Title:
誘導自己集合体パターン化のための欠陥低減方法および組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018503241
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、グラフォエピタキシ法を使用してピラーのアレイを形成するための２つの新規なプロセス、「二重（Ｄｕａｌ）コーティング法」および「単層（Ｓｉｎｇｌｅ）コーティング法」に関し、ピラーのアレイにおいて、ピラーの表面に疎水性ポリ（ビニルアリール）ブラシを形成することによってピラーの表面が修飾される。本発明はまた、一方の鎖末端で反応性官能基により終結されたポリ（ビニルアリール）疎水性ポリマーブラシ前駆体を含む組成物にも関し、ジブロックコポリマーが、耐エッチング性疎水性ブロックと高度にエッチング可能な親水性ブロックと熱酸発生剤溶剤とを含む。
Inventors:
Hong Seung Yoon
Naoki Matsumoto
Akiyama Yasushi
Kazunori Kurosawa
Miya Zaki Shinji
Lin Gwang Yang
Naoki Matsumoto
Akiyama Yasushi
Kazunori Kurosawa
Miya Zaki Shinji
Lin Gwang Yang
Application Number:
JP2017523323A
Publication Date:
February 01, 2018
Filing Date:
October 28, 2015
Export Citation:
Assignee:
AZED Electronic Materials (Luxembourg) Societe a Responsible Limite
International Classes:
H01L21/768; C08F293/00; C09D7/40; C09D125/04; C09D153/00
Attorney, Agent or Firm:
Mitsufumi Esaki
Blacksmith
Katsunori Uenishi
Ichiro Torayama
Blacksmith
Katsunori Uenishi
Ichiro Torayama