フェニレン基含有共重合体の製造方法、膜形成材料、絶縁材料、光学材料、処理方法及びフェニレン基含有共重合体膜

Title:

フェニレン基含有共重合体の製造方法、膜形成材料、絶縁材料、光学材料、処理方法及びフェニレン基含有共重合体膜

Document Type and Number:

Japanese Patent JP4069553

Kind Code:

B2

Inventors:

Toshiyuki Akiike
Masayuki Takahashi
Kohei Goto

Application Number:

JP23039199A

Publication Date:

April 02, 2008

Filing Date:

August 17, 1999

Export Citation:

Assignee:

JSR CORPORATION

International Classes:

C08G61/12; H01L21/312; C08G61/02; C08J5/18; C08J7/00; C08L65/00; C09D165/00

Domestic Patent References:

Attorney, Agent or Firm:

Ippei Watanabe
Takeshi Higuchi

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