Title:
向上したスループット及びプロセス柔軟性を備えたＣＭＰ機械
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024026436
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】化学機械平坦化を実施するための装置が開示される。【解決手段】装置は、支持部であって、回転軸がこの支持部を貫いて延在する支持部を備える。当該装置は、第１部分及びこの第１部分に対向する第２部分を備える少なくとも１つの細長部材を備える。この第１部分は、上記支持部に回転可能に接続し、上記細長部材を、その支持部に対して単一方向に少なくとも約２７０°である回転角にわたって上記回転軸の周りに旋回させるように構成されている。当該装置は、上記第２部分に接続し、基板を保持し加工するように構成されているキャリアヘッドを備える。【選択図】図５
Inventors:
Troyan Daniel Ray
Application Number:
JP2023215247A
Publication Date:
February 28, 2024
Filing Date:
December 20, 2023
Export Citation:
Assignee:
Ax Technology LLC
International Classes:
B24B37/30; B24B37/005; B24B37/10; B24B37/12; B24B45/00; H01L21/304
Attorney, Agent or Firm:
Masao Sekiguchi
Takashi Onodera
Takashi Onodera
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