Title:
シロキサザン化合物、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6655767
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】シリカ質膜成膜プロセスの時間を短縮させることができるシロキサザン化合物とそれを含む組成物の提供。【解決手段】特定の構造を有するシロキサザン化合物であって、Ｏ原子とＮ原子の総数に対する、Ｏ原子の比率が、５％以上２５％以下であり、かつ前記シロキサザン化合物をインバースゲートデカップリング法に基づく２９Ｓｉ−ＮＭＲにより得られるスペクトルにおいて、−２５ｐｐｍ〜−５５ｐｐｍに検出されるピークの面積に対する、−７５ｐｐｍ〜−９０ｐｐｍに検出されるピークの面積の比率が、４．０％以下である、シロキサザン化合物、およびそれを含む組成物。
Inventors:
Sataya Okamura
Naotaka Nakadan
Bertram, Vernickel
Rikio Ozaki
Nakamoto Naoko
Naotaka Nakadan
Bertram, Vernickel
Rikio Ozaki
Nakamoto Naoko
Application Number:
JP2019526277A
Publication Date:
February 26, 2020
Filing Date:
November 21, 2017
Export Citation:
Assignee:
Ridgefield Acquisition
International Classes:
C01B33/12; C08G77/54; C08L83/14; H01L21/316
Domestic Patent References:
| JP62195024A | ||||
| JP10194826A | ||||
| JP2004532318A |
Foreign References:
| WO2015119260A1 |
Attorney, Agent or Firm:
Hiroyuki Nagai
Yukitaka Nakamura
Satoru Asakura
Hideaki Maekawa
Endo Ayako
Yukitaka Nakamura
Satoru Asakura
Hideaki Maekawa
Endo Ayako