Title:
抗菌処置のための装置、システム及び方法、並びに当該装置の製造方法及びコンピュータプログラム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2019509809
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、体内手術を行う際の抗菌処置のための装置、システム及び方法、並びに当該装置の製造方法及びコンピュータプログラムに関する。体内での手術、特に低侵襲手術を行う際の、抗菌処置のための装置（１１）が提供される。これは、体内に部分的に挿入するための基体（１）、及び更に基体（１）の少なくとも一部分に設けられた少なくとも１つのプラズマ源（１２）を備える。プラズマ源（１２）は、少なくとも部分的に、特には全体が、誘電体（１０）で覆われた、少なくとも１つの高電圧電極（９）を備え、この高電圧電極（９）は、電圧を印加した場合に第２の電極と相互作用して、誘電体バリア放電によってプラズマを発生させるように作製される。【選択図】図２
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Inventors:
Weltman, Claus Dieter
Von Vodke, Thomas
Stever, Manfred
Horn, stefan
Von Vodke, Thomas
Stever, Manfred
Horn, stefan
Application Number:
JP2018548128A
Publication Date:
April 11, 2019
Filing Date:
March 16, 2017
Export Citation:
Assignee:
Leibniz-Institut Far Plasma Forsung Und Technology Ev
International Classes:
A61B18/00; A61B90/40
Attorney, Agent or Firm:
Toshiaki Morimoto