Title:
光学活性１−ブロモ−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］エタンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2012011516
Kind Code:
A1
Abstract:
高い光学純度を有する１−ブロモ−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］エタンの製造方法であって、臭素化剤としてａ）ハロゲン化リン及び臭化水素の組み合わせ、ｂ）１，２−ジブロモ−１，１，２，２−テトラクロロエタン及び一般式（Ｉ）：Ｐ(Ｒ1)(Ｒ2)(Ｒ3)（式中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立にＣ6-10アリール基、Ｃ6-10アリールオキシ基、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ1-10アルコキシル基、Ｃ3-6シクロアルキル基、又はＣ3-6シクロアルコキシル基を示す）で表される有機リン化合物の組み合わせ、又はｃ）Ｎ−ブロモコハク酸イミド及びジアルキルスルフィドの組み合わせのいずれかを用いて光学活性１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］エタノールを臭素化する工程を含む方法。
Inventors:
Taichi Kusakabe
Kennosuke Matsuda
Mountain saki Koichi
Tsubaki Ogiya
Shibuya Kimiyuki
Kennosuke Matsuda
Mountain saki Koichi
Tsubaki Ogiya
Shibuya Kimiyuki
Application Number:
JP2012525419A
Publication Date:
September 09, 2013
Filing Date:
July 21, 2011
Export Citation:
Assignee:
Kowa Co., Ltd.
International Classes:
C07B53/00; C07C17/16; C07C22/08
Attorney, Agent or Firm:
Patent Service Corporation Patent Office Sykes
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