Login| Sign Up| Help| Contact|

Patent Searching and Data


Title:
組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2019225744
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明の課題は、大気中でも安定で、低温乾燥で溶媒除去可能な有機薄膜を形成することのできる組成物を提供することである。本発明の組成物は、金属アルコキシド又は金属カルボキシレート、及び配位子を含有する組成物であって、前記金属アルコキシド又は金属カルボキシレートが、フッ化アルコキシ基を有する、金属アルコキシド又は金属カルボキシレートの単量体若しくは重合体であり、前記配位子が、前記金属アルコキシド又は金属カルボキシレート中の金属原子に配位することのできるエーテル結合又はカルボニル基を有する単座配位子であることを特徴とする。

More Like This:
WO/2001/082863POLYACID/POLYALKYLENE OXIDE FOAMS AND GELS AND METHODS FOR THEIR DELIVERY
JP6084760A manufacturing method of a self-detergency member
Inventors:
Yukihiro Makishima
Hiromoto I
Hiroshi Kita
Application Number:
JP2020520397A
Publication Date:
June 03, 2021
Filing Date:
May 24, 2019
Export Citation:
Click for automatic bibliography generation   Help
Assignee:
Konica Minolta Co., Ltd.
International Classes:
C08L85/00; C08G79/14
Domestic Patent References:
JPH05163482A1993-06-29
JPH06340870A1994-12-13
JP2015225785A2015-12-14
JPH03133990A1991-06-07
JPH03255088A1991-11-13
JPH04362655A1992-12-15
JPH04232271A1992-08-20
JPH08104985A1996-04-23
Attorney, Agent or Firm:
Gwangyang International Patent Office



 
Previous Patent: 組成物

Next Patent: レンズユニットおよびカメラモジュール