Title:
マイクロ波と放射加熱とのハイブリッドの加熱炉システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015536434
Kind Code:
A
Abstract:
生産物及び材料への熱処理のための加熱炉システムが、開示されており、当該加熱炉システムは、コンピュータタブレットのためのタッチスクリーン、及び、太陽電池を製造するために使用されるシリコンウエハを処理するときにおいて特に有用である。当該システムは、被加工品へのマイクロ波と放射熱とのハイブリッドを採用することにより、被加工品への制御された加熱をもたらす。複数のサセプタが、加熱炉のチャンバに配置されている。複数のマイクロ波源が配列されていることで、チャンバ内においてマイクロ波放射をもたらすことにより、チャンバ内において被加工品を均一に加熱し、サセプタへの均一な加熱をもたらす。サセプタは、マイクロ波源により効果的にマイクロ波加熱されることにより、チャンバ内において、被加工品への均一な放射加熱をもたらす。
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Inventors:
Pira Medu, Ramesh Dee.
Application Number:
JP2015536819A
Publication Date:
December 21, 2015
Filing Date:
October 07, 2013
Export Citation:
Assignee:
Beatty International Inc.
International Classes:
F27B9/36; F27B9/06; F27D11/12; H05B6/74
Attorney, Agent or Firm:
Harakenzo world patent & trademark