Title:
マルチミラーレーザ維持プラズマ光源システム及び方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024041915
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】マルチミラーレーザ維持プラズマ広帯域光源を開示する。【解決手段】光源は、ガスを収容するためのガス閉じ込め構造体を含み得る。光源は、ポンプ照明２０４を発生するように構成されたポンプ光源２０２と、ポンプ照明２０４の一部をガス内に向けさせ、それによりプラズマを維持するように構成された第１反射器要素２０６とを含む。第１反射器は、プラズマから放出された広帯域光の一部を集光するように構成されている。また、光源は、第１反射器の反対側に配置された１以上の追加の反射器要素２１４も含む。１以上の追加の反射器要素２１４は、吸収されなかったポンプ照明２０４、及び、第１反射器要素２０６により集光されなかった広帯域光を反射してプラズマに戻すように構成されている。【選択図】図２Ａ
Inventors:
Chen Qibiao
One Mark Si
One Mark Si
Application Number:
JP2024003432A
Publication Date:
March 27, 2024
Filing Date:
January 12, 2024
Export Citation:
Assignee:
KLA Corporation
International Classes:
H05H1/24; G03F7/20; H01J5/16; H01J61/16; H01J65/04; H05G2/00
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation YKI International Patent Office