Title:
ヒドロキシガス発生装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023551628
Kind Code:
A
Abstract:
ヒドロキシガスの改善された発生のための方法およびシステムが提示される。一実施形態では、水および陽極陰極対を収容するガス発生室を含むヒドロキシガス発生装置が提供される。陽極陰極対は、連続的に流れる給水を使用してヒドロキシガスを発生させるように構成され得る。ヒドロキシガス発生装置は、連続的に流れる給水の表面張力を低下させる水構造化装置も含み得る。水構造化装置はまた、連続的に流れる給水の分子を磁気的に配向させ得る。ヒドロキシガス発生装置は、ガス発生室からヒドロキシガスを抽出するためのガス分離システムをさらに含み得る。
Inventors:
Kessler, Chris
harkey, douglas, lee
harkey, douglas, lee
Application Number:
JP2023517297A
Publication Date:
December 12, 2023
Filing Date:
September 15, 2021
Export Citation:
Assignee:
MATTUR HOLDINGS,INC.
International Classes:
C25B9/00; A01G7/06; C01B3/02; C02F1/461; C02F1/48; C25B15/02
Attorney, Agent or Firm:
Nobuyoshi Wada
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