Title:
金属酸化物の成膜方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024012148
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】新規の金属酸化物の成膜方法を提供する。【解決手段】分解温度の高いプリカーサを用い、基板を３００度以上５００度以下に加熱しながら金属酸化物を成膜する。また、成膜中に、酸素を含む雰囲気下で、不純物除去処理として、プラズマ処理、マイクロ波処理、または加熱処理を行うことが好ましい。不純物除去処理は、紫外光を照射しながら行ってもよい。金属酸化物は、プリカーサの導入と酸化剤の導入を交互に繰り返し行うことで成膜される。例えば、プリカーサの導入を５回以上１０回以下行う毎に、不純物除去処理を行うことが好ましい。【選択図】図１
Inventors:
Shunpei Yamazaki
Tetsuya Kakebata
Sachiko Kawakami
Fumito Isaka
Yuji Eki
Tetsuya Kakebata
Sachiko Kawakami
Fumito Isaka
Yuji Eki
Application Number:
JP2023113637A
Publication Date:
January 25, 2024
Filing Date:
July 11, 2023
Export Citation:
Assignee:
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/205; C23C16/40; H01L29/786; H10B12/00; H10B41/70