Title:
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024022558
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩等及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩又は該塩に由来する構造単位を有する樹脂によるカルボン酸発生剤及びレジスト組成物。TIFF2024022558000211.tif50154［式中、Ｒ１、Ｒ２は其々－Ｏ－Ｒ１０等；Ｒ１０は置換／非置換の脂環式炭化水素基、該基中の－ＣＨ2－の一つは－ＣＯ－又は式（Ｒ１０－１）で表される基に置き換わり、Ｒf1及びＲf2は其々Ｈ、Ｆ等；ｓは０～１０の整数；Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は其々ハロゲン原子等；Ａ１、Ａ２は其々炭化水素基］【選択図】なし
Inventors:
Wataru Nojo
Issei Kitamura
Koji Ichikawa
Issei Kitamura
Koji Ichikawa
Application Number:
JP2023126641A
Publication Date:
February 16, 2024
Filing Date:
August 02, 2023
Export Citation:
Assignee:
Sumitomo Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/004; C07C69/54; C07C69/712; C07D321/10; C08F12/24; C08F20/10; C09K3/00; G03F7/038; G03F7/039; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Shinju Global IP
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