Title:
粒子線治療システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017179091
Kind Code:
A1
Abstract:
照射対象である患者の患部に照射する粒子線を発生する粒子線発生装置（３０）と、照射対象にＸ線を照射してＸ線画像を撮像するＸ線撮像装置（５０）とを備えた粒子線治療システムであって、この粒子線治療システムは、照射対象に対して粒子線を出射できる治療ビーム出射可期間と、照射対象に対して粒子線を出射できない治療ビーム出射不可期間とを有し、Ｘ線撮像装置（５０）は、治療ビーム出射可期間の少なくとも一部を含む期間であるＸ線撮像期間に照射対象のＸ線画像の撮像フレームレートを第一のフレームレートとし、Ｘ線撮像期間以外の期間には、撮像フレームレートを前記第一のフレームレートよりも低下させるようにした。
Inventors:
Yusuke Sakamoto
Natsuko Otsuka
Takanori Kakuo
Natsuko Otsuka
Takanori Kakuo
Application Number:
JP2018511549A
Publication Date:
September 27, 2018
Filing Date:
April 11, 2016
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Electric Corporation
International Classes:
A61N5/10
Domestic Patent References:
| JP2010154874A | 2010-07-15 | |||
| JP2012501792A | 2012-01-26 | |||
| JP2013111406A | 2013-06-10 | |||
| JPH10328318A | 1998-12-15 |
Foreign References:
| WO2014010073A1 | 2014-01-16 |
Attorney, Agent or Firm:
Masuo Oiwa
Takenaka Ikuo
Keigo Murakami
Kenji Yoshizawa
Takenaka Ikuo
Keigo Murakami
Kenji Yoshizawa