Title:
研磨液、化学的機械的研磨方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017221660
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明の課題は、面内均一性に優れた被研磨体を与え得る研磨液を提供することである。また、上記研磨液を用いた化学的機械的研磨方法を提供することである。本発明の研磨液は、化学的機械的研磨に用いられる研磨液であって、砥粒と、有機酸と、水溶性高分子と、を含有し、下記式（１）〜式（３）をいずれも満たす。式（１）：１．５≦η１００ｒｐｍ／η１０００ｒｐｍ≦２０式（２）：１．２≦η１００ｒｐｍ／η５００ｒｐｍ≦１０式（３）：η１００ｒｐｍ／η１０００ｒｐｍ＞η１００ｒｐｍ／η５００ｒｐｍ式（１）〜式(３)中、η１００ｒｐｍは、４０％ＲＨ、２３℃において回転粘度計により回転数１００ｒｐｍで測定される上記研磨液の粘度であり、η５００ｒｐｍは、４０％ＲＨ、２３℃において回転粘度計により回転数５００ｒｐｍで測定される上記研磨液の粘度であり、η１０００ｒｐｍは、４０％ＲＨ、２３℃において回転粘度計により回転数１０００ｒｐｍで測定される上記研磨液の粘度である。
More Like This:
Inventors:
Tetsuya Uemura
Application Number:
JP2018523645A
Publication Date:
April 25, 2019
Filing Date:
June 01, 2017
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
C09K3/14; B24B37/00; C09G1/02; H01L21/304
Domestic Patent References:
| JP2010028081A | 2010-02-04 | |||
| JP2009105455A | 2009-05-14 | |||
| JP2008539581A | 2008-11-13 |
Attorney, Agent or Firm:
Hideaki Ito
Fumio Mitsuhashi
Fumio Mitsuhashi