��合物中の90質量%以上含有することにより、� ��温高湿環境下においても黄変や反射率の低� ��が生じにくい、優れた耐久性を有する硬化� ��膜を形成することができる。また、特性悪� ��の原因となる反りの発生も少ない。

 本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物� ��のウレタン(メタ)アクリレートの含有量は� �含有する紫外線硬化性化合物中の40~80質量%� �あることが好ましく、50~70質量%であること� �特に好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート を当該含有量とすることにより、優れた形状 保持性や接着性を有し、かつ高温高湿環境下 で光反射膜の劣化の少ない硬化被膜を好適に 形成できる。

 また、単官能(メタ)アクリレートと二官� �(メタ)アクリレートとを併用することで接着 性や耐久性、さらには反りの低減等の特性を 好適に制御できる。単官能(メタ)アクリレー� ��と二官能(メタ)アクリレートとを併用する� �合には、紫外線硬化型組成物に含まれる紫� �線硬化性化合物中の単官能(メタ)アクリレー トの含有量が5~30質量%であることが好ましく� ��5~20質量%であることが好ましい。また、二� �能(メタ)アクリレートの含有量は10~50質量%で あることが好ましく、10~35質量%であることが 好ましい。単官能及び二官能(メタ)アクリレ� ��トの含有量を上記範囲とすることで、粘度� ��硬化被膜の弾性率を好適に調整でき、収縮� ��反りが少なく、かつ優れた接着性の硬化被� ��を実現できる。

 本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物� ��には、式(1)で表されるウレタン(メタ)アク� �レートおよび上記単官能、二官能(メタ)アク リレートの以外に、公知の光重合開始剤、及 び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。

 本発明に使用できる光重合開始剤として� ��、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル� ��2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピ� ��チオキサントン、ベンジル、1-ヒドロキシ� �クロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン� �チルエーテル、ベンジルジメチルケタール� �2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1- オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキ シ-2-メチルプロパン-1-オン及び2-メチル-1-(4-� ��チルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン -1-オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、 4-フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェ� ��ン、4-ベンゾイル-4’-メチル-ジフェニルス� ��フィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤� ��がある。

 本発明に使用できる添加剤としては、界� ��活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒ� ��ダードフェノール、ホスファイト等の酸化� ��止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使� ��することもできる。また、増感剤として、� ��えば、トリメチルアミン、メチルジメタノ� ��ルアミン、トリエタノールアミン、p-ジメ� �ルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノ 安息香酸エチル、p-ジメチルアミノ安息香酸� ��ソアミル、N,N-ジメチルベンジルアミン及び 4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等 が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と 付加反応を起こさないアミン類を併用するこ ともできる。

 本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物� ��必要に応じて、上記の(メタ)アクリレート� �外に他の紫外線硬化性化合物を使用しても� �い。他の(メタ)アクリレートとしては、トリ メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート� ��ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ� �ト、ビス(2-アクリロイルオキシエチル)ヒド� ��キシエチルイソシアヌレート、ビス(2-アク� ��ロイルオキシプロピル)ヒドロキシプロピル イソシアヌレート、ビス(2-アクリロイルオキ シブチル)ヒドロキシブチルイソシアヌレー� �、ビス(2-メタクリロイルオキシエチル)ヒド� ��キシエチルイソシアヌレート、ビス(2-メタ� ��リロイルオキシプロピル)ヒドロキシプロピ ルイソシアヌレート、ビス(2-メタクリロイル オキシブチル)ヒドロキシブチルイソシアヌ� �ート、トリス(2-アクリロイルオキシエチル)� ��ソシアヌレート、トリス(2-アクリロイルオ� ��シプロピル)イソシアヌレート、トリス(2-ア クリロイルオキシブチル)イソシアヌレート� �トリス(2-メタクリロイルオキシエチル)イソ� ��アヌレート、トリス(2-メタクリロイルオキ� ��プロピル)イソシアヌレート、トリス(2-メタ クリロイルオキシブチル)イソシアヌレート� �のイソシアヌレート構造を有するモノマー� �、;ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)ア� �リレート、エチレンオキサイド変性リン酸(� ��タ)アクリレート、エチレンオキサイド変性 アルキル化リン酸(メタ)アクリレート、ジエ� ��ルアミノエチル(メタ)アクリレート、N-ビニ ルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、ビ� ��ルエーテルモノマー等を挙げることができ� ��。

 本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物� ��粘度は、25℃において、1000~3000(mPa・s)であ� �ことが好ましく、1200~2500(mPa・s)であること� �より好ましい。粘度を当該範囲とすること� �厚膜形成が容易になる。

 本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物� ��硬化被膜の弾性率は、25℃において150~1500(MP a)であることが好ましく、150~1000(MPa)であるこ とがより好ましい。硬化被膜の弾性率が当該 範囲であると硬化時の歪みが緩和され易く、 高温高湿環境下に長時間曝されても接着力の 低下が少なく、反りが少ない光ディスクを得 ることができる。

[光ディスク]
 本発明の光ディスクは、基板上に、少なく� ��も光反射層と光透過層とが形成され、前記� ��透過層を通してレーザー光により記録又は� ��生を行う光ディスクであって、前記光透過� ��が、上記の光透過層用紫外線硬化型組成物� ��硬化物からなるものである。本発明の光デ� ��スクは、光透過層として、上記した光透過� ��用紫外線硬化型組成物を使用することによ� ��、高温高湿下でも接着力の低下が生じにく� ��、銀又は銀合金を反射膜として使用した場� ��であっても、優れた耐久性や耐光性を得る� ��とができるため、良好に情報の記録・再生� ��行うことができる。

 本発明の光ディスクにおける光透過層は� ��レーザー光の発振波長が370~430nmであるブル� ��レーザーを効率良く透過することが好まし� ��、100μmの厚さにおいて405nmの光の透過率が85 %以上であることが好ましく、90%以上である� �とが特に好ましい。

 光透過層の厚みは総厚さが50~150μmの範囲� ��あり、75~150μmであることが特に好ましい。� ��透過層の厚みは、単層の場合、約100μmに設� ��されるが、厚みは光透過率や信号の読み取� ��及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分� ��管理が必要である。光透過層は、当該厚さ� ��硬化層単層で形成されていても、複数層が� ��層されていてもよい。複数層の場合には各� ��透過層の厚さの和が上記厚さの範囲である� ��とが好ましい。

 光反射層としては、レーザー光を反射し� ��記録・再生が可能な光ディスクを形成でき� ��ものであればよく、例えば、金、銅、アル� ��ニウムなどの金属又はその合金、シリコン� ��どの無機化合物を使用できる。なかでも、4 00nm近傍の光の反射率が高いことから銀又は� �を主成分とする合金を使用することが好ま� �い。光反射層の厚さは、10~60nm程度の厚さと� ��ることが好ましい。

 基板としては、ディスク形状の円形樹脂� ��板を使用でき、当該樹脂としてはポリカー� ��ネートを好ましく使用できる。光ディスク� ��再生専用の場合には、基板上に情報記録を� ��うピットが光反射層と積層される表面に形� ��される。

 また、書込可能な光ディスクの場合には� ��光反射層と光透過層との間に情報記録層が� ��けられる。情報記録層としては、情報の記� ��・再生が可能であればよく、相変化型記録� ��、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録� ��のいずれであってもよい。

 情報記録層が相変化型記録層である場合� ��は、当該情報記録層は通常、誘電体層と相� ��化膜から構成される。誘電体層は、相変化� ��に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの� ��射率を調整する機能を求められ、ZnSとSiO2の 混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相 変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を 生じるものであり、Ge-Sb-Te系、Sb-Te系、Ag-In-Sb -Te系合金を用いることができる。

 本願発明の光ディスクは、情報記録部位� ��二つ以上形成されていても良い。例えば、� ��生専用光ディスクの場合には、ピットを有� ��る基板上に、第一の光反射層、第一の光透� ��層が積層され、当該第一の光透過層上又は� ��の層を積層し、当該層上に第二の光反射層� ��第二の光透過層を形成してもよい。この場� ��には第一の光透過層やこれに積層する他の� ��上にピットが形成される。また、記録・再� ��可能な光ディスクの場合は、基板上に、情� ��記録層、光反射層及び光透過層が積層され� ��構成を有するものであるが、当該光透過層� ��に更に、第二の光反射層、第二の情報記録� ��、第二の光透過層を形成して二層の情報記� ��層を有する構成、あるいは、同様に層を積� ��して三層以上の情報記録層を有する構成と� ��てもよい。複数層を積層する場合には、各� ��の層厚さの和が上記の厚さになるように適� ��調整すればよい。

 また、本発明の光ディスクにおいては、� ��透過層が最表面の層であってもよいが、更� ��その表層に表面コート層を設けてもよい。

 本発明の光ディスクには、再生専用のデ� ��スクと、記録・再生可能なディスクがある� ��再生専用のディスクは、1枚の円形樹脂基板 を射出成形する際に、情報記録層であるピッ トを設け、次いで該情報記録層上に光反射層 を形成し、更に、該光反射層上に光透過層用 紫外線硬化型組成物をスピンコート法等によ り塗布した後、紫外線照射により硬化させて 光透過層を形成することにより製造すること ができる。また、記録・再生可能なディスク は、1枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成� �、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の� �報記録層を設け、更に、該光反射層上に光� �過層用紫外線硬化型組成物をスピンコート� �等により塗布した後、紫外線照射により硬� �させて光透過層を形成することにより製造� �ることができる。

 光反射層上に塗布した光透過層用紫外線� ��化型組成物を紫外線照射することにより硬� ��させる場合、例えばメタルハライドランプ� ��高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で� ��うこともできるし、USP5904795記載の閃光照射 方式で行うこともできる。効率よく硬化出来 る点で閃光照射方式がより好ましい。

 紫外線を照射する場合、積算光量は0.05~1J/cm ² となるようにコントロールするのが好ましい 。積算光量は0.05~0.8J/cm ² であることがより好ましく、0.05~0.6J/cm ² であることが特に好ましい。本発明の光ディ スクに使用する光透過層用紫外線硬化型組成 物は、積算光量が少量であっても、十分に硬 化し、光ディスク端面や表面のタックが発生 せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生し ない。

 本発明の光ディスクは、温度80℃、湿度85%� �環境下で24時間暴露した後の光透過層と光反 射層との間の接着力が、3kgf/cm ² 以上であることが好ましく、5kgf/cm ² 以上であると更に好ましい。両層の接着力が 当該接着力以上であると、長期に高温高湿環 境下にさらされた場合にも界面での剥離が生 じず好適に記録再生が可能である。

 また、本発明の光ディスクを温度80℃、� �度85%の環境下で240時間暴露した際の前後に� �いて、光透過層側から測定する405nmの光の正 反射率の変化が2%以内であることが好ましく� ��1%以内であることがより好ましい。暴露前� �の正反射率変化が上記範囲内であると、長� �に高温高湿環境下にさらされた場合にも光� �ィスクの記録再生を良好に行うことができ� �。さらに、蛍光灯暴露時の光反射率の変化� �2%以内、色差の変化率が3%以内であることが� ��ましい。

[実施態様]
 以下、本発明の光ディスクの具体例として� ��単層型光ディスク及び二層型光ディスクの� ��体的構成の一例を以下に示す。

 本発明の光ディスクのうち、単層型光デ� ��スクの好ましい実施態様としては、例えば� ��図1に示したように、基板1上に、光反射層2� ��、光透過層3とが積層され、光透過層側から ブルーレーザーを入射して情報の記録又は再 生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、 記録トラック(グルーブ)を模式的に表したも� ��である。光透過層3は、本発明の紫外線硬化 型組成物の硬化物からなる層であり、その厚 さは100±10μmの範囲である。基板1の厚さは1.1m m程度、光反射膜は銀等の薄膜である。

 図2は図1に示した構成の最表層にハード� �ート層4を設けた構成である。ハードコート� ��は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層である� ��とが好ましい。ハードコート層の厚さは、1 ~10μmであることが好ましく、3~5μmであること がより好ましい

 単層型光ディスクの好ましい実施態様と� ��ては、例えば、図1に示したように、基板1� �に、光反射層2と、光透過層3とが積層され、 光透過層側からブルーレーザーを入射して情 報の記録又は再生を行う構成が例示できる。 図中の凹凸は、記録トラック(グルーブ)を模� ��的に表したものである。光透過層3は、本発 明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層 であり、その厚さは100±10μmの範囲である。� �板1の厚さは1.1mm程度、光反射膜は銀等の薄� �である。

 多層型光ディスクの好ましい実施態様と� ��ては、例えば、図3に示したように、基板1� �に、光反射層5と、光透過層6とが積層され、 さらにその上に、光反射層2と、光透過層3と� ��積層され、光透過層3側からブルーレーザー を入射して情報の記録又は再生を行う二層型 光ディスクの構成が例示できる。光透過層3� �び光透過層6は、紫外線硬化型組成物の硬化� ��からなる層であり、少なくともいずれかの� ��が本発明の紫外線硬化型組成物からなる層� ��ある。層の厚さとしては、光透過層3の厚さ と光透過層6の厚さの和が100±10μmの範囲であ� ��。基板1の厚さは1.1mm程度、光反射膜は銀等� ��薄膜である。

 当該構成の二層型光ディスクにおいては� ��記録トラック(グルーブ)が、光透過層6の表� ��にも形成されるため、光透過層6は、接着性 に優れる紫外線硬化型組成物の硬化膜からな る層の上に、記録トラックを好適に形成でき る紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層を 積層した複層で形成されていてもよい。また 当該構成においても最表層にハードコート層 が設けられていてもよい。

 図1に示す光ディスクの製造方法を以下に説 明する。
 まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形す� ��ことによって、記録トラック(グルーブ)と� �ばれるレーザー光をトラッキングするため� �案内溝を有する基板1を作製する。次に基板1 の記録トラック側の表面に、銀合金などをス パッタまたは蒸着することにより光反射層2� �成膜する。この上に本発明の紫外線硬化型� �成物を塗布し、ディスクの片面または両面� �ら紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物� �硬化させ、光透過層3を形成し、図1の光ディ スクを作製する。図2の光ディスクの場合に� �、この上に更にスピンコート等によりハー� �コート層4を形成する。

 図3に示す光ディスクの製造方法を以下に説 明する。
 まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形に� ��ることによって、記録トラック(グルーブ)� �呼ばれるレーザー光をトラッキングするた� �の案内溝を有する基板1を作製する。次に、� ��板1の記録トラック側の表面に、銀合金など をスパッタまたは蒸着することにより光反射 層6を成膜する。

 この上に、本発明の紫外線硬化型組成物� ��は任意の紫外線硬化型組成物の光透過層5を 形成するが、その際に型を用いて表面に記録 トラック(グルーブ)を転写する。記録トラッ� ��(グルーブ)を転写する工程は次の通りであ� �。基板1に形成された光反射層6上に紫外線硬 化型組成物を塗布し、その上に記録トラック (グルーブ)を形成するための型と貼り合わせ� ��この貼り合わせたディスクの片面または両� ��から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成� ��を硬化させる。その後、型を剥離して、光� ��過層5の記録トラック(グルーブ)を有する側� ��表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着� ��ることにより光反射層2を成膜し、この上に 、紫外線硬化型組成物を塗付した後、紫外線 照射により硬化させ、光透過層3を形成する� �とで、図3の光ディスクを作製できる。