Title:
成膜方法及び成膜装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2006100953
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、液体原料を気化し、基板２上に堆積させて成膜する成膜装置１であって、前記基板２を内部に保持する成膜室３と、前記液体原料を前記成膜室３内に直接噴射する噴射弁４と、前記噴射弁４を周期的に開閉させることにより、前記液体原料を前記成膜室３内に直接噴射し気化して供給する供給時間と、前記液体原料を前記成膜室３内に供給しない供給停止時間とを交互に設けて制御し、前記液体原料を前記成膜室３内に間欠的に供給する制御装置１１とを備え、当該制御装置１１が、前記供給停止時間を、前記基板２上に堆積した前記液体原料の原子又は分子が泳動し、前記基板２上で反応副生成物が蒸発するための泳動・蒸発時間と同じかあるいはそれよりも長く制御していることを特徴とするものであり、緻密で不純物の少ない高品位な薄膜を生成することを目的とする。
Inventors:
Ishida Kozo
Koji Tominaga
Koichiro Matsuda
Tetsuo Shimizu
Jiro Senda
Motohiro Oshima
Yukiko Yoneda
Koji Tominaga
Koichiro Matsuda
Tetsuo Shimizu
Jiro Senda
Motohiro Oshima
Yukiko Yoneda
Application Number:
JP2007509206A
Publication Date:
September 04, 2008
Filing Date:
March 13, 2006
Export Citation:
Assignee:
HORIBA, Ltd.
HORIBA STEC Co., Ltd.
School corporation Doshisha
HORIBA STEC Co., Ltd.
School corporation Doshisha
International Classes:
C23C16/455; H01L21/31; H01L21/316
Attorney, Agent or Firm:
Ryuhei Nishimura