Title:
フォトン伝播性を改質した付加製造用組成物、及びそれを使用した付加製造の方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023549135
Kind Code:
A
Abstract:
付加製造組成物は、３００ｎｍ～７００ｎｍの波長において、０Ａｕ～１．０Ａｕ未満の吸光度を有し、例えば０．００１Ａｕ～０．７Ａｕの吸光度を有する低吸収性粒子、又は非吸収性粒子を含む。かかる粒子及びウラン含有粒子を含む、付加製造法で使用されるスラリーは、硬化放射線に対して高い透過深さを有する。低吸収性粒子、又は非吸収性粒子を、製造中のプロダクトの後処理中に取り除くことは、製造中のプロダクトに多孔性を形成する細孔をもたらし、これが核分裂性気体を収容する容積を与え、及び／又は特定のヒートパイプ冷却液のウィッキングを高める。低吸収性粒子、又は非吸収性粒子は、例えばセラミック収率を向上させるための核分裂性物質、均質性を高めるための可燃性毒物若しくは安定剤、安定剤を局所的に運搬するための安定剤、又はこれらの組み合わせ等を用いて、特性を改良させるために機能化され得る。【選択図】図４
Inventors:
Sarasin, John Earl
Fisher, Benjamindi
Fisher, Benjamindi
Application Number:
JP2023527385A
Publication Date:
November 22, 2023
Filing Date:
November 02, 2021
Export Citation:
Assignee:
BWXT Advanced Technologies LLC
International Classes:
B22F9/00; B22F1/00; B22F1/05; B22F1/10; B22F10/12; B22F10/14; B22F10/28; B29C64/124; B29C64/314; B33Y10/00; B33Y70/10; C04B35/634
Attorney, Agent or Firm:
Norito Yamao
Haruhiko Ema
Masayuki Shikimi
Haruhiko Ema
Masayuki Shikimi