Title:
光学アイソレーションモジュール
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018533753
Kind Code:
A
Abstract:
フォトリソグラフィツール用の光学源は、第１の光ビーム及び第２の光ビームを放出するように構成された放射源であって、第１の光ビームは第１の波長を有し、第２の光ビームは第２の波長を有し、第１の波長と第２の波長は異なる、放射源と、それぞれ、第１の増幅光ビーム及び第２の増幅光ビームを生成するために、第１の光ビーム及び第２の光ビームを増幅するように構成された、増幅器と、放射源と増幅器との間の光学アイソレータであって、複数のダイクロイック光学要素、及び、２つのダイクロイック光学要素の間の光学変調器を含む、光学アイソレータと、を含む。【選択図】 図７
Inventors:
Das, Palash, Parisat
Tao, Jeong
Brown, daniel, john, william
Shafgans, Alexander, Anthony
Tao, Jeong
Brown, daniel, john, william
Shafgans, Alexander, Anthony
Application Number:
JP2018515544A
Publication Date:
November 15, 2018
Filing Date:
September 30, 2016
Export Citation:
Assignee:
AS M Netherlands B.V.
International Classes:
G03F7/20; G02B5/30; H05G2/00
Domestic Patent References:
| JP2015525475A | 2015-09-03 | |||
| JP2015525474A | 2015-09-03 | |||
| JP2005525687A | 2005-08-25 | |||
| JP2013065804A | 2013-04-11 |
Foreign References:
| WO2014192872A1 | 2014-12-04 |
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Akihiko Eguchi
Kazuhiko Naito
Toshifumi Onuki
Akihiko Eguchi
Kazuhiko Naito