Title:
遮光装置、顕微鏡、及び観察方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017086287
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】像の質を確保しつつ、操作性の低下を抑制することができる遮光装置を提供する。【解決手段】遮光装置（１）は、ステージ（８）上の観察位置に配置された標本（Ｓ）を観察する顕微鏡（ＭＳ）に設けられ、標本へ入射する外光を遮光する状態と非遮光の状態とを切り替え可能であり、外光の遮光時、ステージの観察位置に配置された少なくとも標本の上方に位置決めされ、外光の非遮光時、ステージの観察位置に配置された少なくとも標本の上方を開放するように位置決めされる。
Inventors:
Fujikake Yosuke
Hideki Endo
Hideki Endo
Application Number:
JP2017551871A
Publication Date:
August 30, 2018
Filing Date:
November 15, 2016
Export Citation:
Assignee:
NIKON CORPORATION
International Classes:
G02B21/00; G02B21/36
Domestic Patent References:
| JP2010066344A | 2010-03-25 | |||
| JP2002207177A | 2002-07-26 | |||
| JP2006162771A | 2006-06-22 | |||
| JP2003185932A | 2003-07-03 | |||
| JPS50119483U | 1975-09-30 | |||
| JP2002287207A | 2002-10-03 | |||
| JP2017062309A | 2017-03-30 |
Foreign References:
| WO2006038439A1 | 2006-04-13 | |||
| WO2012102140A1 | 2012-08-02 |
Attorney, Agent or Firm:
Kazuya Nishi