Title:
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020066342
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、ＬＥＲ性能及び倒れ抑制能に優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、レジスト膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、一般式（１）で表される繰り返し単位を有する酸分解性樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、を含む。
Inventors:
Akihiro Kaneko
Kazunari Yagi
Takashi Kawashima
Kenyo Goto
Kazunari Yagi
Takashi Kawashima
Kenyo Goto
Application Number:
JP2020548134A
Publication Date:
September 16, 2021
Filing Date:
August 09, 2019
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
G03F7/039; C08F20/20; G03F7/038; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2018095851A | 2018-06-21 | |||
| JP2017214480A | 2017-12-07 | |||
| JP2000267280A | 2000-09-29 | |||
| JP2018205710A | 2018-12-27 | |||
| JPH0534877A | 1993-02-12 |
Foreign References:
| WO2017029891A1 | 2017-02-23 |
Attorney, Agent or Firm:
Hideaki Ito
Fumio Mitsuhashi
Fumio Mitsuhashi