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Title:
ガラス質材料からなる平面基板の構造化方法及び光学素子
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2014529564
Kind Code:
A
Abstract:
ガラス質材料からなる平面基板の粘性流動プロセスを介した構造化方法であって、ガラス質平面基板を、表面にある周縁部によって画定された少なくとも1つの窪みを有する平面基板、好ましくは半導体平面基板の表面上に接合し、それに続く熱処理プロセスを介して粘性流動可能な状態に変え、平面基板の粘性流動可能なガラス質材料の少なくとも一部が周縁部上から平面基板の窪みへと流入する構造化方法が記載される。本発明は、の少なくとも1つの窪みが少なくとも1つの濡れ面を有する平面基板を用意することであって、その濡れ面は、平面基板の表面に対して下方にあり、かつ少なくとも部分的に線状縁部によって画定されており、その線状縁部は、同時に濡れ面に対して下方にあり窪みの内側に設けられた溝構造の一つの縁部でもあり、かつ/又は濡れ面に帰属できる、流動可能なガラス質材料についての濡れ特性の不連続な変化によって決められていることと、熱処理プロセスの間に、流動可能なガラス質材料は濡れ面と、線状縁部に沿って濡れ先頭部が形成されるように接触されることと、熱処理プロセスは、濡れ先頭部と周縁部との間で平面基板と接触せずに延びている、窪みの部分領域とともに空隙を取り囲むガラス質材料の表面が形成されたら終了させることとを特徴とする。【選択図】図1d

Inventors:
マレンコ,ノルマン
クエンツァー,ハンス−ヨアヒム
Application Number:
JP2014525340A
Publication Date:
November 13, 2014
Filing Date:
August 02, 2012
Export Citation:
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Assignee:
フラウンホファー ゲセルシャフト ツールフェールデルンク ダー アンゲヴァンテンフォルシュンク エー.ファオ.
International Classes:
C03B23/02; C03C27/02; G02B3/00; H01L31/0232; H01S5/022
Domestic Patent References:
JP2006521270A2006-09-21
JP2003514756A2003-04-22
JPS6140828A1986-02-27
JP2007131475A2007-05-31
JP2008218772A2008-09-18
JP2009200064A2009-09-03
JP2007516602A2007-06-21
JP2007182372A2007-07-19
Attorney, Agent or Firm:
Yusuke Hiraki
Setsu Fujita
Arai Eiichi
Natsuo Tanaka
Naoko Kikuta
Junji Ohara
Fujii Love