Title:
光学素子
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2011001641
Kind Code:
A1
Abstract:
基板上(1101)に、格子凸部(1103)を第1の周期で配置した第1の帯状領域(A領域)及び格子凸部を設けない第2の帯状領域(B領域)を、第2の周期で配置し、第1の周期は、光が回折を生じ得ない大きさであり、第2の周期は、回折を生じ得る大きさであり、A及びB領域上に前記格子凸部の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する第1の膜を設け、第1及び第2の波長の光について、A及びB領域によって生じる回折の1次回折光の光量と0次回折光の光量との比率である第1の比率と第1及び第2の目標値との差を所定値以下とし、基板面からの最大高さが第1及び第2の波長の大きな方の波長以下となるように、偏光状態、第1の周期、A領域のデューティ比、前記格子凸部の高さ、屈折率、前記第1の膜の屈折率、A及びB領域の膜厚を定めた光学素子。
Inventors:
Kayoko Fujimura
Makoto Okada
Makoto Okada
Application Number:
JP2011502966A
Publication Date:
December 10, 2012
Filing Date:
June 24, 2010
Export Citation:
Assignee:
Nalux Co., Ltd.
International Classes:
G02B5/18; G11B7/135
Domestic Patent References:
JP2007219006A | 2007-08-30 | |||
JP2000292617A | 2000-10-20 | |||
JP2008257771A | 2008-10-23 | |||
JPH02205802A | 1990-08-15 | |||
JPH028802A | 1990-01-12 | |||
JP2008299084A | 2008-12-11 | |||
JP2008107394A | 2008-05-08 | |||
JP2005259235A | 2005-09-22 | |||
JP2005099099A | 2005-04-14 | |||
JPS62269104A | 1987-11-21 |
Attorney, Agent or Firm:
Naoya Fushimi
Previous Patent: Zn−Alめっき鉄線及びその製造方法
Next Patent: POLYTETRAFLUOROETHYLENE REALLY TWISTED YARN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
Next Patent: POLYTETRAFLUOROETHYLENE REALLY TWISTED YARN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME