Title:
ヒダントイン環を有する化合物を含むレジスト下層膜形成組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018012253
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】ヒダントイン環を有する化合物を含む、新規なレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式（１）で表される置換基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物、及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物。【化１】（式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ１は炭素原子数１乃至３のヒドロキシアルキル基、又は主鎖にエーテル結合を１つ又は２つ有する炭素原子数２乃至６のアルキル基を表す。）【選択図】図１
Inventors:
Yuu Ogata
Yuichi Goto
Masahisa Endo
Usui Yuki
Takahiro Kishioka
Yuichi Goto
Masahisa Endo
Usui Yuki
Takahiro Kishioka
Application Number:
JP2018527487A
Publication Date:
April 25, 2019
Filing Date:
June 23, 2017
Export Citation:
Assignee:
Nissan Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/11; C07D251/34; C07D403/14; G03F7/20; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
Hanabusa Patent and Trademark Office