Title:
真空処理装置および質量分析装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017085875
Kind Code:
A1
Abstract:
真空チャンバ−内で対象物を移動させるにあたって、アウトガスの発生を十分に抑制する。真空処理装置（１００）は、真空チャンバー（１）と、真空チャンバー（１）の内部に配置され、処理対象となる対象物が載置されるステージ（２）と、真空チャンバー（１）の内部に敷設され、ステージ（２）を案内する内部ガイドレール（３１）と、真空チャンバー（１）の側壁（１０２）に形成された貫通孔（１０３）と、一端においてステージ（２）と連結されるとともに、貫通孔（１０３）に挿通されて、他端が真空チャンバー（１）の外に配置された連結棒（４）と、連結棒（４）の他端に連結された可動部材（５）と、真空チャンバー（１）の外部に配置され、可動部材（５）を移動させる駆動機構（８）と、可動部材（５）と側壁（１０２）との間に配置され、真空チャンバー（１）の気密性を保持したままで、可動部材（５）の変位に追従するベローズ（６）と、を備える。
Inventors:
Matsushita Tomoyoshi
Application Number:
JP2017551499A
Publication Date:
August 09, 2018
Filing Date:
November 20, 2015
Export Citation:
Assignee:
SHIMADZU CORPORATION
International Classes:
H01J49/04; G01N27/62; H01J49/42
Domestic Patent References:
| JPH08162057A | 1996-06-21 | |||
| JPS63266744A | 1988-11-02 |
Attorney, Agent or Firm:
Kyoto International Patent Office
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