Title:
真空処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020144891
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成された搬送経路に沿って複数の基板保持器を搬送する真空処理装置において、基板保持器の搬送時におけるダストの発生を抑制することができる技術を提供する。本発明は、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成された搬送経路を有し単一の真空雰囲気が形成される真空槽２内において、この搬送経路の搬送方向に対して外方側に設けられた第１の駆動部３６に組み付けられた垂れ防止部材３５を有する。垂れ防止部材３５の走行ローラ５４が、基板保持器搬送機構３の下方側に位置する復路側搬送部３３ｃの下方に設けられ第２の搬送方向Ｐ２に延びるガイド部１７に案内支持されて走行し、第１の駆動部３６が基板保持器１１の第１の被駆動部１２と接触して基板保持器１１を搬送経路に沿って第２の搬送方向Ｐ２へ駆動するように構成されている。
Inventors:
Taisei Takagi
Mizushima Yu
Toshiyuki Koizumi
Mizushima Yu
Toshiyuki Koizumi
Application Number:
JP2019567742A
Publication Date:
February 18, 2021
Filing Date:
September 02, 2019
Export Citation:
Assignee:
ULVAC, Inc.
International Classes:
C23C14/56; B65G17/16; C23C14/50; H01L21/677
Attorney, Agent or Firm:
Hideki Abe
Shigeo Ishijima
Shigeo Ishijima