Title:
パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5634115
Kind Code:
B2
Inventors:
榎本 雄一郎
上村 聡
樽谷 晋司
上村 聡
樽谷 晋司
Application Number:
JP2010105909A
Publication Date:
December 03, 2014
Filing Date:
April 30, 2010
Export Citation:
Assignee:
富士フイルム株式会社
International Classes:
G03F7/32; G03F7/004; G03F7/038; G03F7/039; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
Takamatsu 猛
Toshiyuki Ozawa
Hiromichi Hasegawa
Toshiyuki Ozawa
Hiromichi Hasegawa