Title:
キシリレンジアミン組成物及びポリアミド樹脂の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5700177
Kind Code:
B1
Abstract:
［１］キシリレンジアミンとビス（メチルベンジル）アミンとを含有するキシリレンジアミン組成物であって、ビス（メチルベンジル）アミンの含有量がキシリレンジアミン１００質量部に対し０．０００５〜０．１質量部であるキシリレンジアミン組成物、及び［２］キシリレンジアミンを含有するジアミン、ジカルボン酸、及び、該キシリレンジアミン１００質量部に対して０．０００５〜０．１質量部のビス（メチルベンジル）アミンを反応系に導入し、重縮合反応を行う工程を有する、ポリアミド樹脂の製造方法である。
Inventors:
Takehara Kenya
Shinohara Katsumi
Nakamura Yoshifumi
Gen Yamada
Atsushi Mitadera
Shinohara Katsumi
Nakamura Yoshifumi
Gen Yamada
Atsushi Mitadera
Application Number:
JP2014536055A
Publication Date:
April 15, 2015
Filing Date:
April 09, 2014
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
International Classes:
C08G69/26
Domestic Patent References:
| JP2011236285A | 2011-11-24 | |||
| JP2008050403A | 2008-03-06 |
Foreign References:
| WO2011030911A1 | 2011-03-17 |
Attorney, Agent or Firm:
Tamotsu Otani
Wataru Sasaki
Wataru Sasaki