Title:
強磁性材スパッタリングターゲット
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2012081668
Kind Code:
A1
Abstract:
Ｃｒが２０ｍｏｌ％以下、Ｒｕが０．５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏである組成の金属からなるスパッタリングターゲットであって、このターゲットの組織が、金属素地（Ａ）と、前記（Ａ）の中に、Ｒｕを３５ｍｏｌ％以上含有するＣｏ−Ｒｕ合金相（Ｂ）を有していることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。漏洩磁束を向上させて、マグネトロンスパッタ装置で安定した放電が可能な強磁性材スパッタリングターゲットを得る。【選択図】なし
Inventors:
Arakawa Atsutoshi
Yuki Ikeda
Yuki Ikeda
Application Number:
JP2012525761A
Publication Date:
May 22, 2014
Filing Date:
December 15, 2011
Export Citation:
Assignee:
jx Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
International Classes:
C23C14/34; G11B5/64; G11B5/851
Attorney, Agent or Firm:
Isamu Ogoshi
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