Title:
沈殿シリカを調製するための新規な方法、新規な沈殿シリカおよび特にポリマーを強化するためのその使用
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017511788
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、シリケートが酸性化剤と反応されて沈殿シリカ懸濁液が得られ、前記沈殿シリカ懸濁液が濾過されて濾過ケーキが得られ、前記濾過ケーキが砕解操作にかけられ、砕解操作の後、乾燥工程が行われる、沈殿シリカを調製するための新規な方法において、少なくとも１つのポリカルボン酸が、砕解操作の間または後に濾過ケーキに添加されることを特徴とする方法に関する。また、本発明は、新規な沈殿シリカおよびその使用に関する。【選択図】図１
Inventors:
Bois Van, Cedric
Guy, Laurent
Plan, Eric
Ramili, Kirani
Guy, Laurent
Plan, Eric
Ramili, Kirani
Application Number:
JP2016554478A
Publication Date:
April 27, 2017
Filing Date:
February 26, 2015
Export Citation:
Assignee:
Rhodia Operations
International Classes:
C01B33/193; B60C1/00
Domestic Patent References:
| JP2008542163A | 2008-11-27 | |||
| JP2005500238A | 2005-01-06 |
Foreign References:
| WO2013110659A1 | 2013-08-01 |
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda/Kobayashi Patent Business Corporation