Title:
新規化合物及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017014284
Kind Code:
A1
Abstract:
下記式（１）で表される、化合物。【化１】（式（１）中、Ｒ１は、炭素数１〜６０の２ｎ価の基であり、Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、水酸基の水素原子がビニルフェニルメチル基で置換された基、下記式（Ａ）で表される群から選ばれる基、チオール基、又は水酸基であり、ここで、前記Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは、前記式（Ａ）で表される群から選ばれる基であり、ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数であり、ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０となることはなく、ｎは１〜４の整数であり、ｐ２〜ｐ５は、各々独立して、０〜２の整数である。）【化２】
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Inventors:
Echigo Masatoshi
Application Number:
JP2017529937A
Publication Date:
May 10, 2018
Filing Date:
July 21, 2016
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
International Classes:
C07C43/205; C07C69/54; C07C309/53; C08F16/12; C08F20/30; G03F7/004; G03F7/023; G03F7/039; G03F7/11; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JPS63146947A | 1988-06-18 | |||
| JP2010222280A | 2010-10-07 | |||
| JP2009241418A | 2009-10-22 | |||
| JP2010505787A | 2010-02-25 | |||
| JP6573217B2 | 2019-09-11 |
Foreign References:
| WO2013161576A1 | 2013-10-31 |
Other References:
上田 充 他: "化学増幅型レジスト", 有機合成化学, vol. 49, no. 5, JPN6020023704, 1991, pages 437 - 450, ISSN: 0004404170
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Kazuhiko Naito
Toshifumi Onuki
Kazuhiko Naito