Title:
基板、基板に対する露光方法、光配向処理方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2011090057
Kind Code:
A1
Abstract:
すべての露光対象領域に精度良く光エネルギを照射できる基板および露光方法を提供すること。光源５２１と、光源５２１が発する光エネルギが透過可能な透光パターン５２２１が形成されるマスク５２２とを備える複数の露光ユニット５２を有する露光装置５を用い、基板１と露光ユニット５２とを相対的に移動させながら基板１に対してマスク５２２に形成される透光パターン５２２１を通じて光エネルギを照射するとともに、マスク５２２があるサイズの表示領域１１ａと他のサイズの表示領域１１ｂとに跨る露光ユニット５２においては、基板１に形成されるアライメントパターン１２をマスク５２２の位置決めの制御の基準として用い、あるサイズの表示領域１１ａと他のサイズの表示領域１１ｂの両方に光エネルギを照射する。
Inventors:
Takahiro Hirako
Application Number:
JP2011550921A
Publication Date:
May 23, 2013
Filing Date:
January 19, 2011
Export Citation:
Assignee:
Sharp Corporation
International Classes:
G03F9/00; G02F1/13; G02F1/1337; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Noboru Ueno