Title:
高い酸化物除去速度を有するシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022553105
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、シャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）用途のための、化学的機械平坦化研磨（ＣＭＰ）組成物を提供する。ＣＭＰ組成物は、セリア被覆シリカ粒子などの研磨剤としてのセリア被覆シリカ粒子；２位、３位又は４位に、それぞれ１つのカルボン酸基、カルボン酸塩基、又はカルボン酸エステル基を有する、含窒素有機芳香族又はピリジン環分子からなる群から選択された化学添加物；複数のヒドロキシ官能基を有する非イオン性有機分子；及びそれらの組み合わせ；水溶性溶媒；及び任意に殺生物剤とｐＨ調整剤を含み、前記組成物は、２～１２、好ましくは３～１０、及びより好ましくは４～９のｐＨを有する。
Inventors:
Joseph Dee Rose
Hong Chun Chou
Xiao Posy
Krishna Pee Murella
Hong Chun Chou
Xiao Posy
Krishna Pee Murella
Application Number:
JP2022523997A
Publication Date:
December 21, 2022
Filing Date:
October 21, 2020
Export Citation:
Assignee:
Vertham Materials US, Limited Liability Company
International Classes:
C09K3/14; B24B37/00; C09G1/02; H01L21/304
Attorney, Agent or Firm:
Aoki Atsushi
Shinji Mihashi
Kenji Kimura
Naonori Koda
Jun Iwata
Shinji Mihashi
Kenji Kimura
Naonori Koda
Jun Iwata