Title:
アークチャンバ材料の混合物を用いるイオン注入システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022540503
Kind Code:
A
Abstract:
イオン種を生成するために使用される少なくとも１つのイオン化可能ガスを含むガスまたはガス混合物、および、２つ以上の異なるアークチャンバ材料を含むアークチャンバを含む、イオン注入のためのシステムおよび方法が説明される。システムを使用して、イオン種が、ライナーの組合せを伴うアークチャンバ内で生成され、１つまたは複数の所望のイオン種が、生成されたイオン種の中でより高いビーム電流を示し、イオン種の生成は、異なる材料の使用によって促進される。次に、基板への所望のイオン種の注入の改善が達成されることが可能である。さらに、システムは、システム動作中の金属堆積物の形成を最小化することができ、これにより、ソースライフを延ばし、システム性能の改善を推進する。【選択図】図６
Inventors:
Tan, Inn
Yedave, Sharad N.
Després, Joseph Earl.
Sweeney, Joseph Earl.
Bail, Oleg
Yedave, Sharad N.
Després, Joseph Earl.
Sweeney, Joseph Earl.
Bail, Oleg
Application Number:
JP2022502814A
Publication Date:
September 15, 2022
Filing Date:
June 17, 2020
Export Citation:
Assignee:
Entegris Incorporated
International Classes:
H01J37/08; H01J27/08; H01J37/317; H01L21/265; H05H1/48
Domestic Patent References:
| JP2014044886A | 2014-03-13 | |||
| JP2019515449A | 2019-06-06 | |||
| JP2007305485A | 2007-11-22 | |||
| JPH06223771A | 1994-08-12 |
Foreign References:
| CN208954933U | 2019-06-07 | |||
| US6583427B1 | 2003-06-24 |
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda & Kobayashi Patent Attorneys Corporation
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