Title:
反射型マスク用低膨張ガラス基板およびその加工方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2010071086
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、半導体製造工程のリソグラフィ工程に使用される反射型マスクの基材である低膨張ガラス基板であって、該低膨張ガラス基板の外周に沿って形成される側面のうち、互いに対向する位置関係にある２つの側面の平坦度が各々２５μｍ以下である、反射型マスク用低膨張ガラス基板に関する。
Inventors:
Kenji Okamura
Masafumi Ito
Hiroshi Kojima
Masafumi Ito
Hiroshi Kojima
Application Number:
JP2010542951A
Publication Date:
May 31, 2012
Filing Date:
December 11, 2009
Export Citation:
Assignee:
Asahi Glass Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/027; C03B20/00; C03C19/00; G03F1/22; G03F1/24
Attorney, Agent or Firm:
Nozomi Watanabe
Haruko Sanwa
Takemoto Yoichi
Haruko Sanwa
Takemoto Yoichi