Title:
化学増幅型レジスト組成物およびそれを用いたレジスト膜の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023538488
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】矩形性の高いレジストパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物の提供。【解決手段】特定の構造を有し、ｃＬｏｇＰが２．７６～３．３５であるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、および溶媒（Ｃ）を含んでなる化学増幅型レジスト組成物。
Inventors:
Chan, Louis
Hiroshi Incheon
Tomohide Katayama
Hiroshi Incheon
Tomohide Katayama
Application Number:
JP2023501874A
Publication Date:
September 08, 2023
Filing Date:
August 23, 2021
Export Citation:
Assignee:
Merck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung
International Classes:
G03F7/039; C07D221/14; C08F212/14; G03F7/004; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Manabu Miyajima
Hideaki Maekawa
Itsuko Endo
Hideaki Maekawa
Itsuko Endo
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