腐食防止剤を含む洗浄組成物

Japanese Patent JP2021531380

A

例えば、化学機械研磨（ＣＭＰ）後洗浄により、プロセス中のマイクロ電子デバイス基板を洗浄して、その表面から残留物を除去するための洗浄組成物および方法であって、洗浄組成物が、コバルト、銅または両方などの露出された金属とともに、誘電性または低ｋ誘電性材料を含む基板表面を洗浄するのに特に有効であることができ、洗浄組成物が、露出された金属の腐食を防止するための腐食防止剤を含む、洗浄組成物および方法。【選択図】図１

WO/2004/000986	USE OF TRANSITION METAL COMPLEXES WITH NITROGEN-CONTAINING POLYDENTATE LIGANDS AS A BLEACHING CATALYST AND BLEACHING AGENT COMPOSITION
JPS63258974	PAINT RELEASE COMPOSITION LOW IN TOXITY
JP6514288	Synergistic stain removal with a combination of new chelating agents

White, Daniela
Thomas, elizabeth
Liu, Chun
White, michael
Wan, Chao-Yu
Fly, donald

JP2021502808A

November 18, 2021

July 18, 2019

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Entegris Incorporated

C11D7/32; C11D7/26; C11D7/28; C11D7/34; C23G1/18; H01L21/304

JP2012021151A	2012-02-02
JP2011080042A	2011-04-21
JP2015079163A	2015-04-23
JP2007016232A	2007-01-25
JP2011516891A	2011-05-26
JP2006515933A	2006-06-08

WO2010073887A1	2010-07-01
WO2013187313A1	2013-12-19
US20120048295A1	2012-03-01
KR20190105701A	2019-09-18
WO2010026981A1	2010-03-11

Sonoda/Kobayashi Patent Business Corporation

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