Title:
高スループット流体処理システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020520806
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、高スループット流体処理システムを提供する。高スループット流体処理システムは、前処理装置と、前処理装置に接続された少なくとも２つの流体濾過モジュールと、流体濾過モジュールに連結された後処理装置とを含む。また、流体濾過モジュールも提供する。流体濾過モジュールは、複数の同心電極と、複数の同心電極を結合するように配置された一対の絶縁素子と、を含む。電極は、様々な形状の複数の突起及び／又は窪みを有して構成される。更に、流体濾過モジュールは、複数の同心電極と絶縁素子を収容するように構成されたケーシングを含む。【選択図】図１
Inventors:
Saint Bandin, Saint-Giv
Ragnandan, Caltic
Ragnandan, Caltic
Application Number:
JP2020515316A
Publication Date:
July 16, 2020
Filing Date:
May 24, 2018
Export Citation:
Assignee:
OPENWATER.IN PVT. LTD.
International Classes:
B01J19/08; B01D43/00; C02F1/48
Domestic Patent References:
| JP2000061472A | 2000-02-29 | |||
| JPH07116667A | 1995-05-09 | |||
| JP2010064045A | 2010-03-25 | |||
| JP2001219167A | 2001-08-14 |
Foreign References:
| WO2001030706A1 | 2001-05-03 |
Attorney, Agent or Firm:
Hirata International Patent Office