Title:
表面処理設備
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6851522
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】処理槽における処理液の流速が均一化され、且つ、乱流も生じ難い表面処理設備を提供すること。【解決手段】処理槽の処理液Ｌ中に被処理物を浸漬させて表面処理する表面処理設備において、処理槽は、被処理物が通過し、且つ処理液Ｌが一方向に流れる第１流路部２３と、第１流路部２３の処理液Ｌの流れと逆方向に処理液Ｌが流れる第２流路部２４とを備え、第１流路部２３と第２流路部２４との間に仕切り板３が設けられており、第１流路部２３の下流側端部と第２流路部２４の上流側端部とが連通し、第１流路部２３の上流側端部と第２流路部２４の下流側端部とが、第２流路部２４の処理液Ｌの流れる方向を第１流路部２３の処理液Ｌの流れる方向に反転させるＵターン部２７を介して連通し、第１流路部２３の処理液Ｌの流れる方向に沿って延びる整流板４が、Ｕターン部２７に設けられていることを特徴とする。【選択図】図１
Inventors:
Yasuhiko Sakota
Masayuki Goto
Satoru Sao
Toshiki Nagasawa
Masayuki Goto
Satoru Sao
Toshiki Nagasawa
Application Number:
JP2020048168A
Publication Date:
March 31, 2021
Filing Date:
March 18, 2020
Export Citation:
Assignee:
Atmosphere Co., Ltd.
International Classes:
C25D13/00; C25D13/24
Domestic Patent References:
| JP2019002032A | ||||
| JP2002206195A | ||||
| JP7018494A | ||||
| JP11131293A | ||||
| JP5085858U | ||||
| JP3001971U |
Foreign References:
| US20070166569 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent business corporation r&c