Title:
フィルタ、フィルタの製造方法、ろ過装置、薬液の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020009207
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、欠陥抑制性が優れる薬液を製造できるフィルタを提供する。また、フィルタの製造方法、ろ過装置、及び、薬液の製造方法を提供する。本発明のフィルタは、ろ過用のフィルタであって、フィルタ本体と、一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物、一般式（Ｘ）で表されるアルカン、並びに、一般式（ＸＩ）及び（ＸＩＩ）で表されるアルケン、からなる群から選択される第１有機化合物を１種以上と、を含有し、第１有機化合物の合計含有量が、フィルタの質量に対して、０．１０〜１００００質量ｐｐｔである。
Inventors:
Tetsuya Uemura
Application Number:
JP2020529055A
Publication Date:
July 15, 2021
Filing Date:
July 04, 2019
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
B01D67/00; B01D61/02; B01D61/14; B01D69/00; B01D69/08; B01D69/12; B01D71/06; B01D71/26; B01D71/36; B01D71/56; B01D71/82; G03F7/32
Domestic Patent References:
| JP2014219506A | 2014-11-20 | |||
| JP2010058062A | 2010-03-18 | |||
| JPS61149218A | 1986-07-07 | |||
| JP2016201426A | 2016-12-01 | |||
| JP2016073922A | 2016-05-12 |
Foreign References:
| WO2017155026A1 | 2017-09-14 |
Attorney, Agent or Firm:
Hideaki Ito
Fumio Mitsuhashi
Fumio Mitsuhashi