以下、図面を参照しながら、本発明の最� ��形態を説明する。尚、本発明の技術的範囲� ��本最良形態に限定されるものではない。ま� ��、一つの例について具体的に説明した事項� ��関しては、そうでないとの特記がある場合� ��除き、他の例にもそのまま適用されるもの� ��理解すべきである。

 本明細書において、まずは表面張力低減� ��水処理システムの全体構成について説明し� ��更に、各構成要素について詳述する。続い� ��、当該水処理システムを使用した、噴射洗� ��システム、洗濯システム、食器洗浄システ� ��、車両洗浄システムを例にとり各形態の構� ��を説明する。

《表面張力低減用水処理システム》
第一の最良形態
 図1は、第一の最良形態に係る表面張力低減 用水処理システムS1の構成を示した図である� ��第一の最良形態に係る表面張力低減用水処� ��システムS1は、流路を構成するパイプ系Pa1(1 )~5(1)と、パイプPa1(1)を介して水をシステムS1� ��外から当該流路に送水するための送水ポン� ��1(1)と、パイプPa2(1)を介して当該送水ポンプ 1(1)と接続しており、当該流路内を通過する� �に対して光触媒処理を施す光触媒装置2(1)と� ��パイプPa3(1)を介して当該光触媒装置2(1)と接 続しており、流路を流れる水の流量を計測す るための流量計3(1)と、パイプPa4(1)を介して� �該流量計3(1)と接続しており更にPa5(1)を介し� ��システム外に水を放出する、当該流路内を� ��過する水に対して磁気処理を施す磁気処理� ��置4(1)とを有する。尚、流量計3(1)は、水処� �システムS1内への送水量、送水ポンプ1(1)の� �理能力等を考慮して設置しない場合もある� �また、磁気処理装置4(1)の水流路を垂直(水平 面・地平面に対して直角の方向)に配設する� �とにより、当該表面張力低減水処理システ� �S1は、より効果的に磁気処理をすることがで きる。

第二の最良形態
 図2は、本最良形態に係る表面張力低減用水 処理システムの第二の最良形態の構成を示し た図である。第二の最良形態に係るシステム S2は、第一の最良形態と基本構成は同様であ� ��が、送水ポンプ1(2)と光触媒装置2(2)との間� �、更にフィルタ5(2)と第二磁気処理装置6(2)と を有し、更に光触媒装置2(2)と第一磁気処理� �置4(2)の間に気水分器7(2)を有している。気水 分器7(2)の構造の詳細は後述する。尚、第一� �気処理装置4(2)と第二磁気処理装置6(2)は、同 様の構成であってもよいし、異なる構成とし てもよい。

《光触媒装置の構成》
 光触媒装置2に用いられる光触媒としては、 公知の光触媒が使用可能であり、特に限定さ れないが、例えば、酸化チタン(TiO ₂ )、酸化亜鉛(ZnO ₂ )等の各種金属酸化物が挙げられる。光触媒� �造体としては、光触媒が担持されたシリカ� �繊維、網状体や、光触媒が練り込まれた繊� �、その他構造体等が挙げられる。好適な光� �媒構造体は、前記繊維の織布又は不織布と� �った繊維成形体(例えば繊維フィルタ)である 。これらの中でも、光触媒が表面に担持又は 塗布された光触媒構造体では、磁気処理され た水を使用するために光触媒の剥離が多くな るので、光触媒が練り込まれた繊維又はその 不織布が特に好適であり、TiO ₂ やその共融点化合物やある特定元素により置 換型の固溶体を形成したもの等の光触媒機能 を有する成分を含む、シリカ成分を主体とす る酸化物相(第1相)とシリカ以外の金属酸化物 相(第2相)との複合酸化物相からなるシリカ基 複合酸化物繊維(例えば、特開2002-371436)又は� �の不織布が特に好適である。当該繊維成形� �を用いると、光触媒と水との接触効率が高� �るので、より効率的に光触媒処理を行うこ� �ができ、更に、装置等の表面に塗布するも� �よりも水流による剥離が少ないため、触媒� �耐久性が向上する。

 光触媒装置2は、公知の水処理用光触媒装 置を用いることができ、特に限定されないが 、例えば、前述の繊維成形体(例えば繊維フ� �ルタ)から円錐状の成形物を作り、処理流体� ��流れに沿ってある間隔をあけて反応容器内� ��多段(スタック状)に配置することが好適で� �る。更に、多段に配置された前記複数の円� �状の成形物の中央を開口し、水の流れ方向� �沿って紫外線ランプをこれら開口部に配置� �ることが好適である。以下、当該装置の具� �例を詳述する。

 図3は、光触媒装置2の一つの実施態様であ� �光触媒装置21(1)の概略図である。光触媒装置 21(1)は、図3(a)に示す縦断面図のように、ステ ンレス製筒状ケース21a(1)内の軸線中央には紫 外線照射ランプ21b(1)が装着され、該紫外線照 射ランプ21b(1)の外周面には石英管21c(1)が垂設 されている。筒状ケース21a(1)の内周壁から石 英管21c(1)の外周壁には上向き漏斗状に複数の 光触媒繊維不織布21d(1)が階段状に取り付けら れている。光触媒繊維不織布21d(1)には酸化チ タン(TiO ₂ )が含浸され、通水可能とされている。21e(1)� �、送水ポンプ1からの水を受容する入水口で� ��21f(1)は、流量計3に送水する送出口である。

 図3(b)は、光触媒装置21(1)の全体の概念図� ��ある。紫外線照射ランプ21b(1)及び石英管21c( 1)を中心として、中空円錐台状に成形された� ��触媒繊維不織布21d(1)が、スタック状に取り� ��けられている。光触媒繊維不織布21d(1)と筒� ��ケース21a(1)及び石英管21c(1)との密着性を高� ��て当該間に隙間をなくすために、光触媒繊� ��不織布21d(1)の外周縁及び開口縁にパッキン2 1g(1)を設けることが好適である。これにより� ��処理水が当該成形物の繊維の隙間を効率的� ��通過することが可能となる。

 図4は、光触媒装置2の他の実施態様であ� �光触媒装置21(2)の縦断面図を示し、石英管か らなる筒状ケース21a(2)の外周面には複数本の 紫外線照射ランプ21b(2)が垂設されている。該 筒状ケース21a(2)の左右内周壁から軸線中心線 上に向けて約30度の上向き角度で、複数枚の� ��触媒繊維不織布21d(2)が階段状にかつ交互に� ��るように配設されている。21e(2)は、送水ポ� ��プ1からの水を受容する入水口で、21f(2)は、 流量計3に送水する送水口である。なお、図� �していないが紫外線照射ランプ21b(2)の外側� �面には、紫外線用保護筒状ケースが装着さ� �ている。

《磁気処理装置の構成》
 本最良形態に係る磁気処理装置4には、水の 流れる方向に直交するように磁力線を印加す るように異磁極又は同磁極の永久磁石が対向 するように配設されていることが好適である 。磁気処理装置は、磁力が水に印加可能であ る限り特に限定されないが、例えば、異磁極 又は同磁極に対向させた磁石を水の流路方向 に複数対配列した形態が好ましい。配列する 磁石は、特に限定されないが、例えば、厚み 方向、径方向、内外二極に着磁したリング型 磁石や、厚み方向、長軸方向、片面多極、両 面多極に着磁した立方体、直方体等の角型磁 石や、径方向、厚み方向に着磁したセグメン ト型磁石が挙げられる。

 本最良形態に係る磁気処理装置の中心磁� ��密度は、500~2000ガウスが好適である。但し� �磁気処理装置内の中心磁束密度は流路方向� �対して均一でなくともよく、また、流路方� �の少なくとも一部が前記範囲であればよい� �

 尚、磁気処理装置に、更に遠赤外線を放射� ��る物質が設けられていてもよい。磁気処理� ��おいて、磁気に加え遠赤外線を照射するこ� ��により相乗効果が得られることが知られて� ��る。遠赤外線を放射吸収する物質としては� ��例えば、アルミナ、カルシウム、ジルコニ� ��等を焼結したセラミックスが挙げられる。� ��該セラミックスの具体例としては、SiO ₂ =70~80%、Al ₂ O ₃ =10~20%、Fe ₂ O ₃ =3~9%、ZrO ₂ =0~5%以下の組成を有する焼結体が挙げられる� ��

 図5(a)は、磁気処理装置4の1例である磁気� ��理装置41(1)の概略構造の断面図を示し、41a(1 )及び41b(1)は、フェライト系の永久磁石で、� �5(b)の同A-A線断面図に示すように、円筒状パ� ��プを形成し、41a(1)及び41b(1)が、異磁極であ� ��ば破線で示すように、円筒状パイプ内を流� ��る水(実線矢印)に直交するように磁力線が� �加され、水の表面張力が低減されて好適な� �となる。

 図6(a)は、磁気処理装置4における他の例� �ある磁気処理装置41(2)の概略構造の一部切欠 概略断面図を示し、41c(2)及び41d(2)は、フェラ イト系の永久磁石で、図6(b)の同B-B線断面図� �示すように、略円筒状パイプを形成してい� �が、41c(2)及び41d(2)は、同磁極であるために� �撥し平行破線で示すように、円筒状パイプ� �を流れる水(実線矢印)に直交するように磁力 線が印加され、水の表面張力が低減されて好 適な水となる。なお、41f(2)は保護ケースであ る。

 図7(a)は、上記の磁気処理装置4の別の最� �形態である磁気処理装置41(3)の概略構造図で ある。磁気処理装置41(3)は、厚さ方向に着磁� ��たリング型磁石41a~f(3)と、当該リング型磁� �の中空部を貫く方向に形成されている流路41 g(3)を有する。リング型磁石41a~f(3)は、隣り合 う磁石が同極で反発しあうように流路41g(3)の 方向に沿って配置されている。

 図7(b)は、磁気処理装置4の別の例である� �気処理装置41(4)を示す概略構造図である。磁 気処理装置41(4)は、長軸方向に着磁した角型� ��石41a~f(4)と、当該磁石に対向する位置に設� �られている角型磁石41a’~f’(4)と、当該角型 磁石41a~f(4)と角型磁石41a’~f’(4)に挟まれる� �置に形成されている流路41g(4)を有する。角� �磁石41a~f(4)及びa’~f’(4)は、隣り合う磁石が 同極で反発しあうように流路41g(4)の方向に沿 って配置されている。尚、角型磁石41a~f(4)と4 1a’~f’(4)は、流路を挟んで同極でそれぞれ� �向している。尚、本例では角型を例示した� �、セグメント型であってもよい。

《その他任意の装置》
気水分器
 図8は、気水分器7の概念図である。本最良� �態に係る気水分器7は、筐体7aと、筐体7aの両 端に設けられた入水口7b及び送出口7cと、当� �入水口7bと送出口7cの間に流路を妨げるよう� ��、且つ、流路を塞ぐことのないように、筐� ��7a内部の底面に構築された壁状体7dと、当該 壁状体7dよりも送出口7c側の天井面に設けら� �た気泡分離部7eと、これに接続された排気口 7fとを有している。

 気水分器7内では、入水口7bから導入され� ��水は、壁状体7dによりその流路を妨げられ� �流れ方向を上向きへと変化させる。流れの� �向が上向きに変化した水は、構造体の天井� �とぶつかり、更に、流れ方向を送出口7c方向 へと変化させる。当該流れの変化により、水 中に溶解していた気体は、気泡Bとなって、� �水分器7の上方へと移動した後、気泡分離部7 eを経て排気口7fから排出される。当該気水分 器を磁気処理装置4の手前(好ましくは直前)に 設けることにより、磁気処理をより効果的に 行うことができる結果、表面張力がより低下 する。

フィルタ
 フィルタ5は、水に含まれる、紙粉、粉塵、 パウダー等の比較的サイズの大きな不純物を 取り除く機能を有する限り特に限定されない 。当該フィルタを設置すると大きな不純物を 除去できるため、より効率的に光触媒処理を 行うことができる。

表面張力低減用水処理システムS1� ��びS2の作動態様
 つぎに、第一の最良形態を例にとり、本発� ��の表面張力低減用水処理システムの作動態� ��について説明する。まず、第一の最良形態� ��係る表面張力低減用水処理システムS1のパ� �プPa1(1)を所定量の水が貯水された貯水タン� �内水を導入可能な位置に設置して、更に当� �システムS1のパイプPa5(1)の先端を、当該パイ プから放出される水を貯水タンクに導入可能 な位置に設置する。続いて当該システムS1の� ��作方法を説明すると、容量30L~500Lのタンク� �に供給された水(例えば、水道水)は、用途に 適合するような温度に調節すれば特に限定さ れないが、10~15℃の恒温に保たれていること� ��好適であり、8~12℃の恒温に保たれているこ とがより好適である。そして、当該水は、送 水ポンプ1(1)により、貯水タンクから下流へ� �送水される。ここで、送水流量は、10~50L/min� ��好適であり、20~40L/minがより好適であり、27~ 35L/minが更に好適である。当該範囲の送水流� �とすると、磁気処理及び光触媒処理が効果� �に行われるため、水の表面張力の低減が顕� �になる。そして、送水された水は、貯水タ� �クの下流に配された光触媒装置2(1)内に進入� ��る。当該進入した水は、光触媒装置2(1)内の 光触媒繊維不織布21dを通水しながら、紫外線 照射ランプ21bから照射される200~290nmの短波長 紫外線を浴びる。尚、当該処理により、水中 の有機物及び雑菌類は、二酸化炭素(CO ₂ )と水(H ₂ O)に分解されて無害化する。更に、紫外線照� ��ランプで照射される紫外線を、前述の短波� ��紫外線の範囲とすると、当該短波長紫外線� ��、細菌細胞中のDNA(デオキシリボ核酸)の光� �収スペクトルである260nm波長近傍の吸収帯に 近似するので、細菌細胞中のDNAに作用し、水 和現象、ダイマー形成、分解等の光化学反応 により、芽胞を含む細菌、カビ類を死減させ るので、システムが長期間停止しても、貯水 タンク内等に藻やカビ等の発生を防止できる 。特に処理対象となる水を長期間循環して使 用する用途においては当該範囲の短波長紫外 線を照射することが好ましい。

 図3に示す、光触媒装置2(1)を出た水は、� �イプ系Pa(1)で流量計3(1)を経て磁気処理装置4( 1)に送水される。当該水は、図5、図6及び図7� ��示すように、磁気処理装置4(1)内を通水しな がら永久磁石からの磁力線を印加され、表面 張力が低減されて下流の貯水タンク内に送水 される。貯水タンクからその他のシステムに 水が送水される貯水タンク出水口近傍にパイ プPa5の先端部が配設されることが好ましく、 当該構成により表面張力が低減された水の水 質が迅速に均質化するように設定される。

 貯水タンクに環流された水は、循環パイ� ��系Pa(1)を介して、再び送水ポンプ1(1)、光触� ��装置2(1)、流量計3(1)、磁気処理装置4(1)、貯� ��タンクに送水される循環工程が、連続的に� ��り返し行われる。

 第二の最良形態に係る本発明の表面張力� ��減用水処理システムの作動態様については� ��基本的に第一の最良形態と同様の動作態様� ��ある。

《得られる表面張力低減水の性質》
 本発明に従い磁気処理及び光触媒処理の両� ��を施された水は、通常の水と比較して、ま� ��、上記処理を単独で施された水と比較して� ��著しく低い表面張力を有する。具体的には� ��以下の実施例に記載された測定条件に従い� ��定された表面張力の値が、好適には60mN/m以� ��、より好適には50mN/m以下、更に好適には40mN /m以下である。更に、本発明に係る表面張力� ��減水は、その低減した表面張力を長期間持� ��可能であり、現時点で確認されている範囲� ��では、少なくとも5日間、前述の好適値を持 続可能である。

 以下、本発明に係る表面張力低減用水処� ��システムの適用例を示す。

《噴射洗浄システム》
第三の最良形態
 以下、図9を参照しながら第三の最良形態に 係る噴射洗浄システムを詳述する。ここで、 図9は、前述した表面張力低減用水処理シス� �ムS2が組み込まれた噴射洗浄システムS3の概� ��構成図である。尚、図9中、表面張力低減用 水処理システムS2(第二の最良形態)の代わり� �表面張力低減用水処理システムS1(第一の最� �形態)を導入してもよい。そこで、図9に係る 噴射洗浄システムS3を説明すると、当該噴射� ��浄システムS3は、貯水タンク301と、貯水タ� �ク301内の水を導入可能であり、当該水に対� �て磁気処理及び光触媒処理を施し貯水タン� �301内に戻すように接続された、前述した表� �張力低減用水処理システムS2と、当該貯水タ ンク301内の水を導入可能な高圧ポンプ302と、 当該高圧ポンプにより加圧された水が導入可 能であり、当該水を処理対象物に対して照射 可能な噴射ノズル303とから構成される。尚、 図示しないが、当該噴射洗浄システムS3にオ� ��ンガス等の気体洗浄剤を導入する手段を高� ��ポンプの下流側に設けてもよいし、水流を� ��速するために、高圧空気、不活性ガス、水� ��気等の気体を水流に対して導入する手段を� ��圧ポンプ下流側に設けてもよい。

 次に、図9を参照しながら、第三の最良形態 である噴射洗浄システムS3の作動態様につい� ��説明する。まず、第三の最良形態に係る噴� ��洗浄システムS3の貯水タンク301内に所定量� �をためる。続いて、噴射洗浄システムS3の一 部を構成する表面張力低減用水処理システム S2を動作させると、貯水タンク301内に貯水さ� ��た水の表面張力が低減される。尚、当該表� ��張力洗浄システムの動作方法は、先に詳述� ��た内容と同様である。この際、貯水タンク� ��の表面張力が十分に低下するように、水処� ��システムS2を10分間程度動作させることが好 適である。当該動作終了後、貯水タンク301内 の水は、高圧ポンプ302を動作させて噴射ノズ ル303内に導入され、噴射ノズルから噴射され る。ここで、水の圧力は、1~1500kg/cm ² が好適である。尚、上記は表面張力低減用水 処理システムS2(第二の最良形態)を噴射洗浄� �ステムS3に組み込んだ場合の作動態様である が、表面張力低減用水処理システムS2(第二の 最良形態)の代わりに表面張力低減用水処理� �ステムS1(第一の最良形態)を導入した場合も� ��様である。

 本最良形態の用途としては、壁面、設備� ��部品等の大型の機械や、新幹線等の車両の� ��浄や、半導体ウェハ、ガラス基板等の小型� ��象物の洗浄を行うことができる。また、洗� ��対象物の用途が薬液の残留を嫌うようなも� ��や、対象物そのものが薬液により腐蝕等の� ��題を起すようなものである場合、噴射洗浄� ��ステムS3は、洗浄剤等の薬液を水に添加し� �くとも十分な洗浄力を得ることができるた� �、特に有用である。

《洗濯システム》
第四の最良形態
 以下、図10を参照しながら第四の最良形態� �係る洗濯システムを詳述する。ここで、図10 は、前述した表面張力低減用水処理システム S2が組み込まれた洗濯システムS4の概略構成� �である。尚、図10中、表面張力低減用水処理 システムS2(第二の最良形態)の代わりに表面� �力低減用水処理システムS1(第一の最良形態)� ��導入してもよい。そこで、図10に係る洗濯� �ステムS4を説明すると、洗濯システムS4は、� ��箱401と、水槽402と、洗濯対象であり乾燥対� ��でもある洗濯物を収容するドラム403と、当� ��ドラムを回転させるドラム駆動モータ410と� ��当該水槽及びドラム内の空間を外部と離隔� ��るドア406と、外部から導入される水道水を� ��気処理及び光触媒処理を施すことにより水� ��表面張力を低減する表面張力低減用水処理� ��ステムS2と、当該水槽内に当該水処理シス� �ムにより処理された水(水に加えて、必要に� ��じて洗剤)を導入する給水ノズル412と、当該 水槽の最下部に設けられた排水口414と、から 構成される。尚、ここでは、回転軸が略水平 方向に形成された水平(斜め)ドラム式の洗濯� ��ステムを例にとり説明するが、洗濯システ� ��S4は回転軸が垂直縦方向に形成された洗濯� �ステムであってもよい。尚、表面張力低減� �水処理システムS2は、外箱401内に設けられて いてもよいし、外箱401の外部に設けられてい てもよい。以下、当該最良形態に係るシステ ムを構成する各部について詳述する。尚、以 下で詳述する洗濯システム(洗濯機)はあくま� ��一例であり、当該システム構成に何ら限定� ��れるものではない。

 水槽402及びドラム403はいずれも円筒形で� ��それぞれ一方の端面に洗濯物投入口を有す� ��。ドラム403の底部中心からは外向きに軸404� ��突出する。この軸404が水槽403の底部中心に� ��けられた軸受405に支えられることにより、� ��ラム403と水槽402とはドラム403を内、水槽402� ��外とする同心配置となる。水槽402とドラム4 03は、引張コイルバネと防振ダンパの組み合� ��せからなるサスペンション機構(図示しない )により、軸線が水平かやや斜めになるよう� �外箱401内で支持される。この実施形態では� �槽402とドラム403の軸線は水平面に対し角度θ (例えば15゜)の傾斜をなし、洗濯物投入口の� �がやや持ち上がった形になっている。これ� �ドラム403の内部を見やすくするのと、洗濯� �の出し入れを容易にするためである。また� �ドラム403の周壁には多数の脱水孔408が形設� �れている。この脱水孔408を通じドラム403と� �槽402との間を洗濯水が行き来する。更に、� �ラム403の内周面にはドラム403の回転に伴い� �濯物を引っかけては持ち上げて落下させる� �複数のバッフルが所定間隔で設けられてい� �(図示しない)。その他、ドラム403の外面及び 洗濯物投入口にはバランスウェイト409が取り 付けられる。図10には洗濯物投入口に取り付� ��られた環状のバランスウェイト409のみ示し� ��ドラム403の外面に取り付けられたバランス� ��ェイトは図示していない。バランスウェイ� ��409はドラム403が高速回転したときに発生す� ��振動を抑制するものである。

 水槽402の底部外面にはドラム駆動モータ4 10が取り付けられている。ドラム駆動モータ4 10はダイレクトドライブ形式のものであり、� ��のロータにドラム403の軸404が連結固定され� ��。なお前記軸受405はドラム駆動モータ410の� ��ウジングに取り付けられ、ドラム駆動モー� ��410の構成要素の一部となっている。

 外箱401の正面側外壁には、洗濯物投入口� ��向かい合うように開口が設けられている。� ��口の前面には横開きのドア406が設けられる� ��外箱401に設けたドアロック装置(機構は図示 しない)により、運転中ドア406は閉じた状態� �ロックされる。ドアパッキンとドア406の隙� �から水が漏れるのを防ぐため、軟質合成樹� �又はゴムよりなるドアパッキンが洗濯槽の� �口と洗濯物投入口との間に設けられる。ド� �406に形成された突部407はドラム403の中の洗� �物が洗濯物投入口からはみ出さないように� �る役割を担う。

 水道からの水を導入可能な位置に、表面� ��力低減用水処理システムS2が配置されてい� �。当該水処理システムS2により磁気処理及び 光触媒処理を施された水は、後述する給水弁 411に導入された後、給水ノズル412に供給され る。

 水槽402の上方の空間には電磁的に開閉す� ��給水弁411が配置されている。給水弁411には� ��面張力低減用水処理システムS2により磁気� �理及び光触媒処理を施された水を導入する� �イプPa8(2)が接続されている。給水弁411は少� �くとも2連式のものであり、1個の入力ポート と2個の出力ポートを備え、出力ポート毎に� �立して給水と止水が可能である。給水弁411� �2個の出力ポートは、洗濯物投入口に面する� ��所に設けられた給水ノズル412を通じてドラ� ��403に給水するのに用いられる。第1の出力ポ ートは洗剤投入ボックス413を経由して給水ノ ズル412に接続されている。第2の出力ポート� �図示しない仕上剤投入ボックスを経由して� �水ノズル412に接続されている。

 水槽402の最も低くなった箇所には排水口4 14が設けられ、ここに排水管415の一端が接続� ��れる。排水管415の他端はフィルタ416に接続� ��れる。フィルタ416としては特に限定されな� ��が糸屑フィルタが挿入されている。糸屑フ� ��ルタは合成樹脂の網や布により形成され、� ��中の糸屑を捕集する。フィルタ416には排水� ��417を接続し、糸屑フィルタを通過した排水� ��外箱401の外に排出する。排水管417には排水� ��ンプ418が設けられている。排水ポンプ418は� ��兼用であって、運転停止時には水を通さな� ��。これに対し循環ポンプ419には弁の機能は� ��く、運転していないかぎり水は自由に下流� ��へ流れる。排水管417には、フィルタ416と排� ��ポンプ418の間の箇所に循環ポンプ419が設け� ��れている。循環ポンプ419はフィルタ416を通� ��した水を戻り管(図示しない)を通じて給水� �ズル412に戻す働きをする(循環ポンプ419と給� ��ノズル412の接続については図示しない。)。

 本最良形態に洗濯システムS4は、表面張� �低減用水処理システムS2により磁気処理及び 光触媒処理を行った水を使用するため、洗濯 する際に洗剤を加える必要がない。すなわち 、当該システムにより、洗剤を使用せずに洗 濯することが可能となり、排水に洗剤が含ま れないため非常に環境に優しい洗濯をするこ とができる。また、洗剤を使用しないことに 伴い、すすぎ工程においても大量の水を必要 とせず、節水が可能となる。更に、磁気処理 装置により処理を施された水は、洗濯機内部 の配管、ドラムの外面、ドラムを入れた水槽 の内面等の汚れを除去することが可能である ため、これらの清掃を別途行わなければなら ない等の手間を省くことが可能となる。尚、 上記は表面張力低減用水処理システムS2(第二 の最良形態)を洗濯システムS4に組み込んだ場 合の作動態様であるが、表面張力低減用水処 理システムS2(第二の最良形態)の代わりに表� �張力低減用水処理システムS1(第一の最良形� �)を導入した場合も同様である。

第五の最良形態
 以下、図11を参照しながら第五の最良形態� �係る洗濯システムを詳述する。ここで、図11 は、前述した表面張力低減用水処理システム S2が組み込まれた洗濯システムS5の概略構成� �である。尚、図11中、表面張力低減用水処理 システムS2(第二の最良形態)の代わりに表面� �力低減用水処理システムS1(第一の最良形態)� ��導入してもよい。洗濯システムS5と洗濯シ� �テムS4との相違点は、給水ノズル412に供給さ れる水が表面張力低減用水処理システムS2に� ��り循環処理されたものであることである。� ��ち、洗濯システムS5は、洗濯システムS4の構 成に加えて、水道水が貯水される貯水タンク Tと、当該貯水タンク内の水を給水ノズル412� �導入するための送水ポンプPとを有し、表面� ��力低減用水処理システムS2が当該貯水タン� �T内の水を導入し、磁気処理及び光触媒処理� ��施し当該水を貯水タンクT内へと戻すことが 可能なように接続している構成を有する。

 第五の最良形態に係る洗濯システムS5は� �10分間程度水処理システムS2を動作させて処� ��した水を使用することが好ましい。また、� ��該洗濯システムS5は、給水ノズル412に水を� �給する前に水道水を循環処理することによ� �、繰り返し磁気処理及び光触媒処理を施す� �とができるため、表面張力が更に低減され� �。尚、上記は表面張力低減用水処理システ� �S2(第二の最良形態)を洗濯システムS5に組み� �んだ場合の作動態様であるが、表面張力低� �用水処理システムS2(第二の最良形態)の代わ� ��に表面張力低減用水処理システムS1(第一の� ��良形態)を導入した場合も同様である。

第六の最良形態
 以下、図12を参照しながら第六の最良形態� �係る洗濯システムを詳述する。ここで、図12 は、前述した表面張力低減用水処理システム S2が組み込まれた洗濯システムS6の概略構成� �である。尚、図12中、表面張力低減用水処理 システムS2(第二の最良形態)の代わりに表面� �力低減用水処理システムS1(第一の最良形態)� ��導入してもよい。洗濯システムS6と第四の� �良形態に係る洗濯システムS4との相違点は、 表面張力低減用水処理システムS2の配置場所� ��異なることである。即ち、当該水処理シス� ��ムS2は、循環ポンプ419から水を導入し、磁� �処理及び光触媒処理を施した後に給水ノズ� �412対して当該水を導入する位置に配される� �尚、本最良形態において、当該水処理シス� �ムS2の送水ポンプ1は、循環ポンプ419がその� �割を担うこととなるので、省略することが� �きる。

 第六の最良形態に係る洗濯システムS6は� �10分間程度洗濯システム内に供給される水を 循環させて、水処理システムS2を動作させて� ��理した水を使用することが好ましい。尚、� ��記は表面張力低減用水処理システムS2(第二� ��最良形態)を洗濯システムS6に組み込んだ場� ��の作動態様であるが、表面張力低減用水処� ��システムS2(第二の最良形態)の代わりに表面 張力低減用水処理システムS1(第一の最良形態 )を導入した場合も同様である。

第七の最良形態
 以下、図13を参照しながら第七の最良形態� �係る洗濯システムを詳述する。ここで、図13 は、前述した表面張力低減用水処理システム S2が組み込まれた洗濯システムS7の概略構成� �である。尚、図13中、表面張力低減用水処理 システムS2(第二の最良形態)の代わりに表面� �力低減用水処理システムS1(第一の最良形態)� ��導入してもよい。洗濯システムS7と第6の最� ��形態に係る洗濯システムS6との相違点は、� �環ポンプ419から導入される水を一旦貯水し� �、当該水を水処理システムS2により繰り返し 循環処理することである。即ち、洗濯システ ムS7は、洗濯システムS6の構成に加えて、循� �ポンプ419から水を導入可能な貯水タンクTと� ��貯水タンクTから給水ノズルに送水する送水 ポンプPとを有し、水処理システムS2が、当該 貯水タンクT内の水を導入可能であり磁気処� �及び光触媒処理を施した後に当該貯水タン� �に戻すことが可能な位置に配されている。

 当該構成とすることにより、第六の最良� ��態の特徴に加えて、水を循環処理すること� ��可能となるため表面張力低減効果がより顕� ��となる。尚、上記は表面張力低減用水処理� ��ステムS2(第二の最良形態)を洗濯システムS7� ��組み込んだ場合の作動態様であるが、表面� ��力低減用水処理システムS2(第二の最良形態) の代わりに表面張力低減用水処理システムS1( 第一の最良形態)を導入した場合も同様であ� �。

《食器洗浄システム》
第八の最良形態
 以下、図14を参照しながら第八の最良形態� �係る食器洗浄システムを詳述するここで、� �14は、前述した表面張力低減用水処理システ ムS2が組み込まれた食器洗浄システムS8の概� �構成図である。尚、図14中、表面張力低減用 水処理システムS2(第二の最良形態)の代わり� �表面張力低減用水処理システムS1(第一の最� �形態)を導入してもよい。そこで、図14に係� �食器洗浄システムS8を説明すると、食器洗浄 システムS8は、外箱801と、当該外箱801内に設� ��られている洗浄槽802と、前記洗浄槽内部に� ��けられており、食器Dを搭載するための食器 かご803と、当該食器かごの下に設けられ、食 器かご803に搭載される食器Dに向けて水を噴� �する回転噴射ノズル804と、洗浄槽の側面又� �上面に設けられており、食器Dに対して水を� ��射する固定洗浄ノズル805と、前記ノズル804� ��び805に対して加圧水を供給する送水ポンプ8 06(ノズル805と送水ポンプ806の接続は図示せず 。)と、洗浄槽802内の洗浄水を加熱するヒー� �807と、外箱及び洗浄槽の前面から食器Dを出� ��入れするための扉809と、表面張力低減用水� ��理システムS2と、当該システムS2により磁気 処理及び光触媒処理を施された水が導入され る水導入孔810と、を有している。以下、当該 最良形態に係るシステムを構成する各部につ いて詳述する。尚、以下で詳述する食器洗浄 システム(食器洗い機)はあくまで一例であり� ��当該システム構成に何ら限定されるもので� ��ない。

 洗浄槽802の底面部の一部分には、洗浄槽8 02の内部に給水された水を貯留する貯留部802a が凹設されており、貯留部802aの開口部には� �菜フィルタ812が嵌められている。前記送水� �ンプ806は、吸い込み管813を介して貯留部802a� ��接続されている。

 送水ポンプ806の上部には、吐出管814と排� ��管815とが設けられており、吐出管814及び排� ��管815の送水ポンプ806への接続口には切替弁� ��配設されており(図示せず)、いずれか一方� �接続口のみが開くように構成されている。� �水ポンプ806より吐出管814へと水が導入され� �場合、水は、吐出管814を介し、回転噴射ノ� �ル804及び固定洗浄ノズル805(固定洗浄ノズル8 05と送水ポンプ806の接続の様子は図示せず。) へ送られ、当該ノズルの噴射口から水を噴射 させる。

 固定洗浄ノズル805は、洗浄槽802の背面に� ��けられる場合、左方向及び右方向に流路が� ��分かれした状態で送水ポンプ806と接続して� ��る。洗浄槽802の上面に設置された最先端の� ��定洗浄ノズル805aは、洗剤ケース816に覆われ ている。洗剤ケース816は、洗剤導入部(図示� �ず)と、開口部816aが設けられており、特に食 器の汚れがひどい場合には、当該開口部から 洗浄槽802内に洗剤が導入可能な構成を有して いる。

 続いて、食器洗浄システムS8の動作態様� �ついて説明する。給水弁811が開いて、水道� �が表面張力低減用水処理システムS2内へ導入 され、磁気処理及び光触媒処理された水が水 導入孔810を介して洗浄槽802へ給水され、貯留 部802aに所定量の水が貯められる。そして、� �水ポンプ806を動作させることにより、当該� �が、吸い込み管813を通って送水ポンプ806へ� �水され、吐出管814を介して回転洗浄ノズル80 4及び固定洗浄ノズル805へ送られ、当該ノズ� �の噴出口から洗浄槽802内の食器かご803に搭� �された食器Dに対して噴射される。

 放水された当該水は、残菜フィルタ812に� ��り濾過されて貯留部802aに戻り、再び送水ポ ンプ806に吸引される。当該水はヒータ807によ り加熱される。

 所定時間、洗浄工程が実施された後、汚� ��た洗浄水は、送水ポンプ806により排水管815� ��介して外部へ排出される。次に、すすぎ工� ��が実施される。本最良形態において、当該� ��すぎ工程は任意であり、例えば、食器Dの汚 れがひどい場合や、洗剤を用いた場合には、 当該すすぎ工程が必要となる。

 本最良形態に食器洗浄システムS8は、表� �張力低減用水処理システムS2により磁気処理 及び光触媒処理を行った水を使用するため、 汚れの種類や程度にもよるが、通常は食器洗 浄の際に洗剤を加える必要がない。すなわち 、当該システムにより、洗剤を使用せずに食 器洗浄することが可能となり、排水に洗剤が 含まれないため非常に環境に優しい洗濯をす ることができる。また、洗剤を使用しないこ とに伴い、すすぎ工程においても大量の水を 必要とせず、節水が可能となる。更に、磁気 処理装置により処理を施された水は、食器洗 浄システム内部の配管等の汚れを除去するこ とが可能であるため、これらの清掃を別途行 わなければならない等の手間を省くことが可 能となる。尚、上記は表面張力低減用水処理 システムS2(第二の最良形態)を洗濯システムS4 に組み込んだ場合の作動態様であるが、表面 張力低減用水処理システムS2(第二の最良形態 )の代わりに表面張力低減用水処理システムS1 (第一の最良形態)を導入した場合も同様であ� ��。

第九の最良形態
 以下、図15を参照しながら第九の最良形態� �係る食器洗浄システムを詳述する。ここで� �図15は、前述した表面張力低減用水処理シス テムS2が組み込まれた食器洗浄システムS9の� �略構成図である。尚、図15中、表面張力低減 用水処理システムS2(第二の最良形態)の代わ� �に表面張力低減用水処理システムS1(第一の� �良形態)を導入してもよい。食器洗浄システ� ��S9と食器洗浄システムS8との相違点は、水導 入孔810に供給される水が表面張力低減用水処 理システムS2により循環処理されたものであ� ��ことである。即ち、食器洗浄システムS9は� �食器洗浄システムS8の構成に加えて、水道水 が貯水される貯水タンクTと、当該貯水タン� �内の水を水導入孔810に導入するための送水� �ンプPとを有し、表面張力低減用水処理シス� ��ムS2が当該貯水タンクT内の水を導入し、磁� ��処理及び光触媒処理を施し当該水を貯水タ� ��クT内へと戻すことが可能なように接続して いる構成を有する。

 第九の最良形態に係る食器洗浄システムS 9は、10分間程度水処理システムS2を動作させ� ��処理した水を使用することが好ましい。ま� ��、当該食器洗浄システムS9は、水導入孔810� �水を供給する前に水道水を循環処理するこ� �により、繰り返し磁気処理及び光触媒処理� �施すことができるため、表面張力が更に低� �される。尚、上記は表面張力低減用水処理� �ステムS2(第二の最良形態)を食器洗浄システ� ��S9に組み込んだ場合の作動態様であるが、� �面張力低減用水処理システムS2(第二の最良� �態)の代わりに表面張力低減用水処理システ� ��S1(第一の最良形態)を導入した場合も同様で ある。

第十の最良形態
 以下、図16を参照しながら第十の最良形態� �係る食器洗浄システムを詳述する。ここで� �図16は、前述した表面張力低減用水処理シス テムS2が組み込まれた食器洗浄システムS10の� ��略構成図である。尚、図16中、表面張力低� �用水処理システムS2(第二の最良形態)の代わ� ��に表面張力低減用水処理システムS1(第一の� ��良形態)を導入してもよい。食器洗浄システ ムS10と第八の最良形態に係る食器洗浄システ ムS8との相違点は、表面張力低減用水処理シ� ��テムS2の配置場所が異なることである。即� �、当該水処理システムS2は、送水ポンプ806か ら水を導入し、磁気処理及び光触媒処理を施 した後に水導入孔810に対して当該水を導入す る位置に配される。尚、本最良形態において 、当該水処理システムS2の送水ポンプ1(2)は、 送水ポンプ806がその役割を担うこととなるの で、省略することができる。また、水導入孔 810は、更に、開放又は閉塞する給水弁811を介 して水道水を導入可能に接続されている。

 第十の最良形態に係る食器洗浄システムS 10は、10分間程度食器洗浄システム内に供給� �れる水を送水ポンプ806により循環させて、� �処理システムS2を動作させて処理した水を使 用することが好ましい。尚、上記は表面張力 低減用水処理システムS2(第二の最良形態)を� �器洗浄システムS10に組み込んだ場合の作動� �様であるが、表面張力低減用水処理システ� �S2(第二の最良形態)の代わりに表面張力低減� ��水処理システムS1(第一の最良形態)を導入し た場合も同様である。

第十一の最良形態
 以下、図17を参照しながら第十一の最良形� �に係る食器洗浄システムを詳述する。ここ� �、図17は、前述した表面張力低減用水処理シ ステムS2が組み込まれた食器洗浄システムS11� ��概略構成図である。尚、図17中、表面張力� �減用水処理システムS2(第二の最良形態)の代� ��りに表面張力低減用水処理システムS1(第一� ��最良形態)を導入してもよい。食器洗浄シス テムS11と第十の最良形態に係る食器洗浄シス テムS10との相違点は、送水ポンプ806から水処 理システムS2へと導入される水を一旦貯水し� ��、当該水を水処理システムS2により繰り返� �循環処理することである。即ち、食器洗浄� �ステムS11は、食器洗浄システムS10の構成に� �えて、送水ポンプ806から水を導入可能な貯� �タンクTと、貯水タンクTから水導入孔810に送 水する送水ポンプPとを有する。また、水処� �システムS2は、当該貯水タンクT内の水を導� �可能であり磁気処理及び光触媒処理を施し� �後に当該貯水タンクに戻すことが可能な位� �に配されている。

 当該構成とすることにより、第十の最良� ��態の特徴に加えて、洗浄処理と独立した形� ��水を循環処理することが可能となるため表� ��張力低減効果がより顕著となる。尚、上記� ��表面張力低減用水処理システムS2(第二の最� ��形態)を食器洗浄システムS11に組み込んだ場 合の作動態様であるが、表面張力低減用水処 理システムS2(第二の最良形態)の代わりに表� �張力低減用水処理システムS1(第一の最良形� �)を導入した場合も同様である。

《車両洗浄システム》
第十二の最良形態
 以下、図18を参照しながら、本最良形態に� �る車両洗浄システムについて説明する。こ� �で、図18は、前述した表面張力低減用水処理 システムS2が組み込まれた車両洗浄システムS 12の概略構成図である。尚、図18中、表面張� �低減用水処理システムS2(第二の最良形態)の� ��わりに表面張力低減用水処理システムS1(第� ��の最良形態)を導入してもよい。そこで、図 18に係る車両洗浄システムS12を説明すると、� ��両システムS12は、門型状に形成されている� ��車装置本体1201と、本体1201内を通過する車� �を洗浄するための噴射ノズル1203(1203U及びS)� �、前記噴射ノズルに対して水を導入するた� �の送水ポンプPと、前記送水ポンプに水を導� ��するための貯水タンクTと、貯水タンクT内� �水を導入可能であり、当該水に対して磁気� �理及び光触媒処理を施し貯水タンクT内に戻� ��ように接続された、表面張力低減用水処理� ��ステムS2(S2の内部の構成については省略す� �。)と、を有する。

 洗車装置本体下部には、車輪1202が設けら れている。図示しない走行用モータ及び駆動 装置を介して車輪1202が駆動し、床面に敷設� �れたレール1204に沿って車両をまたぐように� ��復もしくは片道走行する。本体1201内部には 、少なくとも、洗浄水を放水する噴射ノズル 1203が設けられ、本体1201を走行させることに� ��り車体の洗浄が図られるようになっている� ��

 ここで、噴射ノズル1203としては、特に限 定されないが、例えば、本体の門内の上部に 設置され、門内を通過する車両の上部を洗浄 するため上部噴射ノズル1203Uと、本体の門内� ��側面に設置され、門内を通過する車両の側� ��を洗浄するための側部噴射ノズル1203Sとか� �構成されるものが挙げられる。当該上部噴� �ノズル1203U及び側部噴射ノズル1203Sは、磁気� ��理及び光触媒処理された水を送水ポンプPか ら導入可能に接続されており、更に当該水を 噴射可能に成型されている。

 上部噴射ノズル1203Uは、上部支持体1205上� ��設けられ、当該支持体の両端は、本体1201両 側に立設したレール1206上を上下走行する台� �1207に回動可能に支持されている。側部噴射� ��ズル1203Sは、側面支持体1208上に設けられ、� ��体1201内に立設したレール1209上を上下走行� �る台車1210にアーム1211で連結されている。ア ーム1211内には側部噴射ノズル1203Sを前後させ るためのエアシリンダ1212が設けられており� �車体の形状に合わせて前後させ、車体との� �離が一定になるようにしている。

 次に、第十二の最良形態である車両洗浄� ��ステムS12の作動態様について説明する。ま� ��、第十二の最良形態に係る車両洗浄システ� ��S12の貯水タンクT内に所定量水をためる。続 いて、車両洗浄システムS12の一部を構成する 表面張力低減用水処理システムS2を動作させ� ��と、貯水タンクT内に貯水された水の表面張 力が低減される。尚、当該表面張力洗浄シス テムの動作方法は、先に詳述した内容と同様 である。この際、貯水タンク内の表面張力が 十分に低下するように、水処理システムS2を1 0分間程度動作させることが好適である。当� �動作終了後、貯水タンクT内の水は、送水ポ� ��プPを動作させて噴射ノズル1203内に導入さ� �噴射される。更に、本体1201をレール1204に沿 って動作させたり、噴射ノズルを台車1207、12 10、エアシリンダ1212等の作動手段により動作 させて、車両全体を洗浄することができる。

 本最良形態に車両洗浄システムS12は、表� ��張力低減用水処理システムS2により磁気処� �及び光触媒処理を行った水を使用するため� �汚れの種類や程度にもよるが、通常洗車す� �際に洗剤を加える必要がない。すなわち、� �該システムにより、洗剤を使用せずに洗車� �ることが可能となり、排水に洗剤が含まれ� �いため非常に環境に優しい車両洗浄をする� �とができる。また、洗剤を使用しないこと� �伴い、すすぎ工程においても大量の水を必� �とせず、節水が可能となる。更に、磁気処� �装置により処理を施された水は、車両洗浄� �ステム内部の配管等の汚れを除去すること� �可能であるため、これらの清掃を別途行わ� �ければならない等の手間を省くことが可能� �なる。尚、上記は表面張力低減用水処理シ� �テムS2(第二の最良形態)を洗濯システムS12に� ��み込んだ場合の作動態様であるが、表面張� ��低減用水処理システムS2(第二の最良形態)の 代わりに表面張力低減用水処理システムS1(第 一の最良形態)を導入した場合も同様である� �