Title:
磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016047578
Kind Code:
A1
Abstract:
Ｃ及び／又はＢＮを含有するＦｅＰｔ系焼結体スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのスパッタ面に対する垂直断面の研磨面においてＡｕＣｕ合金粒子が占める面積率が０．５％以上１５％以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。スパッタリング時に発生するパーティクルを低減して、磁気記録媒体の磁性薄膜を効率的に成膜できるスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。【選択図】図１
Inventors:
Shinichi Ogino
Application Number:
JP2015560124A
Publication Date:
April 27, 2017
Filing Date:
September 18, 2015
Export Citation:
Assignee:
JX Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
International Classes:
C23C14/34; C22C5/04; C22C30/02; C22C32/00; C22C38/00; G11B5/64; G11B5/851
Attorney, Agent or Firm:
Isamu Ogoshi
Ikki Kogoshi
Ikki Kogoshi
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