Title:
複合基板の製造方法及び複合基板
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016088466
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】欠陥のないナノカーボン膜を安価に作製することが可能な複合基板を提供する。【解決手段】単結晶炭化珪素基板の表面からイオンを注入してイオン注入領域を形成し、上記単結晶炭化珪素基板のイオン注入した面とハンドル基板の主面とを貼り合わせた後、上記イオン注入領域で単結晶炭化珪素基板を剥離させて、ハンドル基板上に単結晶炭化珪素薄膜を転写させた複合基板の製造方法であって、上記単結晶炭化珪素基板及びハンドル基板の貼り合わせを行うそれぞれの面の表面粗さＲＭＳが１．００ｎｍ以下である。
Inventors:
Masatsugu Akiyama
Application Number:
JP2016562345A
Publication Date:
August 31, 2017
Filing Date:
October 22, 2015
Export Citation:
Assignee:
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/02; B32B18/00; C01B32/15; C04B35/577; H01L21/265; H01L27/12
Domestic Patent References:
| JP2009117533A | 2009-05-28 | |||
| JP2008062267A | 2008-03-21 | |||
| JP2012182201A | 2012-09-20 |
Foreign References:
| WO2014061337A1 | 2014-04-24 | |||
| WO2010050556A1 | 2010-05-06 |
Attorney, Agent or Firm:
Shigeki Orizaka