Title:
Ｔｉ膜の成膜方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2007123212
Kind Code:
A1
Abstract:
一対の平行平板電極として機能するシャワーヘッド（１０）および電極（８）を有するチャンバ（１）内に、間口径が０．１３μｍ以下および／またはアスペクト比が１０以上のホールを有するウエハＷを配置する。処理ガスとしてＴｉＣｌ４ガスおよびＨ２ガスおよびＡｒガスを導入しつつシャワーヘッド（１０）に高周波電源（３４）から高周波電力を供給してこれらの間にプラズマを形成する。そのプラズマにより処理ガスの反応を促進してウエハにＴｉ膜を成膜する。この際に、Ａｒガス流量を１６００ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）未満またはＡｒガス分圧を８１６．５４Ｐａ未満に制御して前記プラズマが形成された際の前記ホールの底部に到達するイオン量を低減しつつＴｉ膜を成膜する。
Inventors:
Yuki Iitaka
Satoshi Wakabayashi
Kenji Narishima
Shinya Okabe
Satoshi Wakabayashi
Kenji Narishima
Shinya Okabe
Application Number:
JP2008512169A
Publication Date:
September 03, 2009
Filing Date:
April 20, 2007
Export Citation:
Assignee:
東京エレクトロン株式会社
International Classes:
C23C16/14; H01L21/28; H01L21/285; H01L21/768
Attorney, Agent or Firm:
Hiroshi Takayama