Title:
赤外線処理装置及び赤外線ヒーター
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5721897
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】使用時の発熱体とフィルタ部との温度差を大きくする。【解決手段】赤外線処理装置１０は、加熱されると赤外線を放射する発熱体を備えた発熱部２０と、所定の反射波長領域の赤外線を反射する反射特性を有し且つ発熱体からの赤外線の少なくとも一部を透過する第１透過層を有するフィルタ部５０と、を備え、発熱体が反射波長領域の赤外線を吸収可能であり、発熱体と第１透過層との間の第１空間４７が外部空間に開放されている赤外線ヒーター１０と、第１空間４７と直接には連通しておらず且つ発熱体から放射されフィルタ部５０を透過した後の赤外線により赤外線処理を行う空間である処理空間８１を形成する炉体８０と、を備えている。【選択図】図１
Inventors:
Takeshi Komaki
Taiki Kinnan
Yoshio Kondo
Taiki Kinnan
Yoshio Kondo
Application Number:
JP2014241192A
Publication Date:
May 20, 2015
Filing Date:
November 28, 2014
Export Citation:
Assignee:
Nippon Insulator Co., Ltd.
International Classes:
F26B3/30; F26B23/04; F27B9/24; F27B9/36; F27D11/02; H05B3/10; H05B3/62
Domestic Patent References:
| JPH09136055A | 1997-05-27 | |||
| JP2006261095A | 2006-09-28 | |||
| JP3194388U | 2014-11-20 |
Foreign References:
| WO2014168229A1 | 2014-10-16 | |||
| WO2014129072A1 | 2014-08-28 |
Attorney, Agent or Firm:
Aitec International Patent Office