Title:
癒着防止材
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2011121858
Kind Code:
A1
Abstract:
医療材料、特に癒着防止材として有用な、新規のカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）構造体を提供することのできる製造方法を提供し、更には、生体適合性、生体吸収性に優れ、且つ、機能発揮期間及び溶解期間がコントロールできるＣＭＣ構造体、あるいは、癒着防止効果と創傷治癒効果とを同時に発揮することのできるＣＭＣ構造体を提供する。前記構造体は、カルボキシメチルセルロースから実質的になり、酸型カルボキシメチルセルロースとアルカリ金属型カルボキシメチルセルロースとが混在した状態にある。前記製造方法は、アルカリ金属型（又は酸型）カルボキシメチルセルロースからなる構造体を外側から酸処理（又はアルカリ処理）し、前記酸処理（又はアルカリ処理）を、アルカリ金属型（又は酸型）カルボキシメチルセルロースが全て酸型（又はアルカリ金属型）カルボキシメチルセルロースに変換される前に終了することを特徴とする。
Inventors:
Xu Yoshio
Qingdao Motoho
Toshiki Inoue
Kiyotaka Hasegawa
Qingdao Motoho
Toshiki Inoue
Kiyotaka Hasegawa
Application Number:
JP2012508032A
Publication Date:
July 04, 2013
Filing Date:
December 09, 2010
Export Citation:
Assignee:
Hogi Medical Co., Ltd.
International Classes:
A61L31/00; A61L17/00; A61L27/00
Attorney, Agent or Firm:
Kenichi Morita
Kenjiro Yamaguchi
Kenjiro Yamaguchi
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