オニウム塩、酸拡散制御剤、レジスト組成物、及びパターン形成方法

Japanese Patent JP2024026964

A

【課題】高感度且つ解像性に優れ、ラフネスや寸法均一性を改善し、レジストパターンの倒れを抑制することができるレジスト組成物に用いるオニウム塩を提供すること。【解決手段】下式（１）で表されるオニウム塩。TIFF2024026964000135.tif5193（式中、ＲＡＬＵは隣接する酸素原子と共に形成される、３級エーテル、３級カーボネート、又はアセタールのいずれかを表す。Ｉはヨウ素原子を表す。また、Ｒａは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～２０のヒドロカルビル基である。Ｚ＋は、オニウムカチオンを表す。）【選択図】なし

WO/2004/005276	PROCESS FOR PREPARATION OF 1,3-BENZODIOXOLE-2-SPIRO- CYCLOALKANE DERIVATIVES
JP2002515465	[Title of the Invention] A method for ortho-metallation of a carbocyclic aromatic derivative having at least one electron donating group.

Masahiro Fukushima

JP2022129569A

February 29, 2024

August 16, 2022

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Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

C07C65/21; C07C25/00; C07C65/26; C07C69/96; C07C211/63; C07C381/12; C07D327/08; C07D333/52; C07D333/76; C09K3/00; G03F7/004; G03F7/038; G03F7/039; G03F7/20

Mikio Yoshimiya
Toshihiro Kobayashi
Toru Otsuka

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